LU85403A1 - PROCESS FOR FORMING A GLOSSY DEPOSIT OF METAL OR A METAL CONTAINING ALLOY ON A CONDUCTIVE SUBSTRATE - Google Patents
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Description
* « - 2 -* "- 2 -
La présente invention est relative à un procédé pour la formation d’un dépôt sensiblement brillant, d'un métal ou d'un alliage contenant ce métal, sur la surface d'un substrat conducteur, par électrolyse d'un électrolyte à base -d'une solution d'un 5 sel de ce métal et éventuellement d'au moins un autre métal destiné à former ledit alliage.The present invention relates to a process for the formation of a substantially shiny deposit, of a metal or of an alloy containing this metal, on the surface of a conductive substrate, by electrolysis of an electrolyte based on -d a solution of a salt of this metal and optionally of at least one other metal intended to form said alloy.
De nombreux procédés sont connus pour déposer du nickel ou un alliage de nickel brillant sur une tôle.Many methods are known for depositing nickel or a shiny nickel alloy on a sheet.
D'une façon générale, ces procédés connus 10 présentent l’inconvénient de nécessiter la présence d'additifs organiques lors de l'électrolyse pour obtenir la brillance du dépôt.In general, these known methods have the drawback of requiring the presence of organic additives during electrolysis to obtain the gloss of the deposit.
Ces additifs organiques s'incorporent au moins partiellement au dépôt de nickel ou d'un alliage de nickel et on constate qu’ils favorisent la corrosion ultérieure de cette couche 15 métallique dans son milieu d'utilisation.These organic additives are incorporated at least partially into the deposit of nickel or a nickel alloy and it is found that they promote the subsequent corrosion of this metallic layer in its environment of use.
De plus, par la présence d'inclusions de ces additifs organiques dans ladite couche, cette dernière présente des propriétés mécaniques plutôt médiocres en ce sens que la couche est dure et cassante et donc très peu ductile.In addition, by the presence of inclusions of these organic additives in said layer, the latter has rather poor mechanical properties in the sense that the layer is hard and brittle and therefore not very ductile.
20 Par ailleurs, il est également connu de former, en l'absence de tels additifs, un dépôt brillant de cobalt sur de l'acier.Furthermore, it is also known to form, in the absence of such additives, a shiny deposit of cobalt on steel.
Toutefois, jusqu'à présent, pour obtenir ce dépôt brillant avec une bonne adhérence, des conditions d'électroly-25 se très strictes doivent être respectées. Ainsi, le pH du bain d’électrolyte est très critique, de sorte que des problèmes très sérieux existent * 0 - 3 - pour l'application industrielle d'un cobaltage brillant sans additif.However, up to now, in order to obtain this glossy deposit with good adhesion, very strict electrolytic conditions must be observed. Thus, the pH of the electrolyte bath is very critical, so that very serious problems exist * 0 - 3 - for the industrial application of a shiny cobalt without additives.
Un des buts essentiels de la présente invention est de présenter un procédé permettant de remédier aux inconvénients précités, c'est-à-dire d'obtenir un dépôt sensiblement 5 brillant d'un métal ou d'un alliage de ce métal, dans lequel la présence d'additifs organiques est réduit au strict minimum, de sorte que celui-ci n'a pas d'influence sur les propriétés chimiques, telles que la résistance à la corrosion, les propriétés mécaniques, telle que la ductilité.One of the essential aims of the present invention is to present a method enabling the abovementioned drawbacks to be remedied, that is to say obtaining a substantially shiny deposit of a metal or an alloy of this metal, in which the presence of organic additives is reduced to the strict minimum, so that it has no influence on chemical properties, such as corrosion resistance, mechanical properties, such as ductility.
