NL7612257A - Werkwijze voor het vervaardigen van een halfge- leiderinrichting alsmede een volgens deze werk- wijze vervaardigde halfgeleiderinrichting. - Google Patents

Werkwijze voor het vervaardigen van een halfge- leiderinrichting alsmede een volgens deze werk- wijze vervaardigde halfgeleiderinrichting.

Info

Publication number
NL7612257A
NL7612257A NL7612257A NL7612257A NL7612257A NL 7612257 A NL7612257 A NL 7612257A NL 7612257 A NL7612257 A NL 7612257A NL 7612257 A NL7612257 A NL 7612257A NL 7612257 A NL7612257 A NL 7612257A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
semi
conductor device
procedure
manufacturing
manufactured according
Prior art date
Application number
NL7612257A
Other languages
English (en)
Dutch (nl)
Original Assignee
Ncr Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ncr Co filed Critical Ncr Co
Publication of NL7612257A publication Critical patent/NL7612257A/xx

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P30/00Ion implantation into wafers, substrates or parts of devices
    • H10P30/20Ion implantation into wafers, substrates or parts of devices into semiconductor materials, e.g. for doping
    • H10P30/202Ion implantation into wafers, substrates or parts of devices into semiconductor materials, e.g. for doping characterised by the semiconductor materials
    • H10P30/204Ion implantation into wafers, substrates or parts of devices into semiconductor materials, e.g. for doping characterised by the semiconductor materials into Group IV semiconductors
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P30/00Ion implantation into wafers, substrates or parts of devices
    • H10P30/20Ion implantation into wafers, substrates or parts of devices into semiconductor materials, e.g. for doping
    • H10P30/21Ion implantation into wafers, substrates or parts of devices into semiconductor materials, e.g. for doping of electrically active species
    • H10P30/212Through-implantation
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P32/00Diffusion of dopants within, into or out of wafers, substrates or parts of devices
    • H10P32/10Diffusion of dopants within, into or out of semiconductor bodies or layers
    • H10P32/14Diffusion of dopants within, into or out of semiconductor bodies or layers within a single semiconductor body or layer in a solid phase; between different semiconductor bodies or layers, both in a solid phase
    • H10P32/1404Diffusion of dopants within, into or out of semiconductor bodies or layers within a single semiconductor body or layer in a solid phase; between different semiconductor bodies or layers, both in a solid phase using predeposition followed by drive-in of impurities into the semiconductor surface, e.g. predeposition from a gaseous phase
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P32/00Diffusion of dopants within, into or out of wafers, substrates or parts of devices
    • H10P32/10Diffusion of dopants within, into or out of semiconductor bodies or layers
    • H10P32/17Diffusion of dopants within, into or out of semiconductor bodies or layers characterised by the semiconductor material
    • H10P32/171Diffusion of dopants within, into or out of semiconductor bodies or layers characterised by the semiconductor material being group IV material
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W10/00Isolation regions in semiconductor bodies between components of integrated devices
    • H10W10/01Manufacture or treatment
    • H10W10/031Manufacture or treatment of isolation regions comprising PN junctions
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W10/00Isolation regions in semiconductor bodies between components of integrated devices
    • H10W10/30Isolation regions comprising PN junctions
NL7612257A 1975-11-10 1976-11-04 Werkwijze voor het vervaardigen van een halfge- leiderinrichting alsmede een volgens deze werk- wijze vervaardigde halfgeleiderinrichting. NL7612257A (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US05/630,490 US4001050A (en) 1975-11-10 1975-11-10 Method of fabricating an isolated p-n junction

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL7612257A true NL7612257A (nl) 1977-05-12

Family

ID=24527389

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL7612257A NL7612257A (nl) 1975-11-10 1976-11-04 Werkwijze voor het vervaardigen van een halfge- leiderinrichting alsmede een volgens deze werk- wijze vervaardigde halfgeleiderinrichting.

