NO167989B - Vertikale celler for galvanisering av metaller. - Google Patents

Vertikale celler for galvanisering av metaller. Download PDF

Info

Publication number
NO167989B
NO167989B NO860214A NO860214A NO167989B NO 167989 B NO167989 B NO 167989B NO 860214 A NO860214 A NO 860214A NO 860214 A NO860214 A NO 860214A NO 167989 B NO167989 B NO 167989B
Authority
NO
Norway
Prior art keywords
chamber
electrolyte
cells
cell
metals
Prior art date
Application number
NO860214A
Other languages
English (en)
Other versions
NO860214L (no
NO167989C (no
Inventor
Maurizio Podrini
Original Assignee
Sviluppo Materiali Spa
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sviluppo Materiali Spa filed Critical Sviluppo Materiali Spa
Publication of NO860214L publication Critical patent/NO860214L/no
Publication of NO167989B publication Critical patent/NO167989B/no
Publication of NO167989C publication Critical patent/NO167989C/no

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D7/00—Electroplating characterised by the article coated
    • C25D7/06—Wires; Strips; Foils
    • C25D7/0614—Strips or foils
    • C25D7/0628—In vertical cells
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/08—Electroplating with moving electrolyte e.g. jet electroplating

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Manufacture Of Alloys Or Alloy Compounds (AREA)

