KR970077104A - 광로 조절 장치의 평탄화 방법 - Google Patents

광로 조절 장치의 평탄화 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR970077104A
KR970077104A KR1019960017800A KR19960017800A KR970077104A KR 970077104 A KR970077104 A KR 970077104A KR 1019960017800 A KR1019960017800 A KR 1019960017800A KR 19960017800 A KR19960017800 A KR 19960017800A KR 970077104 A KR970077104 A KR 970077104A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
optical path
insulating layer
path adjusting
hot plate
planarizing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
KR1019960017800A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100220681B1 (ko
Inventor
정재혁
Original Assignee
배순훈
대우전자 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 배순훈, 대우전자 주식회사 filed Critical 배순훈
Priority to KR1019960017800A priority Critical patent/KR100220681B1/ko
Priority to US08/716,761 priority patent/US5789264A/en
Priority to JP26684596A priority patent/JP3764540B2/ja
Publication of KR970077104A publication Critical patent/KR970077104A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100220681B1 publication Critical patent/KR100220681B1/ko
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/0816—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements
    • G02B26/0833—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements the reflecting element being a micromechanical device, e.g. a MEMS mirror, DMD
    • G02B26/0858—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements the reflecting element being a micromechanical device, e.g. a MEMS mirror, DMD the reflecting means being moved or deformed by piezoelectric means

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
  • Optical Integrated Circuits (AREA)

Abstract

본 발명은 광로 조절 장치의 모폴러지를 개선시킬 수 있도록 평탄화 표면을 제공하기 위한 방법에 관한 것으로서, 복수개의 패드가 형성된 구동 기판상에 제1절연층을 형성시키는 제1단계와; 상기 제1절연층상에 점성이 큰 폴리머(polymer)를 스핀 코팅(spin coating)하여 제2절연층을 형성시키는 제2단계와; 상기 스핀 코틴에 사용된 용제(SOLVENT)를 제거하기 위해 핫 플레이트 베이킹(HOT PLATE VAKING) 처리하는 제3단계와, 상기 제2절연층의 상부를 에치 백(etch back) 공정으로 평탄화시키는 제4단계로 이루어지며, 이와같이, 상기 광로 조절 장치의 구동부를 구성하는 변형부를 평탄화시키는 대신에 비구동부를 평탄화시키므로써, 광로 조절 장치의 성능을 저하시킴이 없이 액츄에이터의 모폴러지를 향상시킬 수 있다.

Description

광로 조절 장치의 평탄화 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도(가) 내지 (다)는 본 발명에 따라서 광로 조절 장치를 평탄화시키기 위한 공정을 순차적으로 나타낸 공정도.

Claims (6)

  1. 엑츄에이터의 모폴리지를 개선하기 위한 광로 조절 장치의 평탄화 방법에 있어서, 복수개의 패드가 형성된 구동 기판상에 제1절연층을 형성시키는 제1단계; 상기 제1절연층상에 점성이 60% 이상으로 큰 폴리머(polymer)를 스핀 코팅(spin coating)하여 제2절연층을 형성시키는 제2단계; 상기 스핀 코팅(SPIN COATING)에 사용된 용제(SOLVENT)를 제거하기 위한 핫 플레이트 베이킹(HOT PLATE VAKING) 처리하는 제3단계; 상기 제2절연층의 상부를 에치 백(etch back) 공정으로 평탄화시키는 제4단계로 이루어진 광로 조절 장치의 평탄화 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제2절연층은, 아쿠플로(ACCUFLO)로 형성되는 것을 특징으로 하는광로 조절 장치의 평탄화 방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 핫 플레이트 베이킹(HOT PLATE VAKING)은 150 내지 250℃에서 1분30초 내지 2분 30초 동안 가열하는 것을 특징으로 하는광로 조절 장치의 평탄화 방법.
  4. 제1항에 있어서, 상기 스핀 코팅(SPIN COATING)은, 그 용제로서 에틸 락테이트(ETHYL LACTATE)를 사용하는 것을 특징으로 하는광로 조절 장치의 평탄화 방법.
  5. 제1항에 있어서, 상기 에치 백(ETCH BACK) 공정은, 플라즈마 에칭(PLASMA ETCHING)인 것을 특징으로 하는 광로 조절 장치의 평탄화 방법.
  6. 제5항에 있어서, 상기 플라즈마 에칭(PLASMA ETCHING)은, CF4와 O2플라즈마를 이용하는 것을 특징으로 하는 광로 조절 장치의 평탄화 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019960017800A 1996-03-27 1996-05-23 광로 조절 장치의 평탄화 방법 Expired - Fee Related KR100220681B1 (ko)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019960017800A KR100220681B1 (ko) 1996-05-23 1996-05-23 광로 조절 장치의 평탄화 방법
US08/716,761 US5789264A (en) 1996-03-27 1996-09-23 Method for manufacturing a thin film actuated mirror having a flat light reflecting surface
JP26684596A JP3764540B2 (ja) 1996-03-27 1996-10-08 光投射システム用ｍ×ｎ個の薄膜アクチュエーテッドミラーアレイの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019960017800A KR100220681B1 (ko) 1996-05-23 1996-05-23 광로 조절 장치의 평탄화 방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR970077104A true KR970077104A (ko) 1997-12-12
KR100220681B1 KR100220681B1 (ko) 1999-09-15

