KR970077301A - 기판 폴리싱 장치 - Google Patents

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KR970077301A
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polishing
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parallel
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KR1019970016955A
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Inventor
충난 쳉
로버트 디. 톨레스
Original Assignee
조셉 제이. 스위니
어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
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Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)

Abstract

화학 기계적 폴리싱 장치는 복수의 다각형 돌출부를 한정하는 복수의 홈이 제공되어 있는 폴리싱면을 갖는 플래튼을 포함한다. 상기 홈들은 폴리싱 면의 전체 구역에 걸쳐서 균일하게 이격되어 있다. 또한, 상기 장치는 상기 기판을 폴리싱면에 고정하는 캐리어 헤드도 포함한다.

Description

기판 폴리싱 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제4도는 캐리어 헤드의 개략적인 횡단면도.

Claims (27)

  1. 복수의 다각형 돌출부를 한정하는 복수의 홈들을 갖는 폴리싱면을 가지며 상기 폴리싱면의 전체 구역에 걸쳐서 균일하게 이격되어 있는 플래튼, 및 상기 폴리싱면에 대해 기판을 고정하는 캐리어를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 폴리싱 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 복수의 홈들은 복수의 제1평행홈 및 상기 복수의 제1평행홈과 상호작용하는 복수의 제2평행홈을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 폴리싱 장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 복수의 제1평행홈은 상기 복수의 제2평행홈에 수직인 것을 특징으로 하는 기판 폴리싱 장치.
  4. 제3항에 있어서, 상기 복수의 제1 및 제2평행홈 내부의 상기 홈들은 약 0.0381 내지 1.27㎝(0.015 내지 0.50인치)의 폭을 가지며 약 0.1016 내지 0.4445㎝(0.040 내지 0.175인치)로 이격되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 폴리싱 장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 홈들은 정사각형 횡단면을 갖는 것을 특징으로 하는 기판 폴리싱 장치.
  6. 제4항에 있어서, 상기 복수의 제1 및 제2평행홈 내부의 상기 홈들은 약 0.04572㎝(0.018인치)의 폭을 가지며 약 0.1524㎝(0.060인치)로 이격되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 폴리싱 장치.
  7. 제3항에 있어서, 상기 복수의 제1 및 제2평행홈 내부의 상기 홈들은 약 0.0381 내지 1.27㎝(0.015내지 0.05인치)의 깊이를 갖는 것을 특징으로 하는 기판 폴리싱 장치.
  8. 제7항에 있어서, 상기 복수의 제1 및 제2평행홈 내부의 상기 홈들은 약 0.0635㎝(0.025인치)의 깊이를 갖는 것을 특징으로 하는 기판 폴리싱 장치.
  9. 제1항에 있어서, 상기 홈들은 상기 폴리싱 표면의 전체 표면적중 약 30내지 75%를 점유하는 것을 특징으로 하는 기판 폴리싱 장치.
  10. 제9항에 있어서, 상기 홈들은 상기 폴리싱 표면의 전체 표면적중 약 50%를 점유하는 것을 특징으로 하는 기판 폴리싱 장치.
  11. 제1항에 있어서, 상기 폴리싱 표면은 폴리우레탄인 것을 특징으로 하는 기판 폴리싱 장치.
  12. 제1항에 있어서, 상기 폴리싱 면에 슬러리를 분배하기 위한 공급 라인을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 폴리싱 장치.
  13. 상면을 갖는 플래튼과, 상기 플래튼에 연결된 회전가능한 구동축과 상기 플래튼을 회전시키는 구동모터, 및 상기 플래튼의 상면에 부착되며, 복수의 다각형 돌출부를 한정하고 상기 폴리싱면의 전체 구역에 걸쳐서 균일하게 이격되어 있는 복수의 홈이 제공되어 있는 상면을 구비한 폴리싱 패드를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판을 폴리싱하기 위한 화학 기계적 폴리싱 장치.
