NL159232B - Werkwijze voor het vormen van metalen contacten van zeer smalle afmetingen op een geintegreerde silicium halfgeleiderinrichting, en produkt van deze werkwijze. - Google Patents

Werkwijze voor het vormen van metalen contacten van zeer smalle afmetingen op een geintegreerde silicium halfgeleiderinrichting, en produkt van deze werkwijze.

Info

Publication number
NL159232B
NL159232B NL6714180.A NL6714180A NL159232B NL 159232 B NL159232 B NL 159232B NL 6714180 A NL6714180 A NL 6714180A NL 159232 B NL159232 B NL 159232B
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
procedure
product
silicon semiconductor
forming metal
metal contacts
Prior art date
Application number
NL6714180.A
Other languages
English (en)
Dutch (nl)
Other versions
NL6714180A (de
Original Assignee
Ibm
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ibm filed Critical Ibm
Publication of NL6714180A publication Critical patent/NL6714180A/xx
Publication of NL159232B publication Critical patent/NL159232B/xx

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W20/00—Interconnections in chips, wafers or substrates
    • H10W20/40—Interconnections external to wafers or substrates, e.g. back-end-of-line [BEOL] metallisations or vias connecting to gate electrodes
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D10/00—Bipolar junction transistors [BJT]
    • H10D10/01—Manufacture or treatment
    • H10D10/051—Manufacture or treatment of vertical BJTs
    • H10D10/056—Manufacture or treatment of vertical BJTs of vertical BJTs having the main current going through the whole substrate, e.g. power BJTs
    • H10D10/058—Manufacture or treatment of vertical BJTs of vertical BJTs having the main current going through the whole substrate, e.g. power BJTs having multi-emitter structures, e.g. interdigitated, multi-cellular or distributed emitters
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D99/00—Subject matter not provided for in other groups of this subclass
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P95/00—Generic processes or apparatus for manufacture or treatments not covered by the other groups of this subclass
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S438/00—Semiconductor device manufacturing: process
    • Y10S438/942—Masking
    • Y10S438/948—Radiation resist
    • Y10S438/951—Lift-off
NL6714180.A 1966-10-27 1967-10-19 Werkwijze voor het vormen van metalen contacten van zeer smalle afmetingen op een geintegreerde silicium halfgeleiderinrichting, en produkt van deze werkwijze. NL159232B (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US58993166A 1966-10-27 1966-10-27

Publications (2)

Publication Number Publication Date
NL6714180A NL6714180A (de) 1968-04-29
NL159232B true NL159232B (nl) 1979-01-15

Family

ID=24360161

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL6714180.A NL159232B (nl) 1966-10-27 1967-10-19 Werkwijze voor het vormen van metalen contacten van zeer smalle afmetingen op een geintegreerde silicium halfgeleiderinrichting, en produkt van deze werkwijze.

Country Status (8)

Country Link
US (1) US3558352A (de)
BE (1) BE703102A (de)
CH (1) CH485326A (de)
ES (1) ES346421A1 (de)
FR (1) FR1538798A (de)
GB (1) GB1174832A (de)
NL (1) NL159232B (de)
SE (1) SE334423B (de)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL6914593A (de) * 1969-09-26 1971-03-30
US3604986A (en) * 1970-03-17 1971-09-14 Bell Telephone Labor Inc High frequency transistors with shallow emitters
US3837905A (en) * 1971-09-22 1974-09-24 Gen Motors Corp Thermal oxidation of silicon
CA1053994A (en) * 1974-07-03 1979-05-08 Amp Incorporated Sensitization of polyimide polymer for electroless metal deposition
US4510347A (en) * 1982-12-06 1985-04-09 Fine Particles Technology Corporation Formation of narrow conductive paths on a substrate

