NO143100B - Fremgangsmaate for fremstilling av belagt glass - Google Patents
Fremgangsmaate for fremstilling av belagt glass Download PDFInfo
- Publication number
- NO143100B NO143100B NO780671A NO780671A NO143100B NO 143100 B NO143100 B NO 143100B NO 780671 A NO780671 A NO 780671A NO 780671 A NO780671 A NO 780671A NO 143100 B NO143100 B NO 143100B
- Authority
- NO
- Norway
- Prior art keywords
- glass
- coating
- silane
- ethylene
- gas
- Prior art date
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 68
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 19
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 75
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 65
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 47
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 39
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 36
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 33
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 33
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 32
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 claims description 32
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 26
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 24
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 14
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 10
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 claims description 6
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 claims description 6
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 claims description 4
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 4
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 3
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 2
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 11
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 8
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 8
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- 230000008859 change Effects 0.000 description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 7
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 6
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 5
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- -1 acetylene hydrocarbon Chemical class 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052915 alkaline earth metal silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 2
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Chemical class 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 150000001343 alkyl silanes Chemical class 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 229910000428 cobalt oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N cobalt(ii) oxide Chemical compound [Co]=O IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 239000013068 control sample Substances 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N disilane Chemical compound [SiH3][SiH3] PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N fluoroethene Chemical group FC=C XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008246 gaseous mixture Substances 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 150000002926 oxygen Chemical class 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N pentene Chemical compound CCCC=C YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M sodium;oxocalcium;hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+].[Ca]=O HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- VEDJZFSRVVQBIL-UHFFFAOYSA-N trisilane Chemical compound [SiH3][SiH2][SiH3] VEDJZFSRVVQBIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/06—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with metals
- C03C17/09—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with metals by deposition from the vapour phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/213—SiO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
- C03C2218/152—Deposition methods from the vapour phase by cvd
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31551—Of polyamidoester [polyurethane, polyisocyanate, polycarbamate, etc.]
- Y10T428/31609—Particulate metal or metal compound-containing
- Y10T428/31612—As silicone, silane or siloxane
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
Fremgangsmåte for fremstilling av belagt glass.
Description
Foreliggende oppfinnelse vedrører en fremgangsmåte for
belegging av glass med et silisiumholdig belegg og er en forbedring i forhold til den fremgangsmåte som er omhandlet i norsk patentskrift 140 533 hvor det beskrives en frem-
gangsmåte omfattende å bevege glasset forbi en beleggings-
stasjon mens temperaturen av glasset er minst 400°C idet en silan-holdig gass tilføres til beleggingsstasjonen, gassen slippes' ut nær den varme glassoverflate med et omtrent konstant trykk tvers over glassoverflaten inn i en varm sone hvori gassen oppvarmes, idet denne sone åpner seg mot og strekker seg tvers over glassoverflaten slik at silanet pyrolyserer og avsetter et silisiumholdig belegg på glass-overf laten, idet ikke-oksyderende betingelser opprettholdes i den nevnte varme sone. Det derved fremstilte glass har et omtrent ensartet silisiumbelegg og har gode egenskaper med hensyn til gjennomslipping av solskinn og har et til-
talende utseende.
Det er nå funnet at ved å tilsette en elektron-givende
forbindelse til den silanholdige gass som slippes ut nær en varm glassoverflate, forbedres alkali-motstandsevnen av silisiumbelegget på glasset.
Det er kjent fra artikkelen "Reactions of Silane with Unsatur-
ated Hydrocarbons" av David G. White og Eugene G. Rochow, Journal of the American Chemical Society, Bind 76, sidene 3887
til 3902, at under fremsilling av alkylsilaner ved reaksjon
i et oppvarmet rør i løpet av en 3 timers periode mellom et silan og etylen eller acetylen, avsettes et tynt lag av silisium på innsiden av det oppvarmede rør hvorigjennom de gassformede reaksjonskomponenter ble sirkulert. Det er et hovedformål for den foreliggende oppfinnelse å utnytte den erkjennelse at nærvær av en elektron-givende forbindelse meddeler alkali-motstandsevne til et silisiumbelegg på glass.
Oppfinnelsen vedrører således en fremgangsmåte for belegging
av glass med et silisiumholdig belegg som inneholder oksygen, hvor belegget har en brytningsindeks i området 2,5 - 3,5 og høy alkalimotstandsevne og glasset beveges forbi en beleggingsstasjon mens temperaturen av glasset er minst 400°C og silanholdig gass slippes ut nær glassoverflaten ved et omtrent konstant trykk tvers over glassoverflaten og ved nær-
vær av oksygen i en mengde mindre enn den som er nødvendig for å danne SiO, idet silanet pyrolyseres og et belegg avsettes på glassoverflaten, og det særegne ved fremgangsmåten i henhold til oppfinnelsen er at den silanholdige gass omfatter en andel av en gassformet elektrongivende forbindelse som meddeler den nevnte alkalimotstandsevne.