Description

Den foreliggende oppfinnelsen vedrører en forbedring av vertikale celler for kontinuerlig galvanisering av metaller ved høy strømtetthet, i samsvar med den innledende delen av patentkrav 1. Mer presist vedrører oppfinnelsen arrangementet av anordninger for å pumpe elektrolytten og utformingen av den nedre delen av anlegget. Forbedringene forenkler selve anlegget og de relevante vedlikeholds-operasjonene og sikrer også jevnere fluiddynamiske behandlingsbetingelser.
I den kontinuerlige overtrekkingen av metaller, særlig båndstål, med andre beskyttende metaller (f.eks. sink og sink i legering med andre metaller så som jern, nikkel, etc), blir høye båndhastigheter (også over 150 m/min) og høye strømtettheter (også over 180 A/dm 2) mer og mer vanlig. Disse framgangsmåtene med høy strømtetthet nødvendig-gjør en spesiell relativ hastighet mellom elektrolytten og båndet som skal overtrekkes og som virker som en katode, for å sikre at gassen som uungåelig blir avgitt blir fjernet fra båndets umiddelbare nærhet og også for å sikre at elektrolyttstrømningen er tilstrekkelig turbulent til å minke tykkelsen av grensesjiktet som er svekket i metall-ioner som må avsettes og dermed muliggjøre korrekt avsetting og tilfredsstillende effektivitet.
De framgangsmåtene det gjelder krever ogås svært konstante fluiddynamikk-betingelser, særlig ved galvanisering, siden det er disse som har en slik innflytelse på kvaliteten og sammensetningen av overtrekket og på framgangsmåtens effektivitet.
Fra et teoretisk synspunkt har framgangsmåter for galvanisering med høy strømtetthet avgjorte fordeler, og noen av disse er oppnådd i en viss grad i anleggene som er bygd til nå. Imidlertid synes situasjonen fremdeles ikke å være fullstendig stabilisert, særlig når det gjelder produkter som brukes for å lage spesielle varige forbruks-goder som skal ha god korrosjonsmotstand og pent utseende,
så som bånd som brukes til å bygge billegemer for eksempel.
For slike produkter, særlig båndstål dekket med sink og sink i legering med andre metaller (jern, nikkel, etc.) syntes det til å begynne med som om horisontale celleanlegg trolig var løsningen. Praktisk erfaring synes imidlertid ikke å ha vært fullstendig tilfredsstillende siden bruk av horisontale celler synes å bli erstattet av anvendelse av vertikale celler.
Med det vertikale arrangementet passerer imidlertid båndet fra topp til bunn i et sett av celler og fra bunn til topp i et annet sett, så det er umulig å sikre jevne fluiddynamiske betingelser på bånd - elektrolytt grenseflaten i alle cellene.
For å eliminere den største vanskeligheten har Centro Sperimentale Metallurgico alle levert inn en patentsøknad (48617 A 84) for en oppfinnelse som sikrer at tetningen av strømningen av elektrolytten i cellene er slik at en oppnår de nødvendige jevne fluiddynamiske betingelsene. Særlig er det i et par celler der båndet som skal overtrekkes går fra topp til bunn i en celle og fra bunn til topp i den andre, installert anordninger for pumping av eletrolytten i hver celle på de punktene der båndet går inn i eller forlater cellen, slik at strømningen av elektrolytt i én celle i et par er i motsatt retning av strømningen i den andre cellen.
Dette anleggsarrangementet er utprøvd og har gitt gode resultater. Det er imidlertid noen få sekundære ulemper som forårsaker driftsmessige problemer. For eksempel er det vanskelig å regulere pumpene i hvert cellepar for å sikre at de er fullstendig balansert. Dette resulterer i mangel på ensrettethet i elektrolytt-strømningsbetingelsene, noe som har en ugunstig effekt på jevnheten i overtrekkings-kvaliteten. Videre gjør den måten pumpene er installert på det viktig å bruke skvettskjermer som imidlertid er en mulig kilde til skade på båndets overflatekvalitet og på overtrekket idet de hindrer vedlikehold av cellene.
Den foreliggende oppfinnelsen har til formål å eliminere disse og andre ulemper ved å frambringe et anlegg som er enklere og billigere enn de tidligere kjente og som sikrer svært rask og svært turbulent strømning av elektrolytt i behandlingscellene.
Et annet mål for oppfinnelsen er å sikre identiske fluiddynamiske betingelser i hver celle i paret og dermed gi det best mulige overtrekkingsutbyttet og god overtrekkings-kvalitet.
Oppfinnelsens formål oppnås med en anordning med trekk som i den karakteriserende delen av patentkrav 1. Ytterligere trekk vil framgå av de uselvstenige krav.
I et anlegg for kontinuerlig galvanisering med høy strømtetthet av metaller på andre metallegemer i bevegelse, særlig båndstål, som består i det minste av én behandlings-enhet som har et øvre kammer og et nedre kammer som inneholder elektrolytt og er forbundet via to vertikale galvaniseringsceller, der båndet som skal overtrekkes passerer fra det øvre kammeret nedover gjennom den første cellen til det nedre kammeret der det blir ledet bort og returnerer oppover gjennom den andre cellen til det øvre kammeret, mens elektrolytten er tvunget til å passere i motsatt retning i hver av de to cellene, er det innført en forbedring for å forenkle anlegget og sikre jevne fluiddynamiske betingelser i cellene.
I foreliggende oppfinnelsen benyttes hver av behandlingsenhetene bare én pumpeanordning, og denne er plassert på et ytterpunkt på bare én av de to vertikale cellene, idet kammeret som tilførselen til pumpeanordningen er rettet til er fullstendig fylt med elektrolytt og i direkte kontinuerlig kommunikasjon med utsida bare gjennom det andre kammeret, via de vertikale galvaniseringscellene.
Pumpeanordningen er fortrinnsvis innstallert på det nedre ytterpunktet av cellen som beveges fra bunn til topp av det metalliske legemet som skal overtrekkes, med tilførselen rettet inn i det nedre kammmeret, idet pumpeanordningen fordelaktig kan være utformet som en ejektor, dvs. en anordning der høy kinetisk energi i en mengde primærf luid brukes for å trekke etter seg en større mengde sekundærtluid der det primære fluidet består av elektrolytt fra det nedre kammeret, mens det "trukkete" sekundære fluidet består av elektrolytt som er trukket fra det øvre kammeret gjennom den vertikale cellen som ejektoren er installert på.
