LT6291B - Polimerinių medžiagų paviršiaus apsaugos, panaudojant nanokristalinių oksidų dangas, būdas - Google Patents
Polimerinių medžiagų paviršiaus apsaugos, panaudojant nanokristalinių oksidų dangas, būdas Download PDFInfo
- Publication number
- LT6291B LT6291B LT2014510A LT2014510A LT6291B LT 6291 B LT6291 B LT 6291B LT 2014510 A LT2014510 A LT 2014510A LT 2014510 A LT2014510 A LT 2014510A LT 6291 B LT6291 B LT 6291B
- Authority
- LT
- Lithuania
- Prior art keywords
- coatings
- plasma
- eps
- magnetron
- nanocrystalline oxide
- Prior art date
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 39
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 33
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 28
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 9
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract description 6
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims abstract description 4
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 claims abstract description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims abstract 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims abstract 2
- 239000004794 expanded polystyrene Substances 0.000 claims description 14
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 12
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 7
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 5
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 4
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 2
- 239000011324 bead Substances 0.000 claims 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims 2
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 claims 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 abstract description 4
- 238000000678 plasma activation Methods 0.000 abstract description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 239000006260 foam Substances 0.000 abstract description 2
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 abstract description 2
- 238000001994 activation Methods 0.000 description 9
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 9
- 229920006327 polystyrene foam Polymers 0.000 description 4
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 3
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 2
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 2
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003082 TiO2-SiO2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 239000004068 calcium phosphate ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 230000009189 diving Effects 0.000 description 1
- 235000020673 eicosapentaenoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000004710 electron pair approximation Methods 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 235000013305 food Nutrition 0.000 description 1
- 238000011221 initial treatment Methods 0.000 description 1
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 1
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 244000005700 microbiome Species 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- -1 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 230000003334 potential effect Effects 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
Abstract
Išradimas skirtas polimerinių medžiagų apsaugai, panaudojant nanokristalinių oksidų dangas. Šios dangos yra užnešamos ant suformuotų EPS plokščių gaminių paviršių, panaudojant plazminio aktyvavimo, magnetroninio garinimo ir paviršinių sluoksnių oksidacijos plazmoje technologijas. Gaunamos dangos pasižymi pagerintu atsparumu tiesioginiam liepsnos poveikiui ir savaiminio nusivalymo savybėmis. Gaunamos dangos yra hidrofobinės. Norint gauti hidrofilines dangas, proceso metu ant paviršiaus užnešami Si ar Ti ar Si/Ti klasteriai, kurie vėliau visiškai oksiduojami deguonies plazmoje.
Description
TECHNIKOS SRITIS Išradimas skirtas sukurti nanokristalines plonasluoksnes oksido dangas, skirtas polimerinių medžiagų (tame tarpe polistireninis putplastis (EPS)) paviršių apsaugai nuo išorinio poveikio ir darbinių savybių pagerinimui.
TECHNIKOS LYGIS
Polimerinių medžiagų (EPS) paviršiuje suformuotos nanodangos gali pakeisti tam tikras paviršines savybes. Dažniausiai šios savybės keičiamos tam, kad pagerintų medžiagos atsparumą liepsnos poveikiui, antibakterines savybes, kietumą, atsparumą nusidėvėjimui, išvaizdos pokyčiui irt.t. Šiuo metu pasaulyje egzistuojantys pagrindiniai nanodangų formavimo ant polimerinių medžiagų paviršiaus būdai:
Purškimas. Labiausiai visame pasaulyje paplitęs polimerinių medžiagų paviršiaus poveikio būdas. Jo paplitimą lemia tai, jog šis būdas yra labai paprastas, greitas, pigus. Šis būdas dažniausiai naudojamas pagerinti polimerinių medžiagų atsparumo ugnies poveikiui, kietumo, antibakterines (naudojant T1O2) ir kitas savybes. Naudojant šį metodą, polimerinių medžiagų paviršių dažniausiai reikia nuvalyti bei „pašiaušti“ tam, kad padidintų purškiamų medžiagų adheziją ant polimerinių medžiagų paviršiaus. Tam naudojami įvairūs tirpikliai, kurie tam tikrais atvejais gali paveikti polimerinių medžiagų tūrį. Pagrindinis šio metodo trūkumas yra tai, jog labai sunku padengti paviršių norimo storio danga (purškiamas junginys dangos paviršiuje dažniausiai pasiskirsto netolygiai) (V. Loddo, G. Marei, G. Palmisano, S. Yurdakal, M. Brazzoli, L. Garavaglia, L. Palmisano „Extruded expanded polystyrene sheets coated by T1O2 as new photocatalytic materials for foodstuffs packaging“, Applied surface Science, Italy, 2012; L. Garavaglia, M. Brazolli „Titanium dioxide-coated expanded polymer sheet having photocatalytic activity, Container and packaging for foodstuffs obtained from such polymer sheet“, EP2418238 A1, 2012; http://eoncoat.com/blog/index.php/2012/12/coating-fire- protection-expanded-polystyrene-foam/).
