MD1694G2 - Способ регистрации информации на фототермопластическом носителе - Google Patents
Способ регистрации информации на фототермопластическом носителе Download PDFInfo
- Publication number
- MD1694G2 MD1694G2 MDA20000086A MD20000086A MD1694G2 MD 1694 G2 MD1694 G2 MD 1694G2 MD A20000086 A MDA20000086 A MD A20000086A MD 20000086 A MD20000086 A MD 20000086A MD 1694 G2 MD1694 G2 MD 1694G2
- Authority
- MD
- Moldova
- Prior art keywords
- înregistrare
- timpul
- care
- expunerea
- cadrului
- Prior art date
Links
Landscapes
- Holo Graphy (AREA)
Abstract
Изобретение относится к приборостроению, в частности к способам регистрации оптической информации на рельефографическом носителе и может быть использованo в системах функционирующих в динамическом режиме.Способ регистрации информации на фототермопластическом носителе включает экспонирование, сенсибилизацию и тепловое проявление, причем экспонирование осуществляют последовательно импульсно голограммами высокой разрешающей способности всего кадра при двух разных температурах: при температуре на 20°C ниже температуры начала текучести фототермопластика - 90% времени регистрации кадра и при температуре текучести - остальные 10% времени.
Description
[0001] Invenţia să referă la industria de aparate, în special la procedee de înregistrare a informaţiei optice pe purtător reliefografic şi poate fi folosită în sistemele care funcţionează în regim dinamic.
[0002] Este cunoscut procedeul de înregistrare reliefografică a informaţiei optice care se mişcă faţă de purtătorul fototermoplastic [1]. Procedeul se efectuează în modul următor. Cadrul întreg este expus de imaginea care se mişcă. Sensibilizarea electrică şi developarea termică se efectuează zonal prin fâşia care se mişcă uniform de-a lungul cadrului în direcţia mişcării informaţiei optice. Aceste două procese prevăd prezenţa a două elemente, care se mişcă (elementul de coronare şi elementul de încălzire) cu dimensiuni geometrice anumite de ordinul a câţiva mm. Atunci rapiditatea sistemului de înregistrare va fi limitată de viteza de deplasare a două elemente, iar puterea de rezoluţie va fi limitată de către dimensiunile elementului de încălzire şi ale filamentului de coronare.
[0003] Mai apropiat după esenţa tehnică şi rezultatul obţinut este procedeul de înregistrare a informaţiei pe purtătorul fototermoplastic de pe ecranul cu fascicul electronic [2], care include expunerea, sensibilizarea şi developarea termică. Acest procedeu permite înregistrarea tuturor fazelor de mişcare a spotului de pe ecranul tubului cu fascicul electronic (TFE). În procesul de înregistrare al unui ciclu se efectuează înscrierea mişcării spotului pe ecranul TFE. Mişcarea următoare a spotului de pe ecranul TFE se efectuează după deplasarea blocului de înregistrare în altă poziţie. Aşadar, înregistrarea se repetă ciclic până la sfârşitul procesului de înscriere. În final pe purtătorul reliefografic se obţine imaginea totală a procesului care are loc pe ecranul TFE.
[0004] Însă acest procedeu de înregistrare presupune ca între ciclurile de înscriere să aibă loc deplasarea blocului de înregistrare. În afară de aceasta, mai este nevoie de timp pentru a pregăti blocul de înregistrare. Evident, la deplasarea blocului de înregistrare în altă poziţie, timpul de pregătire a lui trebuie să fie mai mic decât perioada de timp dintre apariţiile semnalului. Aşadar, nu este prevăzută înregistrarea semnalului care apare între ciclurile de înscriere.
[0005] Durata fiecărui ciclu este limitată de viteza de sensibilizare şi developare. Pentru procesul real de înregistrare a informaţiei pe purtătorul fototermoplastic sunt necesare câteva secunde.
[0006] Fiecare ciclu nou de înregistrare este însoţit de deplasarea blocului de înregistrare, de procesele de încărcare şi încălzire, ceea ce presupune dimensiuni relativ mari ale obiectului înregistrat (de ordinul mm).
[0007] Astfel, pe de o parte rapiditatea funcţionării (periodicitatea înregistrării semnalului optic) acestui procedeu este limitată principial de timpul pregătirii ciclului de înscriere şi de vitezele sensibilizării şi încălzirii. Pe de altă parte, obiectele care se înregistrează sunt cu frecvenţă joasă din cauza că înregistrarea are loc în regim fotografic. Ca urmare densitatea informaţiei este scăzută pentru această metodă.
