KR970077115A - 마이크로리소그래피의 향상된 광학 이미징을 위한 방법 및 시스템 - Google Patents

마이크로리소그래피의 향상된 광학 이미징을 위한 방법 및 시스템 Download PDF

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Abstract

향상된 마이크로리소그래픽 이미징 시스템(100)이 개시되어 있다. 이 시스템은 애퍼처(185)에 인접한, 제1이미지 평면과 실질적으로 일렬 정렬된 필터(183)을 포함한다. 필터는 레티클(160)을 통해서 제1이미지 평면으로 광원(110)에 의해서 투사된 이미지에 응답하여 형성된다. 향상된 마이크로리소그래피 이미징 시스템은 필터(183)에 의해 행해진 부가적인 필터링으로 인해, 종래 기술의 이미징 시스템들 보다 높은 해상도 및 초점의 심도를 갖는다. 본 발명에 따른 필터는 종래의 마이크로리소그래피 기술들을 사용하여, 용이하게 및 저 비용으로 제조될 수 있다. 본 발명에 따른 필터는 레티클(160) 내의 결함들을 검출 혹은 정정하는데 또한 사용될 수 있다.

Description

마이크로리소그래피의 향상된 광학 이미징을 위한 방법 및 시스템
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 따른 필터를 포함하는 스텝퍼의 간단한 사시도.

Claims (21)

  1. 레티클(reticle)을 통해서 광원에 의해 투사된 이미지에 응답하여 형성된 광학 필터.
  2. 제1항에 있어서, 상기 광학 필터는, 투명층, 및 상기 투명층의 선택된 부분들을 덮고 상기 투명층에 인접한 불투명층을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  3. 제1항에 있어서, 상기 레티클은 투명한 영역들의 제1패턴을 포함하고, 상기 필터는 투명한 영역들의 제2패턴을 포함하며, 상기 투명한 영역들의 제2패턴은 상기 투명한 영역들의 제1패턴의 푸리에 변환(Fourier transform)을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  4. 제1항에 있어서, 상기 래티클은 투명한 영역들의 제1패턴을 포함하고, 상기 필터는 투명한 영역들의 제2패턴을 포함하며, 상기 투명한 영역들의 제2패턴은 상기 투명한 영역들의 제1패턴의 선택적으로 변경된 푸리에변환을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  5. 광학 필터를 제조하기 위한 방법에 있어서, 감광성 플레이트(plate)을 레티클을 통해서 광원에 의해 투사된 이미지에 노출시키는 단계, 및 이미지에 노출되는 것에 감광성 플레이트가 응답하여 감광성 플레이트로부터 광학 필터를 생성하는 단계를 포함하는 광학 필터 제조 방법.
  6. 제5항에 있어서, 상기 과학 필터를 생성하는 단계는 감광성 플레이트가 이미지에 노출되는 것에 응답하여 감광성 플레이트로부터 감광성 층의 영역을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  7. 제6항에 있어서, 상기 광학 필터를 생성하는 단계는 감광성 플레이트로부터 감광성 층의 부가적인 영역을 제거하는 것에 의해 필터를 향상시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필터 제조 방법.
  8. 제6항에 있어서, 상기 광학 필터를 생성하는 단계는 감광성 층을 불투명하게 하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필터 제조 방법.
  9. 제6항에 있어서, 상기 광학 필터를 생성하는 단계는 상기 감광성 플레이트로부터 감광성 층에 의해 덮혀지지 않은 불투명층의 영역을 제거하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필터 제조 방법.
  10. 제9항에 있어서, 상기 광학 필터를 생성하는 단계는 상기 감광성 플레이트로부터 불투명층의 부가적인 영역을 제거하는 것에 의해 상기 필터를 향상시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필터 제조 방법.
  11. 제6항에 있어서, 상기 광학 필터를 생성하는 단계는 상기 감광성 플레이트로부터 투명층의 선택된 부분을 제거하는 것에 의해 사기 필터를 향상시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필터 제조 방법.
  12. 제6항에 있어서, 상기 광학 필터를 생성하는 단계는, 상기 감광성 플레이트 상에 제2감광성 층을 피착하는 단계, 상기 제2감광성 층을 상기 광원에 의해 투사된 제2이미지에 노출시키는 단계, 및 상기 감광성 플레이트가 상기 제2이미지에 노출되는 것에 응답하여 상기 감광성 플레이트로부터 상기 제2감광성 층의 영역을 제거하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필터 제조 방법.
  13. 제12항에 있어서, 상기 광학 필터를 생성하는 단계는 상기 제2감광성 층을 불투명하게 하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필터 제조 방법.
  14. 이미징 시스템(imaging system)에 있어서, 레티클, 및 제1이미지 평면에 실질적으로 평행이고 상기 제1이미지 평면과 일렬 정렬 되며, 상기 레티클을 통해서 상기 제1이미지 평면으로 광원에 의해 투사된 이미지에 응답하여 형성되는 필터를 포함하는 이미징 시스템.
  15. 제14항에 있어서, 상기 레티클은 투명한 영역들의 제1패턴을 포함하고, 상기 필터는 투명한 영역들의 제2패턴을 포함하며, 상기 제2패턴은 상기 제1패턴의 푸리에 변환을 포함하는 것을 특징으로 하는 이미징 시스템.
  16. 제14항에 있어서, 상기 레티클은 투명한 영역들의 제1패턴을 포함하고, 상기 필터는 투명한 영역들의 제2패턴을 포함하며, 상기 제2패턴은 상기 제1패턴의 선택적으로 변경된 푸리에 변환을 포함하는 것을 특징으로 하는 이미징 시스템.
  17. 제14항에 있어서, 상기 시스템은 복수의 렌즈들을 더 포함하고, 상기 제1이미지 평면은 상기 복수의 렌즈들중 선택된 두 개 사이에 위치되는 것을 특징으로 하는 이미징 시스템.
  18. 제14항에 있어서, 상기 필터는 투명층 및 불투명층을 포함하고, 상기 불투명층은 상기 레티클을 통해서 상기 제1이미지 평면으로 광원에 의해 투사된 이미지에 응답하여 상기 투명층의 선택된 부분들을 덮는 것을 특징으로 하는 이미징 시스템.
  19. 제14항에 있어서, 상기 레티클은 위상-시프팅 레티클(phase-shifting reticle)인 것을 특징으로 하는 이미징 시스템.
  20. 제14항에 있어서, 상기 시스템은 웨이퍼를 위치시키기 위해 이동가능한 스테이지(stage)를 더 포함하고, 상기 필터는 상기 레티클과 상기 이동 가능한 스테이지 사이에 위치되는 것을 특징으로 하는 이미징 시스템.
  21. 제14항에 있어서, 상기 레티클의 선택된 부분을 통해서 광을 투사하기 위해 이동가능한 광원 메카니즘(mechanism)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 이미징 시스템.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019970017697A 1996-05-08 1997-05-08 마이크로리소그래피의 향상된 광학 이미징을 위한 방법 및 시스템 Withdrawn KR970077115A (ko)

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