KR970077129A - 반도체 가스공급 시스템 - Google Patents

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KR970077129A
KR970077129A KR1019960016220A KR19960016220A KR970077129A KR 970077129 A KR970077129 A KR 970077129A KR 1019960016220 A KR1019960016220 A KR 1019960016220A KR 19960016220 A KR19960016220 A KR 19960016220A KR 970077129 A KR970077129 A KR 970077129A
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김회재
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김광호
삼성전자 주식회사
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    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P72/00Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
    • H10P72/04Apparatus for manufacture or treatment
    • H10P72/0402Apparatus for fluid treatment

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  • Pipeline Systems (AREA)
  • Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)

Abstract

가스공급원에서 진공챔버에 공급되는 가스의 양 및 흐름을 단속하는 밸브의 구조를 개선하는 반도체 가스공급 시스템에 관한 것이다.
본 발명은, 가스공급원에서 공급되는 가스가 에어밸브 및 니들밸브를 통과하여 진공챔버에 공급되도록 구성된 반도체 가스공급 시스템에 있어서, 상기 에어밸브는 에어공급원에서 공급되는 에어가 소용량의 솔레노이드 밸브를 통과하여 공급됨으로서 개폐동작을 수행함을 특징으로 한다.
따라서, 진공챔버에 공급되는 가스를 용이하에 제어하여 수율이 향상되는 효과가 있다.

Description

반도체 가스공급 시스템
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 따른 반도체 가스공급 시스템의 일실시예를 나타내는 도면이다.

Claims (3)

  1. 가스공급원에서 공급되는 가스가 에어밸브 및 니들밸브를 통과하여 진공챔버에 공급되도록 구성된 반도체 가스공급 시스템에 있어서, 상기 에어밸브는 에어공급원에서 공급되는 에어가 소용량의 솔레노이드 밸브를 통과하여 공급됨으로서 개폐동작을 수행함을 특징으로 하는 반도체 가스공급 시스템.
  2. 제1항에 있어서, 상기 니들밸브는 소형으로서 표면에는 상기 가스의 흐름량을 나타내는 눈금장치가 부착됨을 특징으로 하는 상기 반도체 가스공급 시스템.
  3. 제1항에 있어서, 상기 에어밸브의 상단에는 스티커가 부참됨을 특징으로 하는 상기 반도체 가스공급 시스템.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019960016220A 1996-05-15 1996-05-15 반도체 가스공급 시스템 Withdrawn KR970077129A (ko)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100528566B1 (ko) * 2002-07-04 2005-11-15 주성엔지니어링(주) 증착 공정용 가스 분사시스템

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR100528566B1 (ko) * 2002-07-04 2005-11-15 주성엔지니어링(주) 증착 공정용 가스 분사시스템

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