A cet effet, suivant l’invention, on main-10 tient dans l'électrolyte une teneur en additif organique inférieure à celle correspondant à un dépôt métallique contenant tout au plus 1 % d'impuretés dues à la présence de cet additif organique, et on soumet l'électrolyte à un mouvement sensiblement constant et homogène à proximité immédiate de la surface à recouvrir du substrat, 15 avec une vitesse d'au moins 0,3 m/s par rapport au substrat, de manière à créer un régime hydrodynamique d'écoulement de l'électrolyte tel que les conditions d'électrolyse soient homogènes à une échelle sensiblement microscopique sur toute la surface à recouvrir du substrat.To this end, according to the invention, the content of organic additive is lower in the electrolyte than that corresponding to a metallic deposit containing at most 1% of impurities due to the presence of this organic additive, and the electrolyte is subjected to a substantially constant and homogeneous movement in the immediate vicinity of the surface to be covered with the substrate, with a speed of at least 0.3 m / s relative to the substrate, so as to create a hydrodynamic regime d flow of the electrolyte such that the electrolysis conditions are homogeneous on a substantially microscopic scale over the entire surface to be covered with the substrate.
Avantageusement, l’électrolyte est sensi-20 blement exempt d'additif organique.Advantageously, the electrolyte is substantially free from organic additives.
Suivant une forme de réalisation particulière de l'invention, on maintient une vitesse de l'électrolyte à proximité immédiate de la surface à recouvrir du substrat comprise entre 0,5 et 5 m/s, tie préférence de l'ordre de 2,5 m/s.According to a particular embodiment of the invention, a speed of the electrolyte is maintained close to the surface to be covered with the substrate of between 0.5 and 5 m / s, preferably around 2.5 m / s.
25 ‘ Suivant une forme préférentielle de l'inven tion, le métal est choisi dans le groupe formé par le Co, Fe, Ni, Cr, Mn, Zn, éventuellement en association avec du Mo.‘According to a preferred form of the invention, the metal is chosen from the group formed by Co, Fe, Ni, Cr, Mn, Zn, possibly in association with Mo.
D’autres détails et particularités de l'invention ressortiront de la description donnée ci-après, à titre d'exemples 30 non limitatifs, de quelques formes de réalisation particulière du procédé suivant l'invention.Other details and particularities of the invention will emerge from the description given below, by way of nonlimiting examples, of some particular embodiments of the method according to the invention.
- 4 - D’une façon générale, la présente invention concerne un procédé pour la formation d'un dépôt sensiblement brillant, d'un métal ou d'un alliage contenant ce métal, sur la surface d'un substrat conducteur, tel qu'une tôle d'acier ou des objets métalliques, a 5 de formes très variées, comme des clenches de portes par exemple, par électrolyse d'un électrolyte à base d'une solution aqueuse d'un sel de ce métal et éventuellement d'au moins un autre métal destiné à former ledit alliage.In general, the present invention relates to a process for the formation of a substantially shiny deposit, of a metal or of an alloy containing this metal, on the surface of a conductive substrate, such as a sheet of steel or metal objects, has 5 very varied forms, such as door latches for example, by electrolysis of an electrolyte based on an aqueous solution of a salt of this metal and optionally at least at least one other metal intended to form said alloy.
Il s'agit surtout des métaux choisis dans 10 le groupe formé par le Co, Fe, Ni, Cr, Mn, Zn, éventuellement en association avec du Mo, tel qu'un alliage Ni-Mo, riche ep Mo.These are mainly the metals chosen from the group formed by Co, Fe, Ni, Cr, Mn, Zn, optionally in association with Mo, such as a Ni-Mo alloy, rich in Mo ep.
Ce procédé se caractérise essentiellement par le fait que l'on maintient dans l'électrolyte une teneur en additif organique inférieure à celle correspondant à un dépôt métallique 15 contenant tout au plus 1 % d'impuretés dues à la présence de cet additif organique et que l'on soumet cet électrolyte à un mouvement sensiblement constant et homogène à proximité immédiate de la surface à recouvrir du substrat conducteur, avec une vitesse d'au moins 0,3 m/s par rapport au substrat.This process is essentially characterized by the fact that an organic additive content is maintained in the electrolyte lower than that corresponding to a metal deposit 15 containing at most 1% of impurities due to the presence of this organic additive and that this electrolyte is subjected to a substantially constant and homogeneous movement in the immediate vicinity of the surface to be covered with the conductive substrate, with a speed of at least 0.3 m / s relative to the substrate.
