NL8103648A - Werkwijze voor de vervaardiging van voorvormen voor het trekken van optische vezels en voorvormen volgens deze werkwijze verkregen en inrichting voor het continu vervaardigen van optische vezels. - Google Patents
Werkwijze voor de vervaardiging van voorvormen voor het trekken van optische vezels en voorvormen volgens deze werkwijze verkregen en inrichting voor het continu vervaardigen van optische vezels. Download PDFInfo
- Publication number
- NL8103648A NL8103648A NL8103648A NL8103648A NL8103648A NL 8103648 A NL8103648 A NL 8103648A NL 8103648 A NL8103648 A NL 8103648A NL 8103648 A NL8103648 A NL 8103648A NL 8103648 A NL8103648 A NL 8103648A
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- preform
- glass
- core
- core glass
- optical fibers
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 36
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 title claims description 19
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 13
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 40
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 24
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 13
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 10
- 239000007858 starting material Substances 0.000 claims description 7
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 5
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 4
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 claims description 2
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims 1
- 239000011162 core material Substances 0.000 description 18
- 210000002381 plasma Anatomy 0.000 description 16
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 11
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N germanium dioxide Chemical compound O=[Ge]=O YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910006113 GeCl4 Inorganic materials 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 3
- IEXRMSFAVATTJX-UHFFFAOYSA-N tetrachlorogermane Chemical compound Cl[Ge](Cl)(Cl)Cl IEXRMSFAVATTJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 3
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910005793 GeO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 2
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003910 SiCl4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 230000005495 cold plasma Effects 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- SDJLVPMBBFRBLL-UHFFFAOYSA-N dsp-4 Chemical compound ClCCN(CC)CC1=CC=CC=C1Br SDJLVPMBBFRBLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011872 intimate mixture Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000011257 shell material Substances 0.000 description 1
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 239000004071 soot Substances 0.000 description 1
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01413—Reactant delivery systems
- C03B37/0142—Reactant deposition burners
- C03B37/01426—Plasma deposition burners or torches
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/02—Manufacture of glass fibres or filaments by drawing or extruding, e.g. direct drawing of molten glass from nozzles; Cooling fins therefor
- C03B37/025—Manufacture of glass fibres or filaments by drawing or extruding, e.g. direct drawing of molten glass from nozzles; Cooling fins therefor from reheated softened tubes, rods, fibres or filaments, e.g. drawing fibres from preforms
- C03B37/027—Fibres composed of different sorts of glass, e.g. glass optical fibres
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2205/00—Fibre drawing or extruding details
- C03B2205/30—Means for continuous drawing from a preform
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Description
t λ vr EHN 10.119 1 N.V. Philips' Gloeilampenfabrieken te Eindhoven "Werkwijze voor de vervaardiging van voorvormen voor het trekken van optische vezels en voorvormen volgens deze werkwijze verkregen en in- richting voor het continu vervaardigen van optische vezels".
De uitvinding heeft betrekking op een werkwijze voor de continue vervaardiging van een voorvorm, waaruit door trekken een optische vezel kan warden verkregen, door qp een uitgangslichaam uit de dampfaze kern- en mantelglas aan te brengen onder vanning van een voor-5 vorm in staafvorm en het uitgangslichaam met dezelfde snelheid uit de aanbrengzone weg te bewegen als waarop de voorvorm aangroeit.
De technische ontwikkeling op het gebied van de optische tele-ccmnunicatie maakt het steeds meer gewenst te kunnen beschikken over voorvormen van grote afmetingen voor het trekken van optische vezels.
10 Een werkwijze voor de vervaardiging van voorvormen is bekend uit het Amerikaanse octrooischrift no. 4,062,665. Bij het in dit octrooi-schrift beschreven proces warden op een uitgangslichaam glasdeeltjes afgezet uit kern en mantelmateriaal. Cp deze wijze wardt een poreuze voorvorm verkregen, die vervolgens door verhitting moet warden verglaasd.