[0008] Problema pe care o rezolvă invenţia este creşterea rapidităţii şi majorarea densităţii informaţiei înregistrate pe un cadru de purtător fototermoplastic.
[0009] Esenţa invenţiei constă în aceea că procedeul de înregistrare a informaţiei pe purtător fototermoplastic include expunerea, sensibilizarea şi developarea termică, totodată expunerea se efectuează succesiv impulsiv cu holograme de înaltă putere de rezoluţie a cadrului întreg la două temperaturi diferite: la o temperatură cu 20°C mai joasă decât temperatura de curgere a fototermoplasticului în 90% din timpul total de înregistrare a cadrului şi la temperatura de curgere în celelalte 10% de timp.
[0010] Rezultatul invenţiei constă în majorarea rapidităţii de înregistrare a imaginilor interferometrice şi majorarea densităţii informaţiei datorită expunerii succesive impulsive a purtătorului fototermoplastic (PFTP). Durata expunerii depinde numai de sensibilitatea PFTP şi de timpul în care are loc trecerea de la o expunere la alta prin imaginea interferometrică. Timpul de trecere de la o expunere la alta depinde de caracteristicile tehnice ale sistemului de expunere consecutivă (în cazul cadrului imobil) sau de timpul de mişcare al cadrului şi timpul de atingere a stabilităţii de vibraţie (în cazul cadrului mobil şi expunerea prin imaginea interferometrică).
[0011] Majorarea densităţii informaţiei se atinge datorită înregistrării imaginilor cu înaltă frecvenţă. Frecvenţa de înregistrare este limitată de frecvenţa de rezonanţă a stratului termoplastic şi de difuzia transversală a purtătorilor de sarcină fotoexcitaţi în stratul semiconductor.
[0012] Frecvenţa de rezonanţă a termoplasticului este determinată considerabil de grosimea sa. Înregistrarea frecvenţelor de ordinul 1000 - 1500 mm-1 poate fi efectuată pentru grosimea stratului de termoplastic egală cu 0,3 - 0,4 µm.
[0013] În timpul expunerii stratului semiconductor prin imaginea interferometrică apare fotoconductibilitatea neomogenă în conformitate cu imaginea luminii. Perechile electron-gol sunt divizate de câmpul electric, care apare între ionii pozitivi pe suprafaţa termoplasticului şi electrodul PFTP conectat cu pământul. Acest proces asigură difuzia transversală. Datorită concentraţiei neomogene a purtătorilor de sarcină transversal câmpului electric apare difuzia lor. Difuzia transversală duce la disiparea contrastului electrostatic latent şi respectiv la micşorarea contrastului imaginii vizibile în timpul deformării termoplasticului. Gradul de difuzie creşte odată cu creşterea frecvenţei imaginii interferometrice şi concomitent cu creşterea temperaturii. Din această cauză expunerea cu durata t1 se efectuează cu temperatura scăzută T1.
[0014] Pe de altă parte, temperatura T1 se alege astfel încât în timpul sensibilizării îndelungate prin descărcarea coronară pe stratul termoplastic să se producă o deformaţie cu adâncime mică, care în timpul atingerii temperaturii T2 va fi amplificată şi va atinge nivelul maxim până la momentul finisării înregistrării cadrului întreg.
[0015] Potenţialul electrodului de coronare se alege mic reieşind din condiţia atingerii de către potenţialul superficial a modulului de deplasare al termoplasticului la sfârşitul procesului de înregistrare.
[0016] Exemplu de realizare a invenţiei
[0017] PFTP are următoarea structură: suportul metalizat de polietilentereftalat - stratul fotosensibil semiconductor pe baza soluţiei solide de halogenizi de arsen - stratul termoplastic de vizualizare în modul poliepoxipropilcarbazol cu grosimea 0,4 µm.
[0018] Schema optică permite expunerea PFTP prin spot cu diametrul de 400 µm, obţinut prin compunerea a două fascicule laser. Spotul de lumină este modulat de imaginea interferometrică cu frecvenţa 1000 mm-1. Celula de înregistrare cu PFTP poate fi mişcată după două coordonate cu pasul 400 µm, astfel încât spoturile laser acoperă cadrul întreg. Spoturile laser cu imaginea de interferenţă se află nemijlocit unul lângă altul. Cadrul PFTP cu dimensiunea 24 x 35 mm va fi expus de 5280 holograme ale oglinzii plane.