20 Cette vitesse doit être choisie de manière à créer dans le voisinage immédiat de cette surface un régime hydrodynamique d'écoulement de l'électrolyte qui soit tel que les conditions de l'électroiyse , comme les concentrations et le pH de l'électrolyte, soient homogènes à l'échelle sensiblement microscopique le long de 25 toute la surface du substrat à recouvrir.This speed must be chosen so as to create in the immediate vicinity of this surface a hydrodynamic flow regime of the electrolyte which is such that the conditions of electrolysis, such as the concentrations and the pH of the electrolyte, are homogeneous on a substantially microscopic scale along the entire surface of the substrate to be covered.
Il a été constaté que si ces conditions sont respectées, on obtient d'une manière imprévue un dépôt métallique sensiblement brillant sur le substrat. Ainsi, il est possible de faire varier les conditions d'électrolyse, entre des limites relativement 30 larges, pour autant qu'elles varient de la même manière à proximité de toute la surface à recouvrir.It has been found that if these conditions are met, an appreciably shiny metallic deposit is obtained on the substrate. Thus, it is possible to vary the electrolysis conditions, between relatively wide limits, provided that they vary in the same way near the entire surface to be covered.
Si le substrat est formé par une tôle, on peut avantageusement faire usage d'une cellule d'électrolyse du type décrit et représenté dans le brevet français 79.27.756.If the substrate is formed by a sheet, it is advantageous to make use of an electrolysis cell of the type described and represented in French patent 79.27.756.
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Avantageusement, on fait usage d'un électrolyte qui est sensiblement exempt d’additifs organiques, c'est-à-dire dans lequel un tel additif n'a pas été ajouté intentionnellement comme c'est le cas dans la plupart des procédés connus dont question ci-dessus. 5 Ainsi en pratique il se pourrait en effet que, suivant l'origine des sels utilisés dans Télectrolyse, cet électrolyte contienne des traces d'additif organique .Advantageously, use is made of an electrolyte which is substantially free of organic additives, that is to say in which such an additive has not been intentionally added as is the case in most of the known methods including question above. 5 Thus in practice it could indeed be that, depending on the origin of the salts used in electrolysis, this electrolyte contains traces of organic additive.
D'une manière plus concrète, dans le cadre de la présente invention, l'expression "exempt d'additifs orga-10 niques" peut signifier que l'électrolyte contient moins dp : - 20 mg/1 de lauryl sulfate de sodium ; - 5 mg/1 d'additif de la classe I tel que : les acides benzène sulfonique, bisulfonique, trisulfonique et leurs dérivés, 15 les acides toluène sulfonique, bisulfonique et leurs dérivés, les acides naphtalène sulfonique, bisulfonique, trisulfonique et leurs dérivés, la saccharine, et tout autre additif du même type ; 20 - 5 mg/1 d'additif de la classe II tel que : - la coumarine ( avec une restriction à moins de 3 mg/1) - la formaldéhyde et ses dérivés, - les acides carboxyliques tels que la cystine et leurs dérivés, - la pyridine et ses dérivés, 25 - le butynediol, - la quinoline et ses dérivés, - les dérivés nitriles, - la thiourée et ses dérivés, et tout autre additif du même type ; 30 - 0,1 g/1 d'acide citrique ou acide formique.More specifically, in the context of the present invention, the expression "free of organic additives" can mean that the electrolyte contains less dp: - 20 mg / l of sodium lauryl sulfate; - 5 mg / 1 of class I additive such as: benzene sulfonic, bisulfonic, trisulfonic acids and their derivatives, toluene sulfonic, bisulfonic acids and their derivatives, naphthalene sulfonic, bisulfonic, trisulfonic acids and their derivatives, saccharin, and any other additive of the same type; 20 - 5 mg / 1 of class II additive such as: - coumarin (with a restriction of less than 3 mg / 1) - formaldehyde and its derivatives, - carboxylic acids such as cystine and their derivatives, - pyridine and its derivatives, - butynediol, - quinoline and its derivatives, - nitrile derivatives, - thiourea and its derivatives, and any other additive of the same type; 30 - 0.1 g / 1 citric acid or formic acid.