Disse og andre trekk ved oppfinnelsen fremgår av kravene.
Alkalimotstandsevnen av silisiumbelegget bestemmes på en måte som skal beskrives senere, ved å fastslå den tid silisiumbelegget motstår angrep av en sterk alkalisk løsning uten synlig skade. Fremgangsmåten i henhold til oppfinnelsen er nyttig for behandling av mange kommersielt fremstilte glassprodukter i forskjellige former som kan beveges forbi en beleggingsstasjon, f.eks. vindusglass, optisk glass og glassfibre. Slike glass-typer, som vanligvis inneholder oksyder av i det minste to elementer og som vanligvis er bly-silikatglass, alkalimetall-silikatglass og jordalkalimetall-silikatglass, spesielt sodakalk-kvarts glass. I noen tilfeller, i avhengighet av alkalimotstandsevnen av glasset og mengden av elektron-givende forbindelse som anvendes, kan alkalimotstandsevnen av den belagte overflate fremstilt ved fremgangsmåten i henhold til oppfinnelsen være større enn for glass-substratet.
KLektron-qivende forbindelser som anvcnJ.es for å meddele alkali-motstandsevnen til silisiumbelegget inneholder i deres elektroniske struktur enten i form av bindinger eller som uparrede elektroner, elektroner som kan avgis inn i den elektroniske struktur av passende akseptor-molekyler eller atomer. Den elektron-givende forbindelse kan være et olefin.
Den silanholdige gass omfatter foretrukket nitrogen som bærergass og opptil 6 volumprosent av en gassformet elektron-givende forbindelse.
Spesielt egnede elektron-givende forbindelser er olefiner, spesielt etylen.
Den silanholdige gass kan omfatte monosilan i nitrogen som bærergass og opptil 6 volumprosent av et gassformet olefin.
Forholdet mellom elektrongivende forbindelse til silan i gassen kan være i området 0,1 til 2,0 og foretrukket er dette
forhold i området 0,2 til 0,5. Mengdeforhold utenfor disse grenser kan være fordelaktige i noen tilfeller.
Den silanholdige gass kan videre omfatte 1 til 7 volumprosent monosilan, 0,5 til 6 volumprosent etylen og eventuelt en mengde hydrogen, idet resten er nitrogen.
Metoden kan således utøves med silanholdig gass inneholdende
0,3 til 7 volumprosent monosilan, 0,2 til 6 volumprosent gassformet elektrongivende forbindelse, og eventuelt en andel
av hydrogen, idet resten er nitrogen.
Når hydrogen er tilstede kan den silanholdige gass omfatte opptil 10 volumprosent hydrogen, men en større mengdeandel hydrogen kan også anvendes.
Den elektrongivende forbindelse kan være et acetylenhydrokarbnon, f.eks. acetylen, eller kan være et aromatisk hydrokarbon som f.eks. benzen, toluen eller xylen.
Den elektrongivende forbindelse kan være ammoniakk.
Glass fremstilt ved fremgangsmåten i henhold til oppfinnelsen, belagt med et reflekterende silisiumbelegg, er karakteristisk ved at belegget har en brytningsindeks i området 2,5 til 3,5,
og en alkalimotstandsevne slik at belegget ikke viser noe tegn på skade ved betraktning med det blotte øye etter neddykking i en normal natriumhydroksyd ved 90°C i minst 60 sekunder. Foretrukket viser belegget ikke noe tegn på skade etter minst
5 minutter.
Belegget er foretrukket slik at 30% av lyset fra C.I.E. Illuminant C lyskilde som faller inn på den belagte side av glasset reflekteres.
Brytningsindeksen for belegget kan være i området 2,8 til 3,4
og glasset kan være et soda-kalk-kvarts glass.
For at oppfinnelsen -skal lettere forstås skal noen eksempler på belegging av glass, f.eks. plant glass med en soda-kalk-kvarts-sammensetning, med et silisiumholdig belegg, beskrives.
Glassubstratet som skal belegges med et silisiumholdig belegg
er et standard kommersielt farvetonet, sollys-kontrollerende soda-kalk-kvarts glass, inneholdende små mengder av selen og koboltoksyd som fargende bestanddeler, av den type som frem-stilles i bånnform på et bad av smeltet metall. Glasset belegges mens det befinner seg ved en temperatur på minst 400°C og føres fremover forbi en beleggingsstasjon på den måte som er beskrevet i den ovennevnte patentansøkning som heri baie nevnes som referanse.
Når glasset belegges når det frembringes på et bad av
smeltet metall, kan belegget påføres inne i og nær utløps-
enden av tankstrukturen som inneholder badet av smeltet metall langs hvilket glasset beveges fremover i bånnform. I området ved utløpsenden av badet hvor beleg<q>ingen finner sted er temperaturen av glasset i området 600°C til 650°C.