[0019] Timpul de expunere impuls al unui spot laser este egal cu 5 ms. Expunerea este asigurată de către discul cu fantă care se roteşte. Frecvenţa de rotaţie a discului şi lărgimea fantei determină timpul de expunere egal cu 5 ms. În timpul mişcării celulei de înregistrare dintr-o poziţie în alta (45 ms) discul acoperă fasciculul laser. Sistemul de mişcare este apărat de vibraţii, asigurând stabilitatea imaginii de interferenţă în timpul expunerii. Timpul total de înregistrare al tuturor celor 5280 de holograme este egal cu 264 s.
[0020] Developarea termică a PFTP se efectuează în celula de înregistrare, elementul de încălzire al căreia se află la temperatura de 63°C. Simultan cu începutul expunerii se efectuează sensibilizarea în câmpul descărcării coronare cu potenţialul filamentului de coronare egal cu 3,0 kV în timp de 264 s. Consecutiv se efectuează expunerea cadrului PFTP prin spoturi laser cu imaginea interferometrică. Peste t1=198 s elementul de încălzire se comutează la temperatura T2=84°C. Peste 30…40 s pe elementul de încălzire se stabileşte temperatura 84°C care se păstrează la acest nivel până la sfârşitul încărcării.
[0021] O parte de expunere are loc la temperatură scăzută (T1=63°C), care asigură acumularea succesivă a potenţialului superficial până la atingerea modulului de deplasare al termoplasticului la momentul de finiş al încărcării. În timpul t1 deformaţia se dezvoltă lent, rămânând la nivel cu adâncime mică. Imaginea electrostatică latentă în timp se relaxează, dar în acest procedeu de înregistrare ea se păstrează în modul deformaţiei cu adâncime mică care succesiv se amplifică. În acelaşi timp zgomotul nu apare, deoarece nu s-a atins nivelul de deformaţie.
[0022] Altă parte a expunerii are loc la temperatura ridicată T2, ceea ce asigură majorarea deformaţiei, căreia îi corespunde un timp mai mic (t2=66 s). A doua parte a expunerii este mai aproape de regimul simultan obişnuit, cu singura diferenţă că dezvoltarea deformaţiei are loc pe fondul încălzirii cu viteza 21°C în 30…40 s. Din cauza că expunerea are loc la o temperatură aproape de starea viscoelastică a termoplasticului, modulul de deplasare se atinge mai repede pentru hologramele expuse în fondul timpului t2. Deformaţia respectivă depăşeşte deformaţia haotică din cauza că imaginea electrostatică nu dovedeşte să se disipeze şi are contrast înalt.
[0023] Astfel, pe PFTP peste 264 s se înregistrează imaginea totală sub formă de 5280 holograme ale oglinzii plane.
[0024] 1. SU 962834 A
[0025] 2. SU 1590971 A
Claims (1)
1. Procedeu de înregistrare a informaţiei pe purtător fototermoplastic care include expunerea, sensibilizarea şi developarea termică, caracterizat prin aceea că expunerea se efectuează succesiv impulsiv cu holograme de înaltă putere de rezoluţie a cadrului întreg la două temperaturi diferite: la o temperatură cu 20°C mai joasă decât temperatura de curgere a fototermoplasticului în 90% din timpul total de înregistrare a cadrului şi la temperatura de curgere în celelalte 10% de timp.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| MDA20000086A MD1694G2 (ru) | 2000-05-17 | 2000-05-17 | Способ регистрации информации на фототермопластическом носителе |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| MDA20000086A MD1694G2 (ru) | 2000-05-17 | 2000-05-17 | Способ регистрации информации на фототермопластическом носителе |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| MD1694G2 true MD1694G2 (ru) | 2001-12-31 |
Family
ID=62129641
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| MDA20000086A MD1694G2 (ru) | 2000-05-17 | 2000-05-17 | Способ регистрации информации на фототермопластическом носителе |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| MD (1) | MD1694G2 (ru) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| MD4022G2 (ru) * | 2008-07-07 | 2010-09-30 | Государственный Университет Молд0 | Устройство для регистрации голограмм и интерферограмм на фототермопластический носитель |