On admet qu'avec de telles teneurs en additif, les propriétés chimiques et mécaniques du dépôt métallique - 6 - ne sont pas altérées d'une façon perceptible pour la plupart des applications industrielles envisagées. Plus particulièrement, dans la plupart des cas, en fonction des conditions pratiques d'électrolyse et de la nature du dépôt métallique, on maintient une vitesse de 5 l'électrolyte à proximité immédiate de la surface à recouvrir du substrat comprise entre 0,5 et 5 m/s, de préférence de l'ordre de 2,5 m/s.It is admitted that with such additive contents, the chemical and mechanical properties of the metallic deposit - 6 - are not noticeably altered for most of the industrial applications envisaged. More particularly, in most cases, depending on the practical electrolysis conditions and the nature of the metal deposit, a speed of the electrolyte is maintained in the immediate vicinity of the surface to be covered with the substrate of between 0.5 and 5 m / s, preferably around 2.5 m / s.
Par ailleurs, il a été constaté que si on maintient le pH dans l'électrolyte entre -1 et 8, et de préférence entre 1 et k, de bons résultats sont obtenus.Furthermore, it has been found that if the pH in the electrolyte is maintained between -1 and 8, and preferably between 1 and k, good results are obtained.
Il en est de même pour la densité du courant cathodique qui entre 3 et 1000 ampères/dm2, et notamment entre 5 et 100 ampères/dm2, permet d'obtenir un dépôt brillant très satisfaisant avec un rendement industriellement acceptable.It is the same for the density of the cathode current which between 3 and 1000 amperes / dm2, and in particular between 5 and 100 amperes / dm2, makes it possible to obtain a very satisfactory glossy deposit with an industrially acceptable yield.
J5 La température de l’électrolyte peut être relativement basse, de l'ordre de 10 à 70°C et de préférence entre 15 et 35°C.J5 The temperature of the electrolyte can be relatively low, of the order of 10 to 70 ° C and preferably between 15 and 35 ° C.
Pour ce qui concerne la concentration du métal ou des métaux dans l'électrolyte, celle-ci est généralement 20 comprise entre 0,01 ions g/1 et la saturation.As regards the concentration of the metal or metals in the electrolyte, this is generally between 0.01 g / l ions and saturation.
La concentration de saturation d'un métal déterminé peut, si le dépôt métallique est constitué d'un alliage, dépendre de la concentration de l'autre métal de cet alliage.The saturation concentration of a given metal can, if the metal deposit consists of an alloy, depend on the concentration of the other metal of this alloy.
Le procédé suivant l'invention est particu-25 lièrement utile pour la formation d'un dépôt sensiblement brillant de nickel ou d'un alliage de nickel, tel qu'un alliage nickel- molybdène sur un substrat en acier.The process according to the invention is particularly useful for the formation of a substantially shiny deposit of nickel or a nickel alloy, such as a nickel-molybdenum alloy on a steel substrate.
A cet égard, pour un dépôt de nickel pur, des tests ont été effectués dans les conditions suivantes : 30 - pH : 1,5 à 1,8, - vitesse relative de l'électrolyte par rapport à la surface à recouvrir * - 7 - du substrat supérieure ou égaie à 1 m/s, - température entre 20 et 35°C, - composition du bain électrolytique : chlorure de nickel à concentration sensiblement molaire, 5 - densité de courant variant entre 3 et 15 A/dm2 en fonction de la vitesse relative de l'électrolyte.In this regard, for a deposit of pure nickel, tests were carried out under the following conditions: 30 - pH: 1.5 to 1.8, - relative speed of the electrolyte relative to the surface to be covered * - 7 - substrate greater than or equal to 1 m / s, - temperature between 20 and 35 ° C, - composition of the electrolytic bath: nickel chloride at substantially molar concentration, 5 - current density varying between 3 and 15 A / dm2 depending the relative velocity of the electrolyte.