Alternativt kan beleggingen gjennomføres på et glassbånd mens dette føres fremover gjennom en kjøleovn, idet gass-fordeleren befinner seg i kjøleovnen hvori glass-
temperaturen er i området 400°C til 750°C. Det glass som belegges kan være glass fremstilt ved hjelp av en valseprosess eller ved hjelp av en loddrett trekkeprosess. Oppfinnelsen er spesielt egnet for belegging av plant glass inklusive trådglass, i ark eller baneform, støpte glassgjenstander og glassfibre.
For å oppnå en brukbar hastighet på silanspaltingen bør glasset befinne seg ved en temperatur på minst 400°C og i området 4 00°C til 850°C foretrukket i området 500° til 850°C. For å unngå uønskede sidereaksjoner, f.eks. reaksjoner som resulterer i dannelse av silisiumkarbid, er det ønskelig å unngå glass-temperaturer over 850°C. I noen tilfeller kan en lavere maksimaltemperaturgrense være bestemt ut fra mykheten av glass-overf laten.
For å illustrere oppfinnelsen ble det gjennomført forsøk méd belegging av plant, farvetonet sollys-kontrollerende soda-kalk-kvarts-glass under anvendelse av forskjellige mengde-andeler av etylen (C2H4) i en silanholdig gass bestående av 5 volumprosent monosilan (SiH^) i nitrogen som bærergass.
De oppnådde resultater er vist i tabellene I og II.
I tabellen:
R max er maksimal lysrefleksjon uttrykt som prosent
andel av innfallende lys;
^ R max er den bølgelengde ved hvilken lysrefleksjon
fra belegget er et maksimum;
Brytningsindeksen av glasset er kjent slik at brytningsindeksen for belegget kan bestemmes ved 'å anvende en standard lyskilde. Beleggtykkelsen kan bestemmes fra optiske tykkelsesmålinger på kjent måte.
Alle de optiske målinger som er referert i beskrivelsen ble foretatt på kjent måte med den belagte overflate av glasset mot lyskilden som var en C.I.E. illuminant C lyskilde.
Tabell I viser at silisiumbelegget fremstilt på glasset i prøvene 2 til 12 med en mengdeandel av etylen i gassen hadde en forbedret alkalimotstandsevne i sammenlikning med det belagte glass fra forsøk 1, kontrollforsøket, fremstilt uten tilsetning av etylen til den silanholdige gass. Små variasjoner i mengde-andelen av tilstedeværende etylen syntes bare å brembrinye små endringer i de optiske egenskaper som ble meddelt glasset av det silisiumholdige belegg.
Resultatene viser at med et lite forhold mellom etylen og monosilan som i forsøkene 2, 3 og 4 er der ingen vesentlig endring i de optiske egenskaper men en overraskende økning i motstandsevnen av det silisiumholdige belegg mot alkaliangrep, ved at synelig bevis på angrep ikke viste seg før glasset hadde vært i kontakt med en normal natriumhydoksyd i minst 1 time.
De optiske egenskaper av silisiumholdig belegg i forsøk 1, 2
4, 5 og 12 ble målt. Ved målingene ble det foretatt kompensasjon for farvetoningen i glassubstatet ved å sammenlikne belagte og ikke-belagte prøver av det farvetonende glass-substat.
For dette ble det farvetonede substrat erstattet med 6 mm
tykt klart plant glass. Resultatene som er vist i tabell II
er de optiske egenskaper av prøver av 6 mm klart soda-kalk-kvarts glass fremstilt på et smeltet metallbad og som bærer ekvivalente belegg med dem som er fremstilt på et farvetonet glass-substrat som beskrevet med henvisning til tabell 1.
Når forholdet mellom etylen og silan i gassen er mindre enn
0,1 er der ingen vesentlig endring i egenskapene av det belagte glass i sammenlikning med prøve 1 fremstilt uten noe etylen i den silanh&ldige gass. Når mengden av etylen økes er der en stadig økning i alkalimotstandsevnen målt som tids-forløpet før synlig angrep vises opptil en tid på minst 5h 50 m når forholdet mellom etylen og silan er 1,2:1. Den forholds-vise mengde av etylen til silan førte generelt til en reduksjon i brytningsindeksen av silisiumbelegget og en derav følgende endring i de optiske egenskaper av det belagt glass. Ved å styre strømmen av etylen i forhold til strømmen av
silan i nitrogen var det mulig å oppnå forut bestemt optiske egenskaper, spesielt en høy refleksjonsevne, mens det ble oppnådd fordel med høy alkali-motstandsevne ved nærværet av etylen i den silanholdige gass.
