KR920702013A - 프라즈마를 이용한 기판처리방법과 그 장치 - Google Patents
프라즈마를 이용한 기판처리방법과 그 장치Info
- Publication number
- KR920702013A KR920702013A KR1019910701113A KR910701113A KR920702013A KR 920702013 A KR920702013 A KR 920702013A KR 1019910701113 A KR1019910701113 A KR 1019910701113A KR 910701113 A KR910701113 A KR 910701113A KR 920702013 A KR920702013 A KR 920702013A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- substrate
- magnetic field
- substrate processing
- plasma
- electric field
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/3266—Magnetic control means
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/32532—Electrodes
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 제1실시예에 따른 측면도, 제2도는 본 발명의 제2실시예에 따른 측면도, 제3도는 본 발명의 제3실시예에 따른 측면도.
Claims (11)
- 자속선이 기판에 평행으로 뻗으면서 자계를 발생시키기 위하 자계발생수단과, 기판과 자속의 자계선에 수직으로 뻗으면서 전계를 발생시키기 위한 전계발생수단을 구비하여구성되고, 상기 전계발생수단이 50KHz보다 낮은 주파수를 갖춘 것을 특징으로 하는 프라즈마를 이용한 기판처리장치.
- 제1항에 있어서, 상기 자계발생수단이 기판상의 인접영역을 한정하는 영구자석으로 이루어진 것을 특징으로 하는 프라즈마를 이용한 기판처리장치.
- 자속선이 기판에 평행으로 뻗으면서 자계를 발생시키기 위한 자계발생수단과, 기판과 자속의 자계선에 수직으로 뻗으면서 전계를 발생시키기 위한 전계발생수단을 구비하여구성되고, 상기 자계발생수단이 1개이상의 전자석으로 이루어진 것을 특징으로 하는 프라즈마를 이용한 기판처리장치.
- 제3항에 있어서, 상기 전자석이 상기 기판상의 인접영역을 한정하는 코어주위에 배열된 것을 특징으로 하는 프라즈마를 이용한 기판처리장치.
- 제3항에 있어서, 상기 전자석이 기판홀더에 배열된 것을 특징으로 하는 프라즈마를 이용한 기판처리장치.
- 자속선이 기판에 평행으로 뻗으면서 자계를 발생시키기 위한 자계발생수단과, 기판과 자속의 자계선에 수직으로 뻗으면서 전계를 발생시키기 위한 전계발생수단을 구비하여 구성되고, 상기 기판이 자계를 발생시키기 위한 1개 이상의 솔레노이드권선 주위의 인접영역에 수용되도록 된 것을 특징으로 하는 프라즈마를 이용한 기판처리장치.
- 제1항 내지 제6항중 어느 한항의 장치에 의해 이루어진 것을 특징으로 하는 프라즈마를 이용한 기판처리방법.
- 자계를 발생시키고, 전계를 발생시키며, 상기 전계와 자계가 기판의 가까운 위치에서 프라즈마를 홀딩하기 위해 함께 작용하도록 된것을 특징으로 하는 프라즈마를 이용한 기판처리방법.
- 제6항에 있어서, 상기 전계가 50KHz보다 낮은 교류주파수를 갖춘 것을 특징으로 하는 프라즈마를 이용한 기판처리방법.
- 제8항 또는 제9항에 있어서, 상기 자계가 솔레노이드를 이용해서 발생되어지도록 된 것을 특징으로 하는 프라즈마를 이용한 기판처리방법.