  14. 제13항에 있어서, 상기 복수의 홈들은 복수의 제1평행홈 및 상기 복수의 제1평행홈과 상호작용하는 복수의 제2평행홈을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판을 폴리싱하기 위한 화학 기계적 폴리싱 장치.
  15. 제14항에 있어서, 상기 복수의 제1평행홈은 상기 복수의 제2평행홈에 수직인 것을 특징으로 하는 기판을 폴리싱하기 위한 화학 기계적 폴리싱 장치.
  16. 제14항에 있어서, 상기 복수의 제1 및 제2평행홈 내부의 상기 홈들은 약0.0381 내지 1.27㎝(0.015 내지 0.50인치)의 폭을 가지며 약 0.1016 내지 0.4445㎝(0.040 내지 0.175인치)로 이격되어 있는 것을 특징으로 하는 기판을 폴리싱하기 위한 화학 기계적 폴리싱 장치.
  17. 제16항에 있어서, 상기 복수의 제1및 제2평행홈 내부의 상기 홈들은 약 0.04572㎝(0.018인치)의 폭을 가지며 약 0.1524㎝(0.060인치)로 이격되어 있는 것을 특징으로 하는 기판을 폴리싱하기 위한 화학 기계적 폴리싱 장치.
  18. 제16항에 있어서, 상기 복수의 제1 및 제2평행홈 내부의 상기 홈들은 약 0.0381 내지 1.27㎝(0.015 내지 0.50인치)의 깊이를 갖는 것을 특징으로 하는 기판을 폴리싱하기 위한 화학 기계적 폴리싱 장치.
  19. 제18항에 있어서, 상기 복수의 제1 및 제2평행홈 내부의 상기 홈들은 약 0.0635㎝(0.025인치)의 깊이를 갖는 것을 특징으로 하는 기판을 폴리싱하기 위한 화학 기계적 폴리싱 장치.
  20. 제13항에 있어서, 상기 홈들은 상기 폴리싱 표면의 전체 표면적중 약 30 내지 75%를 점유하는 것을 특징으로 하는 기판을 폴리싱하기 위한 화학 기계적 폴리싱 장치.
  21. 제20항에 있어서, 상기 홈들은 상기 폴리싱 표면의 전체 표면적중 약 50%를 점유하는 것을 특징으로 하는 기판을 폴리싱하기 위한 화학 기계적 폴리싱 장치.
  22. 제16항에 있어서, 상기 홈들은 장방형 횡단면을 갖는 것을 특징으로 하는 기판을 폴리싱하기 위한 화학 기계적 폴리싱 장치.
  23. 상면을 갖는 플래튼, 및 상기 플래튼의 상면에 부착되며, 복수의 다각형 돌출부를 한정하고 상기 폴리싱면의 전체 구역에 걸쳐서 균일하게 이격되어 있는 복수의 홈이 제공되어 있는 상면을 구비한 폴리싱 패드를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판을 폴리싱하기 위한 장치.
  24. 복수의 다각형 돌출부를 한정하며 복수의 제1평행홈과 상기 복수의 제1평행홈과 교차하는 복수의 제2평행홈을 갖는 복수의 홈들이 제공되어 있는 상부 폴리싱면을 갖는 폴리싱 패드를 포함하며, 상기 복수의 제1 및 제2평행홈 내의 홈들은 상기 폴리싱 면의 전체구역에 걸쳐서 균일하게 이격되어 있는 것을 특징으로 하는 화학 기계적 폴리싱 장치내의 기판을 폴리싱하기 위한 장치.
  25. 제24항에 있어서, 상기 복수의 제1 및 제2평행홈 내에 있는 상기 홈들은 거의 평행하며, 상기 복수의 제1평햄홈은 상기 복수의 제2평행홈과 수직인 것을 특징으로 하는 화학 기계적 폴리싱 장치내의 기판을 폴리싱하기 위한 장치.
  26. 복수의 제1다각형 돌출부, 복수의 제2다각형 돌출부 및 이들 사이에 배열되는 홈 영역이 제공되어 있는 폴리싱 면을 구비한 플래튼, 및 상기 폴리싱 면에 기판을 고정하는데 사용되는 캐리어 헤드를 포함하며, 상기 복수의 제1다각형 돌출부는 폴리싱 공정중 기판의 엣지부분과 접촉하는 폴리싱 면의 제1반경부에 위치되며, 상기 복수의 제2다각형 돌출부는 폴리싱 공정중 기판의 엣지부분과 접촉하지 않는 폴리싱 면의 제2반경부에 위치되며, 상기 제1반경은 제2반경보다 작으며, 상기 홈 영역은 복수의 제1다각형 돌출부가 복수의 제2홈 영역과 거의 무관하게 작용하게 함으로써 상기 기판의 엣지부분에서 오버 폴리싱을 감소시키는 것을 특징으로 하는 기판 폴리싱 장치.
  27. 폴리싱면을 구비한 플래튼과 상기 폴리싱 면에 기판을 고정하기 위한 캐리어 헤드를 포함하며, 상기 폴리싱 면은 폴리싱중 상기 기판의 엣지부와 대향하도록 상기 포리싱 면의 원주위 주변에 균일하게 이격된 복수의 다각형 돌출부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 폴리싱 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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