Ved klimaforsøk hvor det belagte glass ble utsatt for en fuktig atmosfære besto det silisiumholdige belegg i prøve I, kontrollprøven, innvirkning i omtrent 10 døgn. Der var ingen synlig endring i silisiumbelegget i prøvene 2 til 12 etter 6 ukers testperiode. Testen ble gjennomført med serier på 5 belagte ark, hver kvadrater med sidekant 3 00 mm separert ved hjelp av partikkelformet .mellomliggende material og anbragt i et klimaskap hvori temperaturen ble holdt ved 60°C og relativ fuktighet ved 95% til 100%. Silisiumholdige belegg fremstilt ved hjelp av fremgangsmåten i henhold til oppfinnelsen under anvendelse av etylen ble undersøkt og sammenlignet med silisiumbelegg fremstilt i fravær av en elektrongivende forbindelse. Det mest bemerkelsesverdige trekk er en klar stigning i oksygeninnholdet av belegget, dvs. et fall i forholdet i silisium : oksygen, som skriver seg fra bruken av en elektron-givende forbindelse. Kilden for oksygenet er ikke kjent. Det antas at oksygenet kan skrive seg fra gassblandingen som kan inneholde noen deler per million av oksygen, eller fra glasset, eller fra atmosfæren i kontakt med det varme glass etter beleggingen. I det minste noe av oksygenet i belegget fremstilt i samsvar med op<p>finnelsen antas å være til stede i en forskjellig form fra eventuelt oksygen til stede i beleggene fremstilt i fravær av en elektron-givende forbindelse.
Dette oksygen er øyensynlig ansvarlig for en endring i topp-posisjonene og intensitetene av silisium-elektronene som iakttatt ved hjelp av ESCA (Electron Spectroscopy for Chemical Analysis). Når det for eksempel anvendes en høy mengdeandel
etylen iakttas klart hovedtoppen (2p) ved 102,0 eV sammenliknet med topper 103.3eV og 99.4eV som tilskrives silisiummetall henholds-vis oksydert silisium (Se CD. Wagner, Faraday Discussions of the Chemical Society 60, 1975, 296).
Alkalimotstandsevnen av belegget synes å være forbundet med
den høye mengdeandel av oksygen i belegget som i likhet med alkalimotstandsevnen synes å øke med økningen i forholdet mellom elktrongivende forbindelse til silan i gassen.
Analyse viste at ioner som f.eks. natrium, kalsium og magnesium
kan være til stede i belegget og deres fordeling i glassoverflaten og belegget avhenger av forholdet etylen:silan, og endringer i fordelingene viser tilbake på endringer i fordeling og tilstand av oksygen i belegget.
Når etyleninnholdet i den silanholdige gass økes ble brytningsindeksen av belegget gradvis redusert. Følgelig var det en gradvis nedsettelse både i lysrefleksjon og solvarmerefleksjon. Dette var ikke fulgt av noen særlig økning i optisk absorpsjon
av silisiumbeleggene slik at enhver reduksjon i refleksjonen ble oppveiet av en økning i transmisjon av lys og solvarme. Endringen i br^tningsindeks foregikk uten noen vesentlig endring
i tykkelsen av belegget som illustrert i tabell I.
Ved en ytterligere forsøksrekke ble klart soda-kalk-kvartsglass fremstilt på et bad av smeltet metall og ble belagt med et silisiumholdig belegg ved fremgangsmåten i henhold til oppfinnelsen, idet dette belegg viste seg å være overraskende motstandsdyktig overfor alkaliangrep.
Glasset ble belagt nær utløpsenden av tankstrukturen inneholdende det smeltede metallbad, hvori glasstemperaturen var i området 600°C til 650°C og resultatene som ble oppnådd er vist i tabellene III og IV.
Noen optiske egenskaper av disse prøver er angitt i tabell IV.
Manglende angivelse i tabellene III og IV indikerer at
verdien ikke ble målt under forsøkene.
Det ble overraskende funnet at når det anvendes etylen for å forbedre alkalimotstandsevnen av silisiumbelegg fremstilt på plant glass understøttet på et bad av smeltet metall, hadde etylengassen den virkning at den utjevnet de tilsynelatende ujevnheter i belegget som skrev seg fra avsetning av små metall-holdige partikler på glassoverflaten.
Liknende forsøk ble gjennomført med valset plant glass med sammensetning soda-kalk-kvarts ved en temperatur på 600°C og resultatene, som angitt i tabell IV viser en liknende varighet av silisiumbelegget når det utsettes for alkali-motstandstesten ved kontakt med en normal NaOH ved 90°C. Strømningshastighetene av etylen og silan i bærergassen ble innstilt til å frembringe lorut bestemte optiske egenskaper ved å variere forholdet ety]en:silan for derved å bestemme brytningsindeksen av belegget. Andre silaner som spaltes på varmt glass kan anvendes ved gjennom-føring' av oppfinnelsen, f.eks. høyere silaner som f.eks.
disilan eller trisilan, eller substituerte silaner som f.eks klorsilancr som vanligvis anvendes i nærvær av hydrogen.