15 Eerst na deze behandeling kan de voorvorm tot een vezel warden uitge-trokken.
De onderhavige uitvinding stelt zich een werkwijze voor de vervaardiging van een voorvorm van grote afmetingen tot doel, waarmade onmiddellijk een massieve voorvorm kan warden verkregen, die zonder 20 tussenbehandeling tot een vezel kan warden uitgetrokken. Volgens de uitvinding wardt aan deze opgave voldaan met een werkwijze die het kennerk draagt, dat massief kemglas direct op het uitgangslichaam wardt afgezet onder vorming van een kolcm uit kemglas door middel van een niet-isotherm plasma-geactiveerd C.V.D. proces en dat massief mantelglas di-25 rekt qp de kerhglaskolcm onder vorming van een mantel wardt afgezet eveneens door middel van een niet isotherm plasma-geactiveerd C.V.D. -proces. Onder een niet-isotherm plasma-geactiveerd C.V.D. proces wardt een depositie proces verstaan, waarbij een zogenaamd koud plasma toe-gepast wordt cm het depositie proces te activeren. In een dergelijk 30 plasma bezitten alleen electronen een hoge kinetische energie. Met een dergelijk plasma kunnen zelfs gasmengsels tot reactie warden gebracht, die niet thermisch geactiveerd kunnen warden. Er is verder gebleken dat bij toepassing van een niet-isotherm plasma geactiveerd C.V.D. proces 8103648 ΡΗΝ 10.119 2 ν' * bij tamelijk lage temperatuur direct uit de gasfaze glaslagen warden afgezet. Een aansluitende verhitting met bet doel het' afgezette materi-aal te verglazen, zoals bij de bekende processen (vlamhydrolyse, V.A.D.) waarbij een glasroet wardt afgezet, noodzakelijk is, kan bij het 5 volgende de uitvinding toegepaste proces achterwege blijven. Dit be-tekent tijd en energiewinst ten opzichte van de bekende processen.
Met de werkwijze volgens de uitvinding kunnen zowel voorvormen geschikt voor het .trekken ’van optische vezels van het zogenaamde stepped index type als voorvormen geschikt voor het trekken van 10 optische vezels van het zogenaamde graded index type warden vervaardigd. In het eerste geval wardt kemglas van ccnstante samens telling afgezet met een brekingsindex groter dan die van het mantelglas. In het tweede geval wardt de samenstelling van het kemglas zodanig gevarieerd dat naar de as van de gevontde kernglas-kolom toe de brekingsindex van het 15 kemglas toeneemt.
Het is heel goed mogelijk de werkwijze zodanig te modifi-ceren dat eenvoorvorm wardt vervaardigd die continu aan een einde aan-groeit en aan het andere einde wardt uitgetrokken tot een optische vezel.
20 In principe kunnen met de uitgevonden werkwijze voorvormen van elke gewenste afmeting worden vervaardigd. In de werkwijze volgens de uitvinding kunnen de gebruikelijke uitgangsstoffen warden toegepast en voorvormen van gebruikelijke samenstelling warden vervaardigd. De uitgangsmaterialen zijn zuurstof en siliciumtetrachloride, 25 waaraan ter verhoging Of verlaging van de brekingsindex een constante of varierende hoeveelheid GeCl4, PoCLj, of BC13, SiP4 kan zijn toe-gevoegd. Ook ccmbinaties van deze en eventueel andere zogenaamde doteringsstoffen zijn mogelijk.
Bij de beschrijving van de V.A.D. techniek (zie het boven-30 genoemde USP 4,062,665) wardt aangegeven dat voor het produceren van de glasdeeltjes ook plasmabranders kunnen warden toegepast, deze plasma's zijn isotherm van karakter. Het plasma wordt verkregen door hoog verhit argon te mengen met de reactiegassen. Een dergelijk proces bezit eveneens het nadeel dat de voorvorm moet worden gesinterd al-35 vorens deze tot een optische vezel kan worden uitgetrokken.