Idet det nedre kammeret er fylt med elektrolytt og lukket, unntatt for kommunikasjon med det øvre kammeret via de vertikale cellene, kan elektrolytten som pumpes med ejektoren fra det øvre kammeret til det nedre gjennom en celle bare heves til det øvre kammeret gjennom den andre cellen.
Idet væsker ikke kan komprimeres, er det tilstrekkelig å bygge de to cellene med samme indre tverrsnittsareal for å sikre at strømningshastigheten i elektrolytten og hastig-heten i hver celle også er nøyaktig den samme.
Oppfinnelsen blir nå beskrevet mer i detalj med henvisning til en utførelsesform som er vist i den vedlagte tegningen som viser et vertikalt snitt gjennom en vertikal cellebehandlingsenhet i samsvar med oppfinnelsen. Denne beskrivelse og illustrasjonen er gitt bare som eksempel og skal ikke betraktes som begrensende.
Behandlingsenheten i samsvar med denne utførelsesformen består av en beholder oppdelt i et øvre kammer 1 og et nedre kammer 2, atskilt fra hverandre av en skillevegg 3. Kammer 1 er åpent øverst og har valser 4 og 5 som styrer båndet 6 idet det hhv. går inn i og forlater behandlingsenheten. Den har også ventilutløp 7 og 8 som er nødvendige for å tappe kammer 1 og for å reetablere pH-verdien og konsentrasjonen av de forskjellige ionene ved galvanisering med utstyr som ikke er vist her, siden det som trengs i disse subsidiære operasjonene allerede er velkjente og ikke trenger å beskrives.
Det nedre kammeret 2 er hermetisk tettet fra utsida og er i kommunikasjon med kammer 1 bare gjennom elektrolyttiske celler 9 og 10, det har ogås et rør 11 i bunnen som er utstyrt med ventilen 14 for å tappe fluid fra kammeret og anordninger, generelt betegnet med 12 og 13, plassert i den øvre delen av kammer 2 for å utføre kontinuerlig uttømming av gass som kan samle seg i kammeret.
Skilleveggen 3 som atskiller kammer 1 fra kammer 2, er utformet slik at den gir et høyere område i kammer 2 for oppsamling av gass som vil kunne hope seg opp der. Skilleveggen 3 bærer elektrolyttiske celler 9 og 10. Den nedre delen av den elektrolyttiske cellen som båndet passerer gjennom fra bunnen til toppen har anordninger for å trekke elektrolytten fra det øvre kammeret 1 inn i det nedre kammeret 2 gjennom cellen 10. Disse anordningene består fortrinnsvis av en ejektorenhet 15 hvis primære "trekkende" fluid er elektrolytten, pumpet ved hjelp av pumpeanordning 16 fra røret 11 som kommuniserer med det nedre kammeret 2, mens det sekundær2 "trukkete" fluidet er elektrolytten som befinner seg i cellen 10 og kontinuerlig blir trukket fra det øvre kammeret 1.
Ved drift tar pumpa 16 en spesiell elektrolyttstrømning fra kammer 2 og returnerer den der via ejektor 15, slik at det er balansert sirkulasjon av det fluidet i kammeret. Imidlertid vil elektrolytten som er pumpet gjennom ejektoren som primært fluid trekke inn den andre elektrolytten fra det øvre kammeret 1 gjennom cellen 10. På denne måten er det en positiv utligning av elektrolytt som går inn i det nedre kammeret 2.
På grunn av utformingen av det nedre kammeret kan imidlertid elektrolytten som trekkes fra det øvre kammeret ikke samles opp der, men kan bare heves fra det nedre kammeret til det øvre via den elektrolyttiske cellen 9, med en strømningshastighet som er den samme som i celle 10, forutsatt at de indre dimensjonene i de to cellene er de samme, noe som enkelt oppnås.
På denne måten er målene for oppfinnelsen fullstendig og tilfredsstillende oppnådd, og anlegget er mer økonomisk og pålitelig på grunn av at bare en pumpeenhet er nødvendig for hvert cellepar. Bruken av ejektorer sikrer nødvendigvis en høy elektrolytthastighet og strømning i cellene under svært turbulente betingelser, trykket i det nedre kammeret 2 som ikke kan deformeres og som er konstant fullt av væske idet elektrolytten er trukket inn gjennom en av de to cellene, sikrer at den samme identiske elektrolytt-strømningen heves mot det øvre kammeret gjennom den andre av de to cellene, for å sikre identiske fluiddynamiske betingelser i de to cellene.
For forenkling og for å forkorte utelater beskrivelsen alle spesialiteter og detaljer, så som f.eks. utformingen av de elektrolyttiske cellene og elektroder, strømkretser og ytre kretser for justering av elektrolyttens pH og konsentrasjon, som ikke umiddelbart avhenger av denne oppfinnelsen og som er godt nok kjente til at de ikke krever noen spesiell omtale.
Det er imidlertid viktig å legge merke til at de vertikale cellene i samsvar med oppfinnelsen gir ytterligere fordeler i tillegg til de som allerede er indikert, særlig når det gjelder den store allsidigheten av vertikale celler av denne typen. Idet den øvre delen av cellene er fullstendig fri, kan uløselige eller løselige anoder settes inn, idet bredden lett varieres mens skjermer for å dekke kanten av båndet kan plasseres og manøvreres og dermed tillate bruk av mange forskjellge framgangsmåter for avsetting på begge sider av båndet eller bare på én side, uten å endre cellestrukturen og med lite tidstap.

Claims (3)

1. Anlegg for kontinuerlig galvanisering med høy strømtetthet av metaller på andre metallegemer i bevegelse, særlig båndstål og som består av i det minste én behandlings-enhet som har et øvre kammer (1) og et nedre kammer (2) som inneholder elektrolytt og er forbundet via to vertikale galvaniseringsceller (9, 10), der metallegemet (6) som skal overtrekkes passerer fra det øvre kammeret (1) nedover gjennom den første cellen (9) til det nedre kammeret (2), hvor det ledes bort og returnerer oppover gjennom den andre cellen (10) til det øvre kammeret (1), mens elektrolytten tvinges til å passere i motsatt retning i hver av de to cellene, karakterisert ved at bare én pumpeanordning (16) brukes for hver av de to behandlingsenhetene, og denne er plassert på et ytterpunkt i bare en av cellene (10, 9), idet kammeret (2, hhv. 1) som tilførselen fra pumpeanordningen (16) er