Visse resultater viser at når etylen anvendes som elektron-givende forbindelse er det foretrukket at forholdet mellom etyden og silan i gassen er i området 0,1 til 2,0. Mer spesielt er forholdet mellom etylen og silan i gassen foretrukket 0,2 til 0,5.
Den gassblanding som foretrekkes anvendt i disse forsøk
viste seg å være en silisiumholdig gass omfattende 1 volumprosent til 7 volumprosent monosilan (SiH^), 0,5 til 6 volumprosent etylen { C^^^) og eventuelt hydrogen idet resten var nitrogen (N,,) .
Brytningsindeksen av de reflekterende, alkalibestandige belegg som var fremstilt ble funnet å være i området 2,5 til 3,5,
mer spesielt 3,1 - 0,3..
Andre elektrongivende forbindelser ble anvendt som en bestanddel av den silisiumholdige gass. Andre olefiner som kan anvendes er butadien (C^Hg) og penten (C^Hjq).
Den elektrongivende forbindelse kan være et acetylenisk hydrokarbon. Acetylen ble anvendt som en bestanddel av gassen. Videre kan et aromatisk hydrokarbon anvendes som den elektron-qivende bestanddel i gassen, f.eks. benzen, (C,Hr), toluen (CgH CH3), eller xylen (CgH4 (CH.^).
Andre tilsetningsmidler til den silanholdige gass som er funnet
å være effektive som en elektrongivende forbindelse som meddeler alkalimotstandsevne til beleggene er olefiniske derivater som f .eks. dif luoretylen (C^I^F,,) og ammoniakk (NH^) •
Noen eksempler på bruken av disse andre elektrongivende forbindelser er angitt i tabell IV. Alle de fremstilte belong hadde alkalimotstandsevne som kunne sammenliknes med belegg fremstilt som beskrevet ovenfor med etylen som elektron-giver.
Det er mest fordelaktig å anvende en forbindelse som er gassformet ved vanlig temperatur slik at det foretrekkes å anvende en olefinisk eller acetylenisk forbindelse inneholdende 2-karbonatomer, selvom forbindelser som inneholder mer enn 5 karbonatomer kan anvendes bare de er gassformet under spaltings temperaturen for silanet.
Oppfinnelsen kan også anvendes for belegging av et hvilket
som helst alkalimetali-silikntglass eller jordalkalimetall-silikatglass.
I et ytterligere forsøk ble et borsilikatglass-substrat oppvarmet til 600°C og en gassformet blanding inneholdende en volumprosent monosilan, 1,25 volumprosent etylen, 10 volumprosent hydrogen og 8 7,75 volumprosent nitrogen ble ført ut på glassoverflaten. Det ble oppnådd et reflekterende silisiumbelegg som ved neddykking i over 3 timer i en normal natrium-hydroksydløsning ved 90°C ikke viste noe synlig tegn på angrep.
Det er også funnet at bruk av et forhold mellom etylen og silan på mer enn 2,5, f.eks. et forhold på 5, resulterer i dannelse på glasset av et alkalibestandig silisiumbelegg med meget god abrasjons-motstand. Slike belegg har ikke den høye refleksjonsevne overfor synlig lys som oppnådd ved de forsøk som er beskrevet ovenfor, og kan endog synes transparent for synlig lys.
Claims (5)
1. Fremgangsmåte for belegging av glass med et silisiumholdig belegg som inneholder oksygen, hvor belegget har en brytningsindeks i området 2,5 - 3,5 og høy alkalimotstandsevne og glasset beveges forbi en beleggingsstasjon mens temperaturen av glasset er minst 400°C og silanholdig gass slippes ut nær glassoverflaten ved et omtrent konstant, trykk tvers over glassoverflaten og ved nærvær av oksygen i en mengde mindre enn den som er nødvendig for å danne SiO, idet silanet pyrolyseres og et belegg avsettes på glassoverflaten, karakterisert ved at den silanholdige gass omfatter en andel av en gassformet elektrongivende forbindelse som meddeler den nevnte alkalimotstandsevne.
2. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at det anvendes silan-holdig gass omfattende nitrogen som bærergass og opptil 6 volumprosent av en gassformet elektrongivende forbindelse.
3. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at det anvendes silan-holdig gass omfattende monosilan i nitrogen som bærergass og opptil 6 volumprosent av et gassformet olefin, foretrukket etylen.
4. Fremgangsmåte som angitt i krav 3, karakterisert ved at det som olefin anvendes etylen og at forholdet mellom etylen og silan i gassen holdes i området 0,1 til 2,0, foretrukket i området 0,2 til 0,5.