Country Status (7)

Country Link
US (1) US4001050A (2)
JP (1) JPS5260068A (2)
DE (1) DE2650865A1 (2)
FR (1) FR2331153A1 (2)
GB (1) GB1522269A (2)
IT (1) IT1067265B (2)
NL (1) NL7612257A (2)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3044132A1 (de) * 1980-11-24 1982-07-15 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Dynamische halbleiter-speicherzelle mit wahlfreiem zugriff und verfahren zu ihrer herstellung
US5250837A (en) * 1991-05-17 1993-10-05 Delco Electronics Corporation Method for dielectrically isolating integrated circuits using doped oxide sidewalls
US5250461A (en) * 1991-05-17 1993-10-05 Delco Electronics Corporation Method for dielectrically isolating integrated circuits using doped oxide sidewalls
US6509237B2 (en) * 2001-05-11 2003-01-21 Hynix Semiconductor America, Inc. Flash memory cell fabrication sequence
US6492710B1 (en) 2001-06-07 2002-12-10 Cypress Semiconductor Corp. Substrate isolated transistor
US6905955B2 (en) * 2003-02-04 2005-06-14 Micron Technology, Inc. Methods of forming conductive connections, and methods of forming nanofeatures

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3717507A (en) * 1969-06-19 1973-02-20 Shibaura Electric Co Ltd Method of manufacturing semiconductor devices utilizing ion-implantation and arsenic diffusion
NL96608C (2) * 1969-10-03
BE759667A (fr) * 1969-12-01 1971-06-01 Philips Nv Procede permettant la fabrication d'un dispositif semiconducteur, et dispositif semiconducteur obtenu par la mise en oeuvre de ce procede
US3856578A (en) * 1972-03-13 1974-12-24 Bell Telephone Labor Inc Bipolar transistors and method of manufacture
US3756861A (en) * 1972-03-13 1973-09-04 Bell Telephone Labor Inc Bipolar transistors and method of manufacture
US3891480A (en) * 1973-10-01 1975-06-24 Honeywell Inc Bipolar semiconductor device construction
US3898105A (en) * 1973-10-25 1975-08-05 Mostek Corp Method for making FET circuits

Also Published As

Publication number Publication date
US4001050A (en) 1977-01-04
JPS6156607B2 (2) 1986-12-03
IT1067265B (it) 1985-03-16
JPS5260068A (en) 1977-05-18
GB1522269A (en) 1978-08-23
FR2331153A1 (fr) 1977-06-03
FR2331153B1 (2) 1979-03-09
DE2650865A1 (de) 1977-05-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL7506594A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfge- leiderinrichting en halfgeleiderinrichting ver- vaardigd met behulp van de werkwijze.
NL176818C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting.
NL7510903A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgelei- derinrichting, en inrichting vervaardigd volgens de werkwijze.
NL7613440A (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting.
NL7609815A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een half- geleiderinrichting en halfgeleiderinrichting vervaardigd met behulp van de werkwijze.
NL186478C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting.
NL7510336A (nl) Halfgeleiderinrichting en werkwijze voor het ver- vaardigen daarvan.
NL7602960A (nl) Werkwijze ter vervaardiging van een halfgeleider- inrichting.
NL170901B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting.
NL7608923A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting.
NL161305C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderin- richting.
NL7506519A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een veldeffekt- transistor, en veldeffekttransistor vervaardigd vol- gens deze werkwijze.
NL176416C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een thermo-electrische halfgeleiderinrichting.
NL7602783A (nl) Inrichting en werkwijze voor het vervaardigen van hechtomslagen.
NL7601576A (nl) Werkwijze voor het maken van een halfgeleider- -inrichting.
NL7610283A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een veldeffekttransistor.
NL7512238A (nl) Werkwijze voor het neerslaan van elektrodemateri- aal op een halfgeleider en halfgeleiderinrichting volgens deze werkwijze verkregen.
NL7609420A (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van een half-geleiderinrichting.
NL7416779A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een bipolai- re transistor en bipolaire transistor vervaardigd volgens deze werkwijze.
NL7509464A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een half- geleiderinrichting.
NL7609607A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een half- geleiderinrichting en halfgeleiderinrichting vervaardigd met behulp van de werkwijze.
NL7505134A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een half- geleiderinrichting.
NL7607298A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een inrichting en inrichting vervaardigd volgens de werkwijze.
NL7611057A (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van een halfgeleiderinrichting.
NL188124C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting van het ladinggekoppelde type.

Legal Events

Date Code Title Description
BV The patent application has lapsed