Ainsi, la densité de courant la plus faible a été combinée avec la vitesse d'écoulement relative la plus faible et la densité la plus élevée a été combinée avec la vitesse d'écoule-10 ment la plus élevée. Pour une vitesse d'écoulemeijt relative de 1 m/s, la densité de courant a été maintenue aux environs de 3 A/dm2 et pour une vitesse de l'ordre de 5 m/s, la densité de courant a été maintenue aux environs de 15 A/dm2.Thus, the lowest current density was combined with the lowest relative flow velocity and the highest density was combined with the highest flow velocity. For a relative flow speed of 1 m / s, the current density was maintained at around 3 A / dm2 and for a speed of the order of 5 m / s, the current density was maintained at around of 15 A / dm2.
Il a, en effet, été constaté que dans ces 15 conditions de travail, l'hydrogène formé à la cathode était évacué d'une façon continue et régulière durant toute l'électrolyse sous forme de bulles microscopiques ne perturbant donc pas le dépôt métallique.It has in fact been found that under these working conditions, the hydrogen formed at the cathode is discharged in a continuous and regular manner during all the electrolysis in the form of microscopic bubbles, therefore not disturbing the metallic deposit.
Il a été possible d'obtenir ainsi un dépôt brillant et très adhérent de nickel sur une tôle d'acier jusqu’à des 20 épaisseurs de 20 pm.It was thus possible to obtain a shiny and very adherent deposit of nickel on a steel sheet up to 20 thicknesses of 20 μm.
L’anode utilisée était généralement soluble, bienqu'il puisse également être fait usage d'une anode insoluble, par exemple en carbone ou même en platine.The anode used was generally soluble, although an insoluble anode, for example carbon or even platinum, could also be used.
D'autres tests pratiques ont été effectués ' 25 Pour Ie dépôt d'un alliage nickel-molybdène brillant sur une tôle d’acier i _ en faisant usage d'une anode insoluble en platine.Other practical tests have been carried out for depositing a bright nickel-molybdenum alloy on a steel sheet using an anode which is insoluble in platinum.
| v A partir d'une solution contenant de l'ordre | de 110 à 160 g/1 de Na^Cy 20 g/1 de NH^CI, 1 à 40 g/1 de NiSO^.7 et 5 g/1 de Na^MoO^.2H^0. à température ambiante, de l'ordre ' 30 de 25° C, on a déposé un alliage nickel-molybdène, riche à molybdène jusqu'à S0 % de molybdène, brillant et adhérent avec des épaisseurs pouvant atteindre 25 pm.| v From a solution containing order | from 110 to 160 g / 1 of Na ^ Cy 20 g / 1 of NH ^ CI, 1 to 40 g / 1 of NiSO ^ .7 and 5 g / 1 of Na ^ MoO ^ .2H ^ 0. at room temperature, on the order of 30 ° to 25 ° C., a nickel-molybdenum alloy, rich in molybdenum up to 50% molybdenum, glossy and adherent with thicknesses up to 25 μm, was deposited.
La densité de courant cathodique - w - δ - variait de 5 à 30 A/dm2, tandis que la vitesse de passage de la solution parallèlement à la cathode était de 0,3 à 1 m/s.The cathodic current density - w - δ - varied from 5 to 30 A / dm2, while the speed of passage of the solution parallel to the cathode was 0.3 to 1 m / s.
Contrairement à ce qui était le cas pour le dépôt de nickel, on a constaté que de très bons résultats sont 5 obtenus si on combine la densité de courant élevée avec les faibles vitesses de déplacement de l'électrolyte par rapport à la cathode.Contrary to what was the case with nickel deposition, it has been found that very good results are obtained if the high current density is combined with the low displacement speeds of the electrolyte relative to the cathode.
Ainsi, pour une densité de courant de 30 A/dm2, on maintient de préférence une vitesse de l’électrolyte par rapport à la surface du substrat à recouvrir, formant donc la 10 cathode, de l'ordre de 0,3 m/s.Thus, for a current density of 30 A / dm2, it is preferable to maintain a speed of the electrolyte relative to the surface of the substrate to be covered, thus forming the cathode, of the order of 0.3 m / s .