5. Fremgangsmåte som angitt i krav 1 eller 2, karakterisert ved at det som elektrongivende forbindelse anvendes et acetylenisk hydrokarbon, foretrukket acetylen, eller et aromatisk hydrokarbon, foretrukket benzen eller ammoniakk.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB8641/77A GB1573154A (en) | 1977-03-01 | 1977-03-01 | Coating glass |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| NO780671L NO780671L (no) | 1978-09-04 |
| NO143100B true NO143100B (no) | 1980-09-08 |
| NO143100C NO143100C (no) | 1980-12-17 |
Family
ID=9856396
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| NO780671A NO143100C (no) | 1977-03-01 | 1978-02-27 | Fremgangsmaate for fremstilling av belagt glass |
Country Status (26)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4188444A (no) |
| JP (1) | JPS53130717A (no) |
| AR (1) | AR217280A1 (no) |
| AU (1) | AU516481B2 (no) |
| BE (1) | BE864413A (no) |
| BR (1) | BR7801209A (no) |
| CA (1) | CA1110119A (no) |
| CS (1) | CS212268B2 (no) |
| DD (1) | DD136045A6 (no) |
| DE (1) | DE2808780C2 (no) |
| DK (1) | DK149924C (no) |
| ES (1) | ES467480A1 (no) |
| FI (1) | FI62522C (no) |
| FR (1) | FR2382511A1 (no) |
| GB (1) | GB1573154A (no) |
| IT (1) | IT1111431B (no) |
| LU (1) | LU79149A1 (no) |
| MX (1) | MX147940A (no) |
| NL (1) | NL179042C (no) |
| NO (1) | NO143100C (no) |
| PL (1) | PL112933B1 (no) |
| RO (1) | RO75434A7 (no) |
| SE (1) | SE431866B (no) |
| SU (1) | SU878191A3 (no) |
| TR (1) | TR20091A (no) |
| ZA (1) | ZA781053B (no) |
Families Citing this family (54)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4298650A (en) * | 1980-03-31 | 1981-11-03 | Eastman Kodak Company | Phosphorescent screens |
| JPS5826052A (ja) * | 1981-08-06 | 1983-02-16 | Asahi Glass Co Ltd | アルカリ拡散防止酸化ケイ素膜付ガラス体 |
| CA1245109A (en) * | 1983-10-31 | 1988-11-22 | Hsien-Kun Chu | Method of forming amorphous polymeric halosilane films and products produced therefrom |
| GB8420534D0 (en) * | 1984-08-13 | 1984-09-19 | Pilkington Brothers Plc | Coated products |
| US5165972A (en) * | 1984-08-13 | 1992-11-24 | Pilkington Plc | Coated glass |
| JPS6195356A (ja) * | 1984-10-16 | 1986-05-14 | Mitsubishi Electric Corp | フオトマスクブランク |
| JPS61116358A (ja) * | 1984-11-09 | 1986-06-03 | Mitsubishi Electric Corp | フオトマスク材料 |
| JPS61161763U (no) * | 1985-03-29 | 1986-10-07 | ||
| US4661381A (en) * | 1985-10-07 | 1987-04-28 | Libbey-Owens-Ford Co. | Continuous vapor deposition method for producing a coated glass article |
| US4749430A (en) * | 1986-10-16 | 1988-06-07 | Shell Oil Company | Method of making an encapsulated assemblage |
| US4869966A (en) * | 1986-10-16 | 1989-09-26 | Shell Oil Company | Encapsulated assemblage and method of making |
| JPS6430458U (no) * | 1987-08-13 | 1989-02-23 | ||
| GB8814922D0 (en) * | 1988-06-23 | 1988-07-27 | Pilkington Plc | Coatings on glass |
| BR9005414A (pt) * | 1989-02-21 | 1991-08-06 | Libbey Owens Ford Co | Artigo de vidro revestido,processo para preparacao de artigos de vidro revestidos,processo para deposito de vapor quimico e vidraca para janelas arquitetonicas e automotivas |
| US5328768A (en) * | 1990-04-03 | 1994-07-12 | Ppg Industries, Inc. | Durable water repellant glass surface |
| US5171414A (en) * | 1990-12-10 | 1992-12-15 | Ford Motor Company | Method of making transparent anti-reflective coating |
| US5106671A (en) * | 1990-12-10 | 1992-04-21 | Ford Motor Company | Transparent anti-reflective coating |
| JP3139031B2 (ja) * | 1991-02-21 | 2001-02-26 | 日本板硝子株式会社 | 熱線遮蔽ガラス |
| US5234748A (en) * | 1991-06-19 | 1993-08-10 | Ford Motor Company | Anti-reflective transparent coating with gradient zone |
| CA2084247A1 (en) * | 1992-03-18 | 1993-09-19 | Francis Paul Fehlner | Lcd panel production |