- 전계가 캐소드와 애노드사이에서 발생되고, 전압이 전원에 의해 캐소드와 애노드 양쪽에 공급되도록 된 것을 특징으로 하는 프라즈마를 이용한 기판처리방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL90.00093 | 1990-01-15 | ||
| NL9000093A NL9000093A (nl) | 1990-01-15 | 1990-01-15 | Werkwijze en inrichting voor het met een plasma behandelen van een substraat. |
| PCT/EP1991/000066 WO1991011018A1 (en) | 1990-01-15 | 1991-01-09 | Method and device for treating a substrate with a plasma |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR920702013A true KR920702013A (ko) | 1992-08-12 |
Family
ID=19856414
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019910701113A Withdrawn KR920702013A (ko) | 1990-01-15 | 1991-01-09 | 프라즈마를 이용한 기판처리방법과 그 장치 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0463137A1 (ko) |
| JP (1) | JPH04504931A (ko) |
| KR (1) | KR920702013A (ko) |
| NL (1) | NL9000093A (ko) |
| WO (1) | WO1991011018A1 (ko) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5308417A (en) * | 1991-09-12 | 1994-05-03 | Applied Materials, Inc. | Uniformity for magnetically enhanced plasma chambers |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4422896A (en) * | 1982-01-26 | 1983-12-27 | Materials Research Corporation | Magnetically enhanced plasma process and apparatus |
| JPS59232420A (ja) * | 1983-06-16 | 1984-12-27 | Hitachi Ltd | ドライエツチング装置 |
| US4572759A (en) * | 1984-12-26 | 1986-02-25 | Benzing Technology, Inc. | Troide plasma reactor with magnetic enhancement |
-
1990
- 1990-01-15 NL NL9000093A patent/NL9000093A/nl not_active Application Discontinuation
-
1991
- 1991-01-09 KR KR1019910701113A patent/KR920702013A/ko not_active Withdrawn
- 1991-01-09 EP EP91902159A patent/EP0463137A1/en not_active Withdrawn
- 1991-01-09 WO PCT/EP1991/000066 patent/WO1991011018A1/en not_active Ceased
- 1991-01-09 JP JP3502445A patent/JPH04504931A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| NL9000093A (nl) | 1991-08-01 |
| EP0463137A1 (en) | 1992-01-02 |
| WO1991011018A1 (en) | 1991-07-25 |
| JPH04504931A (ja) | 1992-08-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| AU594262B2 (en) | Permanent magnet variable reluctance generator | |
| DE60009349D1 (de) | Erregerschaltung mit elektronischem regler für eine supraleitende rotierende elektrische maschine | |
| ES2086307T3 (es) | Maquina electrica. | |
| KR910005341A (ko) | 자화가능 본체에 자화 영역을 형성하는 방법 및 장치 | |
| KR850004640A (ko) | 강자성 튜브의 전자기 점검 시스템 | |
| FR2551302B1 (fr) | Structure ferromagnetique d'une source d'ions creee par des aimants permanents et des solenoides | |
| DE69911740D1 (de) | Umwandler für fluidumenergie | |
| KR950034507A (ko) | 헬리콘파플라즈마처리방법 및 장치 | |
| KR900700229A (ko) | 와이어절단 방전 가공장치의 와이어 전극 공급장치 | |
| JP2007502183A (ja) | 核磁気共鳴装置に適用可能な磁場発生システム | |
| RU2131165C1 (ru) | Устройство для магнитной левитации | |
| KR870011656A (ko) | 편향요크 | |
| DE59001645D1 (de) | Entstoerdrosselanordnung zur bedaempfung von symmetrischen und von unsymmetrischen stoerstroemen. | |
| KR900017118A (ko) | 플라즈마 처리 장치 및 플라즈마 처리 방법 | |
| SE9100535L (sv) | Svetsreaktor foer tig-svetsutrustningar eller plasmaskaerutrustningar | |
| RU2034580C1 (ru) | Устройство для магнитотерапии | |
| RU1808610C (ru) | Магнитна плита | |
| KR960026135A (ko) | Ecr 플라즈마장치의 마그네트 구조 및 배열방법 | |
| EP0463137A1 (en) | Method and device for treating a substrate with a plasma | |
| KR930003188A (ko) | 3중 자기전자 유도 변압기 | |
| SU1184017A1 (ru) | Магнитное устройство с электроимпульсным управлением | |
| KR960703235A (ko) | 자기 차폐 (magnetic screen) | |
| KR840003832A (ko) | 전자 분사 제어방법 | |
| FR2392533A1 (fr) | Unite de pompage electromagnetique | |
| DE59707893D1 (de) | Induktives Bauelement mit abstimmbarem magnetischen Verhalten |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PA0105 | International application |
St.27 status event code: A-0-1-A10-A15-nap-PA0105 |
|
| R17-X000 | Change to representative recorded |
St.27 status event code: A-3-3-R10-R17-oth-X000 |
|
| PG1501 | Laying open of application |
St.27 status event code: A-1-1-Q10-Q12-nap-PG1501 |
|
| PC1203 | Withdrawal of no request for examination |
St.27 status event code: N-1-6-B10-B12-nap-PC1203 |
|
| WITN | Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid | ||
| P22-X000 | Classification modified |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P22-nap-X000 |
|
| P22-X000 | Classification modified |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P22-nap-X000 |