Also Published As

Publication number Publication date
FR1538798A (fr) 1968-09-06
US3558352A (en) 1971-01-26
SE334423B (de) 1971-04-26
NL6714180A (de) 1968-04-29
DE1589975A1 (de) 1970-04-30
BE703102A (de) 1968-01-15
GB1174832A (en) 1969-12-17
ES346421A1 (es) 1968-12-16
CH485326A (de) 1970-01-31
DE1589975B2 (de) 1975-06-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL152114B (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van een meerlaagshalfgeleiderinrichting en met deze werkwijze vervaardigde halfgeleiderinrichting.
NL154870B (nl) Metalen montageband te gebruiken bij de fabricage van halfgeleiderinrichtingen, werkwijze voor het met behulp van deze montageband fabriceren van halfgeleiderinrichtingen en met deze werkwijze verkregen halfgeleiderinrichting.
NL160436C (nl) Halfgeleiderinrichting voor het opwekken en uitzenden van elektromagnetische straling.
NL153823B (nl) Werkwijze ter vervaardiging van voorwerpen die geheel of gedeeltelijk uit boriumnitride bestaan, alsmede volgens deze werkwijze vervaardigde voorwerpen.
NL143940B (nl) Werkwijze voor het katalytisch hydrogeneren van een blokcopolymeer, alsmede uit de bereide produkten vervaardigde voorwerpen.
NL172710C (nl) Halfgeleiderlaser en werkwijze voor het vervaardigen van deze laser.
NL142711B (nl) Werkwijze voor het stabiliseren van polycarbonaten tegen de invloed van ultraviolette straling en voorwerpen, vervaardigd onder toepassing van deze werkwijze.
NL153947B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van halfgeleiderinrichtingen, waarbij een selectief elektrolytisch etsproces wordt toegepast en halfgeleiderinrichting verkregen met toepassing van de werkwijze.
NL142251B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van fijn verdeelde, elektrostatografische tonerdeeltjes.
NL7508658A (nl) Werkwijze voor het stabiliseren van gemodificeerd polyfenyleenoxyde, alsmede daaruit vervaardigde voorwerpen.
NL145396B (nl) Werkwijze ter vervaardiging van een geintegreerde halfgeleiderinrichting en geintegreerde halfgeleiderinrichting, vervaardigd volgens de werkwijze.
NL148016B (nl) Werkwijze voor het vormen van gladde buitenoppervlakken van nauwkeurige afmetingen aan een lichaam uit een glasachtig materiaal, en een volgens die werkwijze gevormd lichaam.
NL154868B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van halfgeleiderinrichtingen en halfgeleiderinrichtingen volgens deze werkwijze verkregen.
NL163458C (nl) Werkwijze voor het bekleden van een voorwerp.
NL152116B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een ingekapselde halfgeleiderinrichting en ingekapselde halfgeleiderinrichting vervaardigd volgens de werkwijze.
NL149095B (nl) Inrichting voor het smeden van werkstukken.
NL154062B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een geintegreerde halfgeleiderschakeling, alsmede geintegreerde halfgeleiderschakeling, vervaardigd met deze werkwijze.
NL155663B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van halfgeleiderinrichtingen, alsmede voorwerp vervaardigd volgens deze werkwijze.
NL159232B (nl) Werkwijze voor het vormen van metalen contacten van zeer smalle afmetingen op een geintegreerde silicium halfgeleiderinrichting, en produkt van deze werkwijze.
NL139843B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van halfgeleiderinrichtingen, alsmede aldus vervaardigde halfgeleiderinrichtingen.
NL162209B (nl) Werkwijze voor het aantonen van tegen allergenen gerichte reagin-immunoglobulinen, alsmede inrichting en reagentia voor het uitvoeren van deze werkwijze.
NL140101B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting en halfgeleiderinrichting vervaardigd volgens deze werkwijze.
NL164157C (nl) Geintegreerde halfgeleiderschakeling van het ladings- gekoppelde type en werkwijze voor het vervaardigen van een dergelijke halfgeleiderschakeling.
NL144777B (nl) Werkwijze voor het gelijktijdig vervaardigen van een aantal in een halfgeleiderlichaam opgenomen halfgeleiderinrichtingen en halfgeleiderlichaam vervaardigd volgens deze werkwijze.
NL154059B (nl) Werkwijze voor het etsen van siliciumnitride in aanwezigheid van gedoteerd silicium.

Legal Events

Date Code Title Description
V1 Lapsed because of non-payment of the annual fee
NL80 Information provided on patent owner name for an already discontinued patent

Owner name: I B M