KR970077159A - 반도체 저압화학기상증착장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 반도체 저압화학기상증착장치에 관한 것으로, 종래에는 증착공정을 진행하기 위하여 웨이퍼가 수납된 보트를 내, 외측튜브의 내부로 이동시 웨이퍼에 산화막이 발생하여 실리콘 막의 질이 저하되는 문제점이 있었다. 본 발명 반도체 저압화학기상증착장치는 내, 외측튜브의 하부에 튜브셔터(TUBE SHUTTER)를 복개가능하도록 설치하여 내, 외측튜브의 내부에 존재하는 잔류산소 또는 습기 등을 제거하고, 내,외측튜브의 하부에는 튜브셔터, 보트, 플랜지를 감싸도록 진공챔버를 설치하여 펌핑수단으로 진공챔버의 내부에 존재하는 잔류산소 또는 습기 등을 제거할 수 있도록 함으로서, 웨이퍼의 산화막 증착을 방지하게되어 산화막 증착으로 인한 웨이퍼의 품질저하를 방지하는 효과가 있다.

Description

반도체 저압화학기상증착장치

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

제2도는 본 발명 반도체 저압화학기상증착장치의 구성을 보인 개략구성도.

Claims (3)

1. 내,외측튜브의 하면에 복개가능하도록 설치되어 내,외측튜브의 내부를 진공상태로 유지하기 위한 튜브셔터와, 상기 내, 외측튜브의 하방으로 설치되어 튜브셔터, 보트, 플랜지를 감싸도록 설치하기 위한 진공챔버와, 상기 진공 챔버의 내부를 진공상태로 유지하기 위한 펌핑수단을 포함하여서 구성된 것을 특징으로 하는 반도체 저압화학기상증착장치.
2. 제1항에 있어서, 상기 펌핑수단은 상기 진공챔버의 공기를 외부로 펑핑하기 위한 진공펌프와, 상기 진공챔버와 진공펌프를 연결하는 배기라인과, 상기 진공챔버의 진공상태를 측정하기 위한 진공측정기와, 상기 배기라인을 통과하는 공기의 흐름을 열거나 닫기 위한 게이트 밸브를 구성된 것을 특징으로 하는 반도체 저압화학기상증착장치.
3. 제1항에 있어서, 상기 내,외측튜브에 연결된 배기라인과 상기 진공챔버에 연결된 배기라인을 연결하는 연결라인을 설치하고, 그 연결라인 상에 배기시 내,외측튜브와 진공챔버의 내부에 잔류하는 원소의 양을 측정하기 위한 잔류원소 분석기를 설치한 것을 특징으로 하는 반도체 저압화학기상증착장치.

   ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.