Family

ID=19459711

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019960017800A Expired - Fee Related KR100220681B1 (ko) 1996-03-27 1996-05-23 광로 조절 장치의 평탄화 방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100220681B1 (ko)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100477365B1 (ko) * 2002-09-27 2005-03-22 주식회사 대우일렉트로닉스 원자힘 현미경의 팁 보호막 형성 방법
KR101656934B1 (ko) * 2014-07-29 2016-09-22 울산대학교 산학협력단 초음파 스핀 코터 및 이를 이용한 스핀 코팅 방법

Also Published As

Publication number Publication date
KR100220681B1 (ko) 1999-09-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5554567A (en) Method for improving adhesion to a spin-on-glass
US5807660A (en) Avoid photoresist lifting by post-oxide-dep plasma treatment
KR940022682A (ko) 절연막의 평탄화 방법
KR970052338A (ko) 반도체 소자의 제조방법
US6020265A (en) Method for forming a planar intermetal dielectric layer
KR970077104A (ko) 광로 조절 장치의 평탄화 방법
US6469361B2 (en) Semiconductor wafer
US5658821A (en) Method of improving uniformity of metal-to-poly capacitors composed by polysilicon oxide and avoiding device damage
KR910010644A (ko) 콘택홀의 패턴 형성 방법
KR970003512A (ko) 반도체 소자의 콘택홀 형성방법
KR0179137B1 (ko) 금속배선의 양극산화 방지부분의 구조 및 양극산화 방법
US6451451B2 (en) Mask, and method and apparatus for making it
KR100253392B1 (ko) 반도체 소자의 배선 형성 방법
KR980005592A (ko) 자기 정렬 콘택 홀 형성 방법
KR100239399B1 (ko) 반도체 소자의 제조 방법
JPH06216062A (ja) 半導体装置の製造方法
KR970052844A (ko) 반도체장치의 제조방법
KR960005865A (ko) 반도체 소자의 금속배선 형성방법
KR980005573A (ko) 반도체 소자의 금속층간 절연막 형성방법
KR960039285A (ko) 반도체 소자 제조방법
KR100206882B1 (ko) 반도체장치의 실린더형 캐패시터 제조방법
KR970003631A (ko) 반도체 소자의 층간절연막 형성방법
KR970063491A (ko) 반도체 장치의 배선 형성 방법
KR970052853A (ko) 반도체 소자의 제조방법
KR980005550A (ko) 반도체 소자의 콘택홀 형성 방법

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
PA0109 Patent application

St.27 status event code: A-0-1-A10-A12-nap-PA0109

PA0201 Request for examination

St.27 status event code: A-1-2-D10-D11-exm-PA0201

R17-X000 Change to representative recorded

St.27 status event code: A-3-3-R10-R17-oth-X000

PG1501 Laying open of application

St.27 status event code: A-1-1-Q10-Q12-nap-PG1501

E902 Notification of reason for refusal
PE0902 Notice of grounds for rejection

St.27 status event code: A-1-2-D10-D21-exm-PE0902

P11-X000 Amendment of application requested

St.27 status event code: A-2-2-P10-P11-nap-X000

P13-X000 Application amended

St.27 status event code: A-2-2-P10-P13-nap-X000

E701 Decision to grant or registration of patent right
PE0701 Decision of registration

St.27 status event code: A-1-2-D10-D22-exm-PE0701

GRNT Written decision to grant
PR0701 Registration of establishment

St.27 status event code: A-2-4-F10-F11-exm-PR0701

PR1002 Payment of registration fee

St.27 status event code: A-2-2-U10-U11-oth-PR1002

Fee payment year number: 1

PG1601 Publication of registration

St.27 status event code: A-4-4-Q10-Q13-nap-PG1601

R18-X000 Changes to party contact information recorded

St.27 status event code: A-5-5-R10-R18-oth-X000

R18-X000 Changes to party contact information recorded

St.27 status event code: A-5-5-R10-R18-oth-X000

PR1001 Payment of annual fee

St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001

Fee payment year number: 4

PR1001 Payment of annual fee

St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001

Fee payment year number: 5

PN2301 Change of applicant

St.27 status event code: A-5-5-R10-R11-asn-PN2301

PN2301 Change of applicant

St.27 status event code: A-5-5-R10-R14-asn-PN2301

PR1001 Payment of annual fee

St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001

Fee payment year number: 6

PR1001 Payment of annual fee

St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001

Fee payment year number: 7

PR1001 Payment of annual fee

St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001

Fee payment year number: 8

PR1001 Payment of annual fee

St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001

Fee payment year number: 9

PR1001 Payment of annual fee

St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001

Fee payment year number: 10

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20090601

Year of fee payment: 11

PR1001 Payment of annual fee

St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001

Fee payment year number: 11

LAPS Lapse due to unpaid annual fee
PC1903 Unpaid annual fee

St.27 status event code: A-4-4-U10-U13-oth-PC1903

Not in force date: 20100624

Payment event data comment text: Termination Category : DEFAULT_OF_REGISTRATION_FEE

PC1903 Unpaid annual fee

St.27 status event code: N-4-6-H10-H13-oth-PC1903

Ip right cessation event data comment text: Termination Category : DEFAULT_OF_REGISTRATION_FEE

Not in force date: 20100624

P22-X000 Classification modified

St.27 status event code: A-4-4-P10-P22-nap-X000

P22-X000 Classification modified

St.27 status event code: A-4-4-P10-P22-nap-X000