Elektrocheminis zolių-gelių metodas. Naudojant šį metodą, EPS nardinamas į ultragarsinę vonelę su specialiais chemikalais, reikalingais polimerinių medžiagų paviršiaus nuvalymui. Dangos formuojamos ant polimerinių medžiagų paviršiaus, naudojant elektrocheminį zolių-gelių metodą. Dažniausiai šis metodas naudojamas
Si/SiC>2 dangoms ant polimerinių medžiagų paviršiaus formuoti. Pavyzdžiui EPS su tokiomis dangomis gali būti naudojamas katalizės procesuose, jutikliuose, elektroniniuose ar optiniuose prietaisuose. Pagrindinis šio metodo trūkumas yra tai, jog atliekant polimerinių medžiagų paviršiaus valymą yra galimas poveikis ir visai polimerinių medžiagų struktūrai. Nors šis metodas turi didelį potencialą, šiuo metu jis vis dar yra mokslinio tyrinėjimo stadijoje (X. Wang, R. Xiong, G. Wei „Preparation of mesoporous silica thin films on polystyrene substrate by electrochemically induced sol-gel techniąue“, Surface & Coatings Technology, China, 2010).
Magnetroninis dulkinimas. Šiuo metodu formuojant dangas putplasčio paviršiuje, nanodalelės sudarančios dangą yra nusodinamos iš garų fazės. Naudojant šį metodą, prieš nusodinimo procesą polimerinių medžiagų paviršius yra aktyvinamas deguonies plazmoje. Šis procesas naudojamas polimerinių medžiagų paviršiaus nuvalymui bei tam, kad būtų pasiekta geresnė paviršiaus adhezija. Aktyvinimo plazmoje privalumas prieš standartinius cheminius EPS paviršiaus valymo metodus yra tai, jog tokiu būdu valant paviršių, nėra jokio poveikio polimerinių medžiagų tūrinėms savybėms. Yra atlikta daugybė tyrimų rodančių, jog toks metodas yra tinkamas polimerinių medžiagų aktyvinimui (J. Larrieu, B. Held, H. Martinez, Y. Tison „Ageing of atactic and isotactic polystyrene thin films treated by oxygen DC pulsed plasma“, Surface & Coatings Technology, France, 2004). Kita proceso dalis yra magnetroninis nusodinimas. Formuojant dangas šiuo metodu, polimerinių medžiagų paviršius pradeda kaisti. Dėl šios priežasties reikalingi technologiniai sprendimai, sumažinantys polimerinių medžiagų temperatūrą (B. Feddes, J. G. C. VVolke J. A. Jansen, A. M. Vredenberg „Initial deposition of calcium phosphate ceramic on polystyrene and polytetrafluoroethylene by rf magnetron sputtering deposition“, Journal of Vacuum Science & technology, 2003; Ch. Anders „Hydrophilic coating of surfaces of polymeric substrates“, US005871823A, 1997).