| MD460Z (ru) * | 2010-04-06 | 2012-07-31 | Институт Прикладной Физики Академии Наук Молдовы | Способ записи оптических дифракционных решеток в наноразмерной структуре металл - халькогенидное стекло - проводник |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SU962834A1 (ru) * | 1980-10-02 | 1982-09-30 | Специализированное Конструкторско-Технологическое Бюро "Оптоэлектроника" С Опытным Производством При Кишиневском Государственном Университете Им.В.И.Ленина | Способ рельефной записи движущейс относительно фототермопластического носител оптической информации |
| SU1590971A1 (ru) * | 1988-10-06 | 1990-09-07 | Sp Kt B Optoelektronika Pri Ki | Cпocoб зaпиcи иhфopmaции c элektpohho-лучeboгo эkpaha ha peльeфoгpaфичeckий hocиteль |
-
2000
- 2000-05-17 MD MDA20000086A patent/MD1694G2/ru not_active IP Right Cessation
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SU962834A1 (ru) * | 1980-10-02 | 1982-09-30 | Специализированное Конструкторско-Технологическое Бюро "Оптоэлектроника" С Опытным Производством При Кишиневском Государственном Университете Им.В.И.Ленина | Способ рельефной записи движущейс относительно фототермопластического носител оптической информации |
| SU1590971A1 (ru) * | 1988-10-06 | 1990-09-07 | Sp Kt B Optoelektronika Pri Ki | Cпocoб зaпиcи иhфopmaции c элektpohho-лучeboгo эkpaha ha peльeфoгpaфичeckий hocиteль |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| MD4022G2 (ru) * | 2008-07-07 | 2010-09-30 | Государственный Университет Молд0 | Устройство для регистрации голограмм и интерферограмм на фототермопластический носитель |
| MD460Z (ru) * | 2010-04-06 | 2012-07-31 | Институт Прикладной Физики Академии Наук Молдовы | Способ записи оптических дифракционных решеток в наноразмерной структуре металл - халькогенидное стекло - проводник |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| BR9506305A (pt) | Aparelho e processo para preparação de formas sólidas com desprendimento controlado do ingrediente ativo | |
| DK0699104T3 (da) | Fremgangsmåde til underkritisk tørring af aerogeler | |
| ES2083595T3 (es) | Derivados de indol que inhiben la biosintesis de leucotrienos. | |
| MX9302214A (es) | Derivados de taxol y proceso para su preparacion | |
| ES2246829T3 (es) | Inhibidores purinicos de cinasa 2 y de ikb-alfa dependientes de ciclina. | |
| DK0840707T3 (da) | Fremgangsmåde til reversibel lagring af hydrogen | |
| DK0848752T3 (da) | Fremgangsmåde til rensning af vira ved chromatografi | |
| AU7489687A (en) | Translation of mrna | |
| MY134077A (en) | Cross-linking of starch | |
| DK1143967T3 (da) | Anticonvulsive derivater egnede til behandling af Hortons hovedpine | |
| ATE538594T1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur erweiterung des dynamikbereiches eines projektionssystems | |
| TR200002960T2 (tr) | Taşıyıcı matrislere etken maddelerin eklenmesi. | |
| IS3966A (is) | Aðferð til framleiðslu á lyfjablöndum sem innihalda nifedipine | |
| TW360897B (en) | Resist processing device and process | |
| NO980178D0 (no) | Cyklo-oksygenase-inhibitor og amidin-derivatsalter, fremgangsmåte for fremstilling derav, anvendelse derav som legemidler, og farmasöytiske blandinger inneholdende slike derivater | |
| DE69105868D1 (de) | Verfahren zur Reibungsminderung in Gasrohrleitungen. | |
| BRPI0411398A (pt) | catalisadores, sistemas e métodos de reforma a vapor, e métodos de obtenção de catalisadores de reforma a vapor | |
| TW329017B (en) | Method for forming dielectric film | |
| DK0664732T3 (da) | Bærekatalysator og anvendelse deraf | |
| ATE135359T1 (de) | Sulfoniumsalze und verfahren zu deren herstellung | |
| ES2176966T3 (es) | Procedimiento para la fabricacion de soportes de datos en forma de tarjetas. | |
| DE69605652D1 (de) | Oberflächebehandlung | |
| ES2161759T3 (es) | Derivados de profarmacos de inhibidores de enzimas con grupos hidroxilo, procedimiento para su preparacion y su utilizacion. | |
| TR200001102T2 (tr) | İkameli tetrahidropirimidinen türevleri, üretimleri ve kullanımları. | |
| ES2077821T3 (es) | Composicion que comprende un succinoglicano. |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | Patent for invention definitely lapsed due to non-payment of fees |