| EP0583871B2 (en) * | 1992-07-11 | 2004-01-07 | Pilkington United Kingdom Limited | Method for preparing reflecting coatings on glass |
| US5580364A (en) * | 1992-07-11 | 1996-12-03 | Libbey-Owens-Ford Co. | Method of producing a coated glass substrate exhibiting reflected color |
| FR2695118B1 (fr) * | 1992-09-02 | 1994-10-07 | Air Liquide | Procédé de formation d'une couche barrière sur une surface d'un objet en verre. |
| GB9400319D0 (en) * | 1994-01-10 | 1994-03-09 | Pilkington Glass Ltd | Coatings on glass |
| GB9400323D0 (en) * | 1994-01-10 | 1994-03-09 | Pilkington Glass Ltd | Coatings on glass |
| GB9400320D0 (en) * | 1994-01-10 | 1994-03-09 | Pilkington Glass Ltd | Coating on glass |
| US5665424A (en) * | 1994-03-11 | 1997-09-09 | Sherman; Dan | Method for making glass articles having a permanent protective coating |
| US5723172A (en) * | 1994-03-11 | 1998-03-03 | Dan Sherman | Method for forming a protective coating on glass |
| CA2159296C (en) * | 1994-10-14 | 2007-01-30 | Michel J. Soubeyrand | Glass coating method and glass coated thereby |
| CN1051534C (zh) * | 1994-11-22 | 2000-04-19 | 秦皇岛开发区蓝光玻璃新技术公司 | 浮法在线生产镀膜玻璃的方法 |
| GB9500330D0 (en) * | 1995-01-09 | 1995-03-01 | Pilkington Plc | Coatings on glass |
| US6055828A (en) * | 1997-12-30 | 2000-05-02 | Closure Medical Corporation | Treatment methods for glass medical adhesive applicators |
| US6350397B1 (en) | 1999-03-10 | 2002-02-26 | Aspen Research Corporation | Optical member with layer having a coating geometry and composition that enhance cleaning properties |
| KR101027485B1 (ko) * | 2001-02-12 | 2011-04-06 | 에이에스엠 아메리카, 인코포레이티드 | 반도체 박막 증착을 위한 개선된 공정 |
| WO2003064345A1 (en) * | 2002-01-31 | 2003-08-07 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Method for producing glass plate with thin film and glass plate |
| AU2003217818A1 (en) * | 2002-03-01 | 2003-09-16 | Cardinal Cg Company | Thin film coating having transparent base layer |
| US6919133B2 (en) | 2002-03-01 | 2005-07-19 | Cardinal Cg Company | Thin film coating having transparent base layer |
| WO2004009861A2 (en) * | 2002-07-19 | 2004-01-29 | Asm America, Inc. | Method to form ultra high quality silicon-containing compound layers |
| US20050271893A1 (en) * | 2004-06-04 | 2005-12-08 | Applied Microstructures, Inc. | Controlled vapor deposition of multilayered coatings adhered by an oxide layer |
| US7638167B2 (en) * | 2004-06-04 | 2009-12-29 | Applied Microstructures, Inc. | Controlled deposition of silicon-containing coatings adhered by an oxide layer |
| US20050044894A1 (en) * | 2003-08-29 | 2005-03-03 | Douglas Nelson | Deposition of silica coatings on a substrate |
| DE102004012977A1 (de) * | 2004-03-17 | 2005-10-06 | Institut für Neue Materialien Gemeinnützige GmbH | Kratzfestes optisches Mehrschichtsystem auf einem kristallinen Substrat |
| US20050221003A1 (en) * | 2004-03-31 | 2005-10-06 | Remington Michael P Jr | Enhancement of SiO2 deposition using phosphorus (V) compounds |
| US7879396B2 (en) * | 2004-06-04 | 2011-02-01 | Applied Microstructures, Inc. | High aspect ratio performance coatings for biological microfluidics |
| US7966969B2 (en) * | 2004-09-22 | 2011-06-28 | Asm International N.V. | Deposition of TiN films in a batch reactor |
| US7629267B2 (en) * | 2005-03-07 | 2009-12-08 | Asm International N.V. | High stress nitride film and method for formation thereof |
| WO2007075369A1 (en) * | 2005-12-16 | 2007-07-05 | Asm International N.V. | Low temperature doped silicon layer formation |
| US7691757B2 (en) | 2006-06-22 | 2010-04-06 | Asm International N.V. | Deposition of complex nitride films |
| US7629256B2 (en) * | 2007-05-14 | 2009-12-08 | Asm International N.V. | In situ silicon and titanium nitride deposition |