Be šių metodų taip pat egzistuoja ir kiti dangų ant polimerinių medžiagų paviršiaus formavimo metodai: dangų formavimas latekso pagrindu, apdorojimas tirpalais ir po to sekantis emulsinis dažymas, nardinimas į skystos būsenos dangą ir t.t. (A. Dubey, Y. Peng „Polystyrene foam products with improved adhesion and vvater resistance, and methods of making the šame“, CA2843860 A1, 2014; R. A. Nonvveiler „Method of producing an expanded polystyrene foam having a dense surface“, US3309439 A1, 1964). Tačiau šie metodai yra mažai tyrinėti ar neekonomiški. Dėl prastos polimerinių medžiagų paviršiaus adhezijos visais atvejais yra reikalingas pirminis polimerinių medžiagų paviršiaus apdorojimas. Dauguma atvejų pirminis polimerinių medžiagų apdorojimas gali turėti įtakos ir visai polimerinių medžiagų struktūrai. Naudojant aktyvinimą plazmoje, ši problema išsprendžiama ir poveikis daromas tik paviršiniam polimerinių medžiagų sluoksniui. IŠRADIMO ESMĖ Šio išradimo tikslas - pasiūlyti naują technologinį sprendimą, siekiant apsaugoti polimerinių medžiagų paviršius (EPS) nuo išorinio poveikio (tiesioginė liepsna, drėgmė, mikroorganizmų poveikis ir t.t.), panaudojant Si02, Ti02 ir kombinuotas Si02i Ti02 nanokristalines plonas dangas, gautas reaktyviojo magnetroninio garinimo būdu. Šiame išradime yra kombinuojamas paviršiaus energijos keitimas, naudojant aktyvavimą žematemperatūrinėje (Tj0nų ^ 105 K) plazmoje, siekiant pagerinti oksidinių dangų adheziją prie dengiamo paviršiaus, ir plonų oksido dangų gavimą reaktyvioje Ar+02 dujų aplinkoje.
BRĖŽINIŲ FIGŪRŲ APRAŠYMAS
Toliau išradimas bus aprašytas su nuoroda į jį paaiškinančius brėžinius, kuriuose:
Fig. 1 pateikta bendra patentuojamo proceso eiga;
Fig. 2 pavaizduota aktyvavimo ir dangų sintezės kamera;
Fig. 3 pavaizduotas katodas su kitos medžiagos priedais. Išradimo realizavimo aprašymas Išradimo koncepcijos algoritmas yra pateikiamas fig. 1. Detalus aprašas:
Imame polimerinius (EPS) bandinius ir talpiname į vakuuminę kamerą (fig. 2) ir atliekame paviršiaus aktyvaciją. Slėgis aktyvacijos metu - 1-10x10'2 mbar. Aktyvacijai geriausiai tinka impulsinis DC maitinimo šaltinis. Plazmą generuojantis elektrodas turi būti 3-8 cm atstumu nuo aktyvuojamo bandinio, tuomet 2 kHz-20 kHz intervale dirbančio impulsinio DC plazmos šaltinio galia tenkanti atitinkamo elektrodo ploto vienetui 0.2-1 W/cm2. Aktyvacijos laikas 20-60 sekundžių.
Aktyvuoti bandiniai neištraukiami iš kameros ir atliekamas kameros atsiurbimas iki ne didesnio kaip 7Χ10"4 mbar slėgio. Atsiurbus, į kamerą paduodamas Ar:02 dujų mišinys santykiu 70±10:30±10. Magnetronų maitinimui galima naudoti DC arba impulsinį DC arba RF šaltinius. Maitinimo galia tenkanti magnetrono darbinio paviršiaus plotui gali kisti tarp 1-3 W/cm2. Atstumas tarp bandinio ir padėklo priklauso nuo dengiamos medžiagos: kuo lydymosi temperatūra mažesnė, tuo atstumas turi būti didesnis, ir atvirkščiai. Jei po sintezės gaunami gryni oksidai - dangos gaunamos hidrofobinės.
Jei reikia gauti hidrofilines dangas, garinimo pabaigoje reikia visiškai nutraukti deguonies padavimą ir dar garinti metalines/puslaidininkines dangas 5 s. Po to išjungti magnetroną, nutraukti Ar padavimą, paduoti deguonį ir inicijuoti RF žematemperatūrinę plazmą deguonies aplinkoje 10-30 min. taip pat kaip ir aktyvavimo atveju. Gautos dangos paviršiniame sluoksnyje esantys metalų ar puslaidininkių klasteriai visiškai oksiduosis ir ištrauktos iš vakuuminės kameros dangos bus hidrofilinės.
Kombinuotos Si02/Ti02 dangos gali būti gautos, panaudojant vieną (Si arba Ti) magnetroną, ant kurio katodo yra pridedama kitos medžiagos (Ti arba Si) dalelių, kaip pavaizduota fig. 3. Tokiu būdu galima išvengti dviejų magnetronų panaudojimo ir Ti02-Si02 kompozicinių dangų gavimui.