Een ander nadeel van de bekende VAD techniek is dat bij toepassing van dit proces er voor moet warden gezorgd dat de thermische uitzettingscoefficient van het kemglas gelijk is aan die van het 8103648 £BN 10.119 3 * * mantelglas cmdat anders bij het sinteren scheuren qptreden. Dit wordt volgens het genoemde DSP 4/062,665 daardoor bewerkstelligd dat het kemglas wordt gedoteerd met GeC>2 en het mantelglas met B^. De moeilijkheden bij graded index vezels kunnen hierdoor niet worden cp-5 gelost tenzij een overgangszcne met zcwel dotering van Ge02 en B2C>2 wordt toegepast. Bij de werkwijze volgens de uitvinding is deze irvaat-regel niet nodig. Noch bij de fabricage van de voorvorm, noch bij het uittrekken tot optische vezels treden scheuren in de voorvorm op, wanneer bijvoorbeeld het mantelglas bestaat uit zuiver Si02 en het kern-10 glas uit een mengsel van Si02 en Ge02.
Aan de hand van de bijgaande tekening zal een aantal uit-voeringsvormen van de uitvinding nader worden toegelicht. De beteke-nis van de figuren is als volgt:
Fig. 1 toont schematisch een uitvoeringsvorm van een in-15 richting voor het uitvoeren van de werkwijze voor de vervaardiging van een voarvcrm voor de vervaardiging van een optische vezel van het zogenaamde stepped index type.
Fig. 2 toont schematisch een uitvoeringsvorm van een in-richting voor het uitvoeren van een wsrkwijze voor de vervaardiging 20 van een voarvcrm voor de vervaardiging van een optische vezel van het graded index type.
Fig. 3 toont schematisch een uitvoeringsvorm van een in-richting waannede continu een optische vezel kan worden gevormd uit een tegelijkertijd gevormd wordende voorvorm.
25 Uitvoeringsvoorbeeld 1 (zie fig. 1) m een buisvormige reactiekamer 1 bijvoorbeeld uit kwarts cm metalen verontreinigingen te vermijden en cm de vocrtgang van het af zettingsproces visueel te kunnen volgen en optische metingen te kunnen verrichten aan de zich vormende preform wordt een staafvormig 30 uitgangslichaam 2 uit zuiver kwarts gestoken. Random de reactiekamer 1 bevinden zich de trilholen (microwave cavities) 3 en 4, die met een microgolfgenerator (niet getekend) zijn verbcnden. De buisvormige reactiekamer 1 is verder voorzien van een drietal gas inlaatbuizen waarvan er twee (5A/5B) zijn weergegeven, waarvan de openingen 120° 35 ten opzichte van elkaar versprongen zijn gerangschikt langs de cmtrek van de reactiekamer 1. Door deze buizen (5A/5B) worden de uitgangs-stoffen voor de vanning van mantelglas 6 geleid. De buisvormige reactiekamer 1 is verder voorzien van een inlaatbuis 7, waarvan de as in de 8103648 ' V v EHN 10.119 4 uitvoeringsvorm volgens fig. 1 saraenvalt met de as van de reactiekamer 1. Door deze fcuis 7 warden de uitgangsstoffen voor de vanning van kem-glasmateriaal 8 in de reactiekamer 1 geleid. Het andere einde van de reactiekamer is voorzien van een gasuitlaatbuis 9 en een pomp 10 voor 5 de afvoer van gasvormige reactieproducten (C^/C^).
Bij het begin van het proces bevindt een einde van de sub-straatstaaf 2 (uitgangslichaam) zich qp de plaats in de reactiekamer 1, waar door middel van de trilholte 3 een plasma wordt gevormd. Ver-volgens wordt een mengsel van zuurstof en siliciumtetrachloride en een 10 doteringsmateriaal zoals GeCl4 in de buis geleid. Het plasma 3A wordt onts token met het gevolg dat een kemglas bestaande uit een innig mengsel van Si02 en Ge02 wordt afgezet op de substraatstaaf 2. De staaf 2 wordt met een zodanige snelheid naar rechts bewogen (zie horizontale pijl) dat bij continu toevoer van de uitgangsstoffen een kolan 8 15 uit kemglasmateriaal wordt gevormd. Het biedt voordeel de substraatstaaf 2 tijdens het afzettingsproces te roteren. Nadat een kolcm van een bepaalde lengte is gevormd wordt door de inlaattuizen (5A/5B) waar-van de openingen tussen de trilholten 3 en 4 zijn gelegen, uitgangsstoffen voor de vanning van mantelglasmateriaal geleid en het plasma 20 binnen de trilholte 4 ontstoken Het verdient aanbeveling het proces-verloop zodanig in te richten dat 00k mantelglasmateriaal qp de substraatstaaf 2 wordt afgezet. Op deze wijze wordt een stevige ver binding tussen de zich vormende voorvorm (8, 6) en de substraatstaaf 2 ver-kregen. Ook kan dit verbindingsdeel dienen cm naderhand de voorvorm 25 in te klemmen bij het uittrekken tot een optische fiber. Door middel van niet getekende ovens wordt de temperatuur qp plaatsen waar materiaal wordt afgezet tussen 1000 en 1200°G gehouden, bij voorkeur (¾) 1150°C. Tijdens het hele afzettingsproces wordt de substraatstaaf 2 en de zich vormende voorvorm bij voorkeur geroteerd.