| US7833906B2 (en) | 2008-12-11 | 2010-11-16 | Asm International N.V. | Titanium silicon nitride deposition |
| CN101618952B (zh) * | 2009-07-30 | 2011-08-17 | 杭州蓝星新材料技术有限公司 | 浮法在线生产透明导电膜玻璃的方法 |
| CN102584023A (zh) * | 2012-02-22 | 2012-07-18 | 株洲旗滨集团股份有限公司 | 一种阳光控制镀膜玻璃的制备方法及其玻璃 |
| WO2014081030A1 (ja) * | 2012-11-26 | 2014-05-30 | 旭硝子株式会社 | 薄膜形成方法 |
| CN106007395A (zh) * | 2016-05-11 | 2016-10-12 | 刘畅 | 一种用于厨卫电器的易清洁玻璃的制作方法 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2439689A (en) * | 1948-04-13 | Method of rendering glass | ||
| DE395978C (de) * | 1921-05-28 | 1924-05-24 | Siemens & Halske Akt Ges | Verfahren zur Herstellung eines spiegelnden Siliziumbelages |
| US3873352A (en) * | 1971-12-17 | 1975-03-25 | Owens Illinois Inc | Abrasion resistant one step glass coating with excellent labelability |
| US3984608A (en) * | 1974-04-17 | 1976-10-05 | Kerr Glass Manufacturing Corporation | Glassware having improved resistance to abrasion |
| GB1507465A (en) * | 1974-06-14 | 1978-04-12 | Pilkington Brothers Ltd | Coating glass |
-
1977
- 1977-03-01 GB GB8641/77A patent/GB1573154A/en not_active Expired
-
1978
- 1978-02-21 CA CA297,384A patent/CA1110119A/en not_active Expired
- 1978-02-21 AU AU33487/78A patent/AU516481B2/en not_active Expired
- 1978-02-22 ZA ZA00781053A patent/ZA781053B/xx unknown
- 1978-02-23 US US05/880,430 patent/US4188444A/en not_active Expired - Lifetime
- 1978-02-24 NL NLAANVRAGE7802090,A patent/NL179042C/xx not_active IP Right Cessation
- 1978-02-27 NO NO780671A patent/NO143100C/no unknown
- 1978-02-28 FR FR7805644A patent/FR2382511A1/fr active Granted
- 1978-02-28 BR BR7801209A patent/BR7801209A/pt unknown
- 1978-02-28 AR AR27127278A patent/AR217280A1/es active
- 1978-02-28 DD DD20388278A patent/DD136045A6/xx not_active IP Right Cessation
- 1978-02-28 IT IT6740478A patent/IT1111431B/it active
- 1978-02-28 SE SE7802257A patent/SE431866B/sv not_active IP Right Cessation
- 1978-02-28 BE BE185557A patent/BE864413A/xx not_active IP Right Cessation
- 1978-03-01 MX MX172611A patent/MX147940A/es unknown
- 1978-03-01 LU LU79149A patent/LU79149A1/xx unknown
- 1978-03-01 RO RO9335978A patent/RO75434A7/ro unknown
- 1978-03-01 SU SU782586050A patent/SU878191A3/ru active
- 1978-03-01 TR TR2009178A patent/TR20091A/xx unknown
- 1978-03-01 JP JP2217078A patent/JPS53130717A/ja active Granted
- 1978-03-01 ES ES467480A patent/ES467480A1/es not_active Expired
- 1978-03-01 DE DE2808780A patent/DE2808780C2/de not_active Expired
- 1978-03-01 CS CS781295A patent/CS212268B2/cs unknown
- 1978-03-01 FI FI780699A patent/FI62522C/fi not_active IP Right Cessation
- 1978-03-01 PL PL1978204996A patent/PL112933B1/pl unknown
- 1978-03-01 DK DK93678A patent/DK149924C/da not_active IP Right Cessation
Also Published As
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| NO143100B (no) | Fremgangsmaate for fremstilling av belagt glass | |
| US5861189A (en) | Method for producing mirrors by surface activation and pyrolytic deposition | |
| DK170066B1 (da) | Fremgangsmåde til dannelse af et underlag på en glasoverflade | |
| CA1255976A (en) | Ion-blocking coating on glass | |
| EP0348185B1 (en) | Coatings on glass | |
| JP3476724B2 (ja) | 被覆されたガラス基体 | |
| EP0627391B1 (en) | Neutral, low emissivity coated glass articles and method for making | |
| Otani et al. | High rate deposition of silicon nitride films by APCVD | |
| GB2275691A (en) | Glass bearing a coating containing tin oxide and titanium oxide | |
| KR810000743B1 (ko) | 유리의 코팅 방법 | |
| KR19980702384A (ko) | 유리 또는 세라믹 제품의 표면위에 보호 코팅층의 제조방법 | |
| WO2023247950A1 (en) | Coated glass articles | |
| WO2011077157A1 (en) | Coated substrate | |
| KR920010068B1 (ko) | 규소 및 산소 함유 투명 장벽 피막을 갖는 유리 | |
| WO1996021630A1 (en) | Coatings on glass | |
| MXPA97005147A (en) | Vid coatings |