Jei reikalinga organizuoti nenutrūkstamą gamybą, reikia egzistuojančios šliuzinės magnetroninio garinimo sistemos pagrindinę kamerą, kurioje atliekamas garinimas, parengti, kaip parodyta fig. 2, ir panaudoti technologinę seką, pateiktą 1- 3 punktuose. Aktyvavimą galima atlikti atskiroje kameroje tiek šliuzinėje, tiek nepriklausomoje kameroje. Aktyvuoti bandiniai išlieka aktyvūs iki 5 parų, esant kambario temperatūrai ir oro santykinei drėgmei ne aukštesnei nei 55 %.
Claims (2)
- IŠRADIMO APIBRĖŽTIS
- 1. Polimerinių medžiagų (EPS) paviršiaus apsaugos, panaudojant nanokristalinių oksidų dangas, būdas, apimantis EPS paviršių aktyvavimą plazmoje ir po to sekantį nanokristalinių oksido pagrindo dangų užnešimą ant aktyvuotų paviršių, besiskiriantis tuo, kad (a) prieš užnešimą EPS paviršių aktyvuoja RF arba 2-20 kHz dažnio impulsinio DC arba DC maitinimo šaltinio generuotoje žematemperatūrinėje (Tj0nų ^ 105 K) plazmoje, 20-60 sekundžių aktyvacijos trukmės metu palaikant 2-9x10'2 mbar slėgį ir sudarant 3-8 cm atstumą tarp bandinio ir plazmą generuojančio elektrodo, kurio plotui tenkanti galia - 0,2-1 W/cm2; (b) užneša ištisines oksido pagrindo (S1O2 ar T1O2 ar Si02/Ti02) dangas ne ant atskirų EPS sudarančių granulių, kurios vėliau sulydomos, bet ant jau sulydyto išpūsto polistireno arba vieno iš jo kopolimerų granulių plokštės paviršiaus; (c) užnešimui naudoja magnetroninio garinimo metodą reaktyvioje Ar:02 aplinkoje, esant Ar:02 dujų mišinio santykiui 70±10:30±10, magnetronų maitinimui naudoja DC arba impulsinį DC arba RF šaltinius, palaikant magnetrono darbinio paviršiaus plotui tenkančią maitinimo galią tarp 1-3 W/cm2; (d) panaudojant reaktyviojo magnetroninio garinimo metodus - DC, impulsinį DC, RF, ant EPS paviršiaus suformuoja hidrofobines nanokristalines oksidų dangas, pagerinančias EPS atsparumą tiesioginiam liepsnos poveikiui ir turinčias savaiminio nusivalymo savybių; (e) panaudojant metalų/puslaidininkių klasterių oksidacijos deguonies plazmoje procesus, garinimo pabaigoje visiškai nutraukia deguonies padavimą ir dar garina metalines/puslaidininkines dangas 5 s, po to išjungia magnetroną, nutraukia Ar padavimą, paduoda deguonį ir inicijuoja RF žematemperatūrinę (Tj0nų ^ 105 K) plazmą deguonies aplinkoje 10-30 min., tokiu būdu visiškai oksiduojant gautos dangos paviršiniame sluoksnyje esančius metalų ar puslaidininkių klasterius ir gaunant hidrofilines dangas.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| LT2014510A LT6291B (lt) | 2014-11-11 | 2014-11-11 | Polimerinių medžiagų paviršiaus apsaugos, panaudojant nanokristalinių oksidų dangas, būdas |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| LT2014510A LT6291B (lt) | 2014-11-11 | 2014-11-11 | Polimerinių medžiagų paviršiaus apsaugos, panaudojant nanokristalinių oksidų dangas, būdas |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| LT2014510A LT2014510A (lt) | 2016-06-27 |
| LT6291B true LT6291B (lt) | 2016-08-10 |
Family
ID=56134749
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| LT2014510A LT6291B (lt) | 2014-11-11 | 2014-11-11 | Polimerinių medžiagų paviršiaus apsaugos, panaudojant nanokristalinių oksidų dangas, būdas |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| LT (1) | LT6291B (lt) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3309439A (en) | 1964-11-06 | 1967-03-14 | Lakeside Plastics Corp | Method of producing an expanded polystyrene foam having a dense surface |
| US5871823A (en) | 1996-06-19 | 1999-02-16 | Huels Aktiengesellschaft | Hydrophilic coating of surfaces of polymeric substrates |