30 In een practisch geval bedroeg de binnendiameter van de buis- vormige reactiekamer 1:3 cm. De kamer bestond uit een kwartsbuis met 3 een wanddikte van 1 mm. Een gasnengsel bestaande uit Cl (200 n cm /min), 3 3 Δ
SiCl4 (30 n cm /min), GeCl4 (3 n cm /min) werd door de gasinlaatbuis 7 in de reactiekamer geleid. De frequentie van het electrisch veld in 35 de trilholte 3 bedroeg 2.45 GHz. Vervolgens werden door de inlaatbuizen Λ een gasmengsel bestaaande uit C>2 (600 n cm^/min) en SiCl4 (120 n atr/min) in de reactiekamer geleid.
8103648 « -J» HJN 10.119 5
De frequentie van het electrlsch veld in de trilhole 4 be-droeg eveneens 2.45 GHz. Door middel van de gevormde plasma's 3A.en 4A werd het depos itieproces geactiveerd. Er werd met een snelheid van 0,15 αη/min een voorvom gevormd met een totale diameter van 10 inn.
5 De diameter van de subs treats taaf 2 bedroeg 5 rtm. Uit de gevormde voorvorm (lengte 20 cm) werd een stepped index fiber getrokken met een kern van 50^um en een totale diameter van 125^,um en een lengte van 1 km. Het is duidelijk, dat de reactiekamer 1 ook verticaal kan zijn opgesteld. Verder is het mogelijk meer dan twee trilholtes toe te 10 passen en cp meer dan twee plaatsen mengsels van uitgangsstoffen in de reactiekamer 1 te laten binnenstrcmen. Op deze wijze kunnen een aantal lagen kemglas met verschillende samens telling en brekings index over elkaar warden afgezet bijvoorbeeld voar de vorming van een voorvorm voor het trekken van een optische vezel van het graded index 15 type.
Uitvoeringsvoorbeeld 2 (zie fig. 2)
Fig. 2 toont schematisch een uitvoeringsvorm van een werk-wijze voor het continue vervaardigen van een voorvorm voor het trekken 20 van cptische vezels van het graded index type. Bij deze werkwijze wordt een plasma toegepast, dat wordt gegenereerd met behulp van de tril-holte 29. De depositie reactie wordt uitgevoerd in een cylindrische reactieruirnte 28 uit kwartsglas voorzien van een aantal inlaatbuizen 21 tot en met 27, resp. 1 " tot en met 6 Doer de buizen 21 tot en met 25 24 (en 21" tot en met 24 ") wordt een mengsel van SiCl^ en GeCl^ geleid, waarbij de verhouding SiCl^ tot GeCl^ in het nengsel van 21 naar 24 (en 21 " en 24”) toeneemt. Zuurstof wordt toegevoerd door de buis 27.