Par ailleurs, un dépôt sensiblement brillant de fer d'une épaisseur de l'ordre de 5 pm, sur une tôle de cuivre, a été obtenu à partir d'un bain de fluoborate de fer molaire contenant 10 g/1 de NaCl, à un pH voisin de 0 et à une température de 55 à 15 60°C, avec une densité de courant de 20 à 30 A/dm2 pour une vitesse d'agitation de 1,5 m/s.Furthermore, a substantially shiny deposit of iron with a thickness of the order of 5 μm, on a copper sheet, was obtained from a molar iron fluoborate bath containing 10 g / l of NaCl, at a pH close to 0 and at a temperature of 55 to 60 ° C, with a current density of 20 to 30 A / dm2 for a stirring speed of 1.5 m / s.
De ces différents tests il résulte donc qu'il a été possible, d'une manière tout à fait imprévue, d'obtenir un dépôt sensiblement brillant d'un métal pur ou d'un alliage sur 20 une surface d'un substrat conducteur par électrolyse d'un électrolyte, sans qu'il soit nécessaire d'ajouter à celui-ci un additif organique, si on veille à créer une vitesse relative déterminée de l'électrolyte par rapport à la surface à recouvrir.From these various tests it therefore follows that it has been possible, quite unexpectedly, to obtain a substantially shiny deposit of a pure metal or an alloy on a surface of a conductive substrate by electrolysis of an electrolyte, without the need to add an organic additive thereto, if care is taken to create a determined relative speed of the electrolyte relative to the surface to be covered.
Les autres paramètres de l'électrolyse, 25 tels que température , pH, concentration en métaux à déposer dans . l'électrolyte sont en général moins critiques, de sorte que le procédé présente un intérêt prononcé pour son application à l'échelle industrielle.The other parameters of electrolysis, such as temperature, pH, concentration of metals to be deposited in. the electrolyte are generally less critical, so that the process is of marked interest for its application on an industrial scale.
Il est bien entendu que l'invention n'est 30 pas limitée aux exemples concrets donnés ci-dessus, mais que le procédé peut également s'appliquer au dépôt, par électrolyse, d'autres métaux notamment Cr, Mn, Zn et Co.It is understood that the invention is not limited to the concrete examples given above, but that the process can also be applied to the deposition, by electrolysis, of other metals, in particular Cr, Mn, Zn and Co.
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Plus particulièrement pour le cobalt, il a été constaté que, contrairement à ce qui est le cas dans les procédés connus pour la formation d’un dépôt brillant, le pH du bain d'électrolyte est relativement peu critique, et peut varier entre des 5 limites assez vastes.More particularly for cobalt, it has been found that, contrary to what is the case in the known processes for the formation of a bright deposit, the pH of the electrolyte bath is relatively uncritical, and can vary between 5 fairly wide boundaries.
Ce procédé peut de plus s'appliquer au moyen de n'importe quel type de cellule d'électrolyse existante pour autant qu’on puisse y créer une vitesse relative de l'électrolyte suffisamment importante et homogène à proximité des surfaces à 10 recouvrir. .»This process can also be applied by means of any type of existing electrolytic cell provided that a sufficiently high and homogeneous relative speed of the electrolyte can be created there near the surfaces to be covered. . "
Claims (9)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| LU85403A LU85403A1 (en) | 1984-06-06 | 1984-06-06 | PROCESS FOR FORMING A GLOSSY DEPOSIT OF METAL OR A METAL CONTAINING ALLOY ON A CONDUCTIVE SUBSTRATE |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| LU85403A LU85403A1 (en) | 1984-06-06 | 1984-06-06 | PROCESS FOR FORMING A GLOSSY DEPOSIT OF METAL OR A METAL CONTAINING ALLOY ON A CONDUCTIVE SUBSTRATE |
| LU85403 | 1984-06-06 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
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| LU85403A1 true LU85403A1 (en) | 1986-01-24 |
Family
ID=19730266
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| LU85403A LU85403A1 (en) | 1984-06-06 | 1984-06-06 | PROCESS FOR FORMING A GLOSSY DEPOSIT OF METAL OR A METAL CONTAINING ALLOY ON A CONDUCTIVE SUBSTRATE |
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| Country | Link |
|---|---|
| LU (1) | LU85403A1 (en) |
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1984
- 1984-06-06 LU LU85403A patent/LU85403A1/en unknown
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