| CA2843860A1 (en) | 2013-03-14 | 2014-09-14 | United States Gypsum Company | Polystyrene foam products with improved adhesion and water resistance, and methods of making the same |
-
2014
- 2014-11-11 LT LT2014510A patent/LT6291B/lt not_active IP Right Cessation
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3309439A (en) | 1964-11-06 | 1967-03-14 | Lakeside Plastics Corp | Method of producing an expanded polystyrene foam having a dense surface |
| US5871823A (en) | 1996-06-19 | 1999-02-16 | Huels Aktiengesellschaft | Hydrophilic coating of surfaces of polymeric substrates |
| CA2843860A1 (en) | 2013-03-14 | 2014-09-14 | United States Gypsum Company | Polystyrene foam products with improved adhesion and water resistance, and methods of making the same |
Non-Patent Citations (4)
| Title |
|---|
| B. FEDDES ET AL: "„Initial deposition of calcium phosphate ceramic on polystyrene and polytetrafluoroethylene by rf magnetron sputtering deposition“,", JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 2003 |
| J. LARRIEU ET AL: "Ageing of atactic and isotactic polystyrene thin films" |
| V. LODDO AT AL: "Extruded expanded polystyrene sheets coated by TiO2 as new photocatalytic materials for foodstuffs packaging", APPLIED SURFACE SCIENCE, 2012 |
| X. WANG ET AL: "Preparation of mesoporous silica thin films on polystyrene substrate by electrochemically induced sol-gel technique“", SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, 2010 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| LT2014510A (lt) | 2016-06-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2007512154A5 (lt) | ||
| CN101790596A (zh) | 制备金属氧化物涂覆的具有可预定疏水行为的工件表面的方法 | |
| Evans et al. | The role of SiO2 barrier layers in determining the structure and photocatalytic activity of TiO2 films deposited on stainless steel | |
| JP5256693B2 (ja) | 酸化チタン系光触媒薄膜の製造法 | |
| JP5142081B2 (ja) | 酸化チタン系光触媒薄膜の製造法 | |
| CN102529210A (zh) | 具有保护膜层的镀膜玻璃及其制备方法 | |
| CN103741102B (zh) | 一种水晶灯挂件玻璃的制作方法 | |
| JP2010037648A (ja) | 無機薄膜及びその製造方法、並びにガラス | |
| CN105209568B (zh) | 由多个薄膜形成的防指纹层的组合物及其制备方法 | |
| LT6291B (lt) | Polimerinių medžiagų paviršiaus apsaugos, panaudojant nanokristalinių oksidų dangas, būdas | |
| CN104726832A (zh) | 一种氧化铝自清洁薄膜的制备方法 | |
| Shanaghi et al. | Effects of silica and Ag on the electrochemical behavior of titania-based nanocomposite coatings deposited on 2024 aluminum alloy by the sol-gel method | |
| Zhang et al. | The deposition of crystallized TiO2 coatings by closed field unbalanced magnetron sputter ion plating | |
| JP5131638B2 (ja) | 酸化チタン系光触媒薄膜の製造法 | |
| Kim et al. | Enhanced hydrophilic property of TiO 2 thin film deposited on glass etched with O 2 plasma | |
| US8980065B2 (en) | Method of making coated articles | |
| RU2447190C2 (ru) | Способ получения фотокаталитически активного покрытия | |
| Kim et al. | Wettability and photocatalysis of CF4 plasma etched titania films of honeycomb structure | |
| ATE428007T1 (de) | Verfahren zur herstellung einer photokatalytisch aktiven schicht | |
| CN105177516A (zh) | 表面覆盖TiN-纳米TiO2膜的电子装置壳体及其加工方法 | |
| US8388815B2 (en) | Coated article and method of making the same | |
| CN104947059A (zh) | 表面覆盖纳米二氧化钛膜的电子装置壳体及其加工方法 | |
| Wang et al. | Fabrication of TiO2 films on glass substrates by a pulsed dc reactive magnetron sputtering | |
| TWI480400B (zh) | 鍍膜件及其製作方法 | |
| US8377568B2 (en) | Coated article |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| BB1A | Patent application published |
Effective date: 20160627 |
|
| FG9A | Patent granted |
Effective date: 20160810 |
|
| MM9A | Lapsed patents |
Effective date: 20201111 |