Door de tuizen 25 en 26 (en 25" en 26") wordt SiCl^ toegevoerd voor de vorming van mantelglas. Door de samens telling van de toegevoerde gassen 30 zorgvuldig cp elkaar af te steranen kan de mate van dotering van het afgezette kemglasmateriaal warden geregeld. Bij toepassing van meer inlaatbiizen en vergroting van de snelheid van de gastoevoer kan de afzetsnelhsid worden vergroot. De temperatuur cp het oppervlak van de zich vorrtiende voorvorm wordt gehandhaafd op een temperatuur tussen 35 1100 en 1200°C. Hierdoor wordt voorkernen, dat chloor in het afgezette glas wordt ingebouwd. De temperatuur kan worden ingesteld door middel van het vermogen dat in het plasma wordt gedissipeerd. Het proces wordt overigens op dezelfde wijze uitgevoerd als beschreven in uit- 8103648 EHN 10.119 6 voeringsvoorbeeld 1, de zich vormend voorvorm 8/6 wordt ook hier tijdens het afzettingsproces geroteerd. In de schematisch weergegeven inrichting volgens figuur 3 hebben overeenkatistige cijferaanduidingen dezelfde betekenis als in de figuren 1 en 2. In de figuur is verder 5 schematisch een microgolfgenerator 31, ondersteuningswielen 32 en 33 en een oven 34 aangegeven. De figuur laat zien, dat aan een einde een voorvorm voor het trekken van een optische fiber van het stepped index type wordt gevormd terwijl aan het andere eind deze voorvorm wordt uit-getrokken tot een fiber hiertoe.-wordt in de reactiekamer 28 zuurstof 10 (via inleidfcuis 27) en een mengsel van SiCl. en GeCl. (via de inleid-
1 ’ ’ 1 I
hiizen 21 en 21 ) en SiCl^ (via de inleidbuizen 25 en 26 resp. 25 en 26 ) geleid. Er wordt een kern 8 uit GeO^SiC^ glas en een mantel uit Si02 gevormd. Het plasma wordt gegenereerd met behulp van de trilholte 29 die verbonden is met een schematisch aangegeven microgolfgenerator 31.
15 Met behulp van de pomp 10 worden reactiegassen uit de reactieruimte 28 weggepompt en een onderdruk gehandhaafd. Dank zij deze onderdruk en geleidewielen die met een regelbare snelheid kunnen worden geroteerd (waarvan er twee in de figuur zijn aangegeven: 32 en 33) is het nogelijk de voorvorm met een constante snelheid uit de reactiekamer 28 te be-20 wegen en tegelijkertijd aan de onderzijde een fiber te trekken waartoe een oven 33 de voorvorm ter plaatse tot de trektemperatuur (ca. 2000°C) verhit en een trekinrichting (niet getekend) aanwezig is . Met een inrichting van deze aard kunnen continu optische vezels van goede kwaliteit met hoge snelheid worden vervaardigd.
25 30 81 0 3 6 4 8 35
Claims (5)
1. Werkwijze voor de cantinu vervaardiging van een voorvorm waaruit door trekken een cptische vezel kan warden verkregen, door qp een uitgangslichaam uit de dampfaze kern- en mantelglas aan te hrengen coder vorming van een voorvorm in staafvorm en het uitgangslichaam 5 met dezelfde snelheid uit de aanhrengzone weg te bewegen als waarop de voorvorm aangroeit,met het kenmerk, dat massief kemglas direkt op het uitgangslichaam wordt afgezet onder vorming van een kemglas kolcm door middel van een niet-isotherm-plasma geactiveerd C.V.D. proces en dat massief mantelglas direkt op de kemglaskolam onder vorming van 10 een mantelglaslaag wordt afgezet eveneens door middel van een niet-isotherm plasma-geactiveerd C.V.D. proces.
2. Werkwijze volgens ccnclusie 1 met het kenmerk, dat kemglas van constante samenstelling wordt afgezet met een hogere hrekings-index dan het mantelglas.
3. Werkwijze volgens ccnclusie 1, met het kenmerk, dat de sanen- stelling van het kemglas dat wordt afgezet zodanig wordt gevarieerd dat de hrekingsindex naar de as van de kemglaskolan toeneemt.
4. Werkwijze volgens ccnclusie 1-3 met het kenmerk, dat de zich vormende voorvorm wordt uitgetrokken tot een fiber.
5. Inrichting voor het cantinu vervaardigen van qptische vezels uit een voorvorm, net het kenmerk, dat de inrichting cmvat: a. een reactieruimfce waarin een niet-isotherm plasma kan gegenereerd met behulp van een trilholte, die de depositieruimte ongeeft, en gasinlaatfcuizen voor het toevoeren van de uitgangsstoffen aan de 25 reactieruimfce. b. Middelen cm de voorvorm met een geregelde snelheid uit de reactie-ruimte te bewegen. c. Middelen cm de reactieruimfce op onderdruk te behouden. d. Een de voorvorm cmringende trekoven. 30 e. Een trekinrichting voor het uittrekken van de voorvorm tot een fiber. 8103648 35
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL8103648A NL8103648A (nl) | 1981-08-03 | 1981-08-03 | Werkwijze voor de vervaardiging van voorvormen voor het trekken van optische vezels en voorvormen volgens deze werkwijze verkregen en inrichting voor het continu vervaardigen van optische vezels. |
| DE8282200958T DE3264273D1 (en) | 1981-08-03 | 1982-07-27 | Method of producing preforms for drawing optical fibres and apparatus for the continuous production of optical fibres |
| EP82200958A EP0072069B1 (en) | 1981-08-03 | 1982-07-27 | Method of producing preforms for drawing optical fibres and apparatus for the continuous production of optical fibres |
| CA000408439A CA1192096A (en) | 1981-08-03 | 1982-07-29 | Method of producing preforms for drawing optical fibres and preforms obtained in accordance with this method and apparatus for the continuous production of optical fibres |
| JP13300582A JPS5826045A (ja) | 1981-08-03 | 1982-07-31 | 光フアイバの製造方法および装置 |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL8103648 | 1981-08-03 | ||
| NL8103648A NL8103648A (nl) | 1981-08-03 | 1981-08-03 | Werkwijze voor de vervaardiging van voorvormen voor het trekken van optische vezels en voorvormen volgens deze werkwijze verkregen en inrichting voor het continu vervaardigen van optische vezels. |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| NL8103648A true NL8103648A (nl) | 1983-03-01 |
Family
ID=19837887
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| NL8103648A NL8103648A (nl) | 1981-08-03 | 1981-08-03 | Werkwijze voor de vervaardiging van voorvormen voor het trekken van optische vezels en voorvormen volgens deze werkwijze verkregen en inrichting voor het continu vervaardigen van optische vezels. |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0072069B1 (nl) |
| JP (1) | JPS5826045A (nl) |
| CA (1) | CA1192096A (nl) |
| DE (1) | DE3264273D1 (nl) |
| NL (1) | NL8103648A (nl) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2117754B (en) * | 1982-04-07 | 1985-07-24 | Ass Elect Ind | Continuous process for manufacture of optical fibre waveguides |
| DE3217839A1 (de) * | 1982-05-12 | 1983-11-17 | Hans Dr.Rer.Nat. 5370 Kall Beerwald | Plasmaverfahren zur herstellung eines dielektrischen stabes |
| CA1218270A (en) * | 1982-07-26 | 1987-02-24 | Herman M. Presby | Method of fabricating optical fiber preforms |
| EP0173659B1 (en) * | 1984-07-03 | 1989-03-08 | Stiftelsen Institutet För Mikrovägsteknik Vid Tekniska Högskolan I Stockholm | Method and apparatus for heating thick-walled glass tubes |
| GB2208656B (en) * | 1985-06-29 | 1990-01-17 | Stc Plc | Pulsed radio frequency plasma apparatus and process |
| GB2192876B (en) * | 1985-10-14 | 1989-10-18 | Nippon Carbon Co Ltd | A method for manufacturing a silicon carbide fiber reinforced glass composite |
| NL1019076C2 (nl) * | 2001-10-01 | 2003-04-02 | Draka Fibre Technology Bv | Werkwijze voor het aanbrengen van een of meer glaslagen op het uitwendig oppervlak van een uit glas samengesteld staafvormig vormdeel, alsmede een daarvoor geschikte inrichting. |
| US6928839B2 (en) * | 2002-08-15 | 2005-08-16 | Ceramoptec Industries, Inc. | Method for production of silica optical fiber preforms |
| CN116936329B (zh) * | 2023-09-15 | 2023-12-15 | 武汉市飞瓴光电科技有限公司 | 一种常压微波等离子体双波导耦合装置 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL165134B (nl) * | 1974-04-24 | 1980-10-15 | Nippon Telegraph & Telephone | Werkwijze voor de vervaardiging van een staaf als tussenprodukt voor de vervaardiging van een optische vezel en werkwijze voor de vervaardiging van een optische vezel uit zulk een tussenprodukt. |
| DE2444100C3 (de) * | 1974-09-14 | 1979-04-12 | Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg | Verfahren zur Herstellung von innenbeschichteten Glasrohren zum Ziehen von Lichtleitfasern |
| JPS5171146A (en) * | 1974-12-18 | 1976-06-19 | Fujikura Ltd | Kogakuseniyobozaino seizohoho |
| JPS5434843A (en) * | 1977-08-23 | 1979-03-14 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Production of stock for optical fibers |
| IT1091498B (it) * | 1977-11-25 | 1985-07-06 | Cselt Centro Studi Lab Telecom | Procedimento ed apparecchiatura per la produzione continua di fibre ottiche |
| US4230473A (en) * | 1979-03-16 | 1980-10-28 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Method of fabricating optical fibers |
| DE3036915C2 (de) * | 1979-10-09 | 1987-01-22 | Nippon Telegraph And Telephone Corp., Tokio/Tokyo | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Lichtleitfaserausgangsformen sowie deren Verwendung zum Ziehen von Lichtleitfasern |
-
1981
- 1981-08-03 NL NL8103648A patent/NL8103648A/nl not_active Application Discontinuation
-
1982
- 1982-07-27 DE DE8282200958T patent/DE3264273D1/de not_active Expired
- 1982-07-27 EP EP82200958A patent/EP0072069B1/en not_active Expired
- 1982-07-29 CA CA000408439A patent/CA1192096A/en not_active Expired
- 1982-07-31 JP JP13300582A patent/JPS5826045A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0072069A1 (en) | 1983-02-16 |
| JPS5826045A (ja) | 1983-02-16 |
| EP0072069B1 (en) | 1985-06-19 |
| CA1192096A (en) | 1985-08-20 |
| DE3264273D1 (en) | 1985-07-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN1129558C (zh) | 采用等离子外部汽相沉积法制造用于光纤生产的管状件的方法 | |
| US4135901A (en) | Method of manufacturing glass for optical waveguide | |
| CA1080562A (en) | Method of and apparatus for manufacturing an optical fibre with plasma activated deposition in a tube | |
| EP0096878B1 (en) | Fabrication of preforms for optical fibers by chemical vapor deposition using a plasma torch | |
| US6536240B1 (en) | Method of making an optical fiber preform via multiple plasma depositing and sintering steps | |
| AU750390B2 (en) | Method of making an optical fiber preform | |
| EP0064785A1 (en) | Method and arrangement for internally coating a tube by reactive deposition from a gas mixture activated by a plasma | |
| NL1034058C2 (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een voorvorm alsmede werkwijze voor het uit een dergelijke voorvorm vervaardigen van optische vezels. | |
| CN101987778B (zh) | 一种制造用于光纤的初级预制棒的方法 | |
| CA1192096A (en) | Method of producing preforms for drawing optical fibres and preforms obtained in accordance with this method and apparatus for the continuous production of optical fibres | |
| US20110023549A1 (en) | Method and device for manufacturing a primary preform for optical fibres | |
| CN1111514C (zh) | 一种制作大型光纤预制棒的方法 | |
| US8904827B2 (en) | Method of manufacturing an optical fibre, preform and optical fibre | |
| US4341541A (en) | Process for the production of optical fiber | |
| EP0107428A2 (en) | Plasma processed sinterable ceramics | |
| GB2133786A (en) | Silica tube manufacture | |
| MXPA00010905A (en) | Method of making an optical fiber preform | |
| GB2351287A (en) | Making optical fibre preforms using plasma outside vapour deposition | |
| NL2006688C2 (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een primaire voorvorm voor optische vezels. | |
| JPS5869732A (ja) | プラズマｃｖｄ法におけるガラスパイプの加熱方法 | |
| NL8302641A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van vooraf gevormde optische vezellichamen. |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A1B | A search report has been drawn up | ||
| BV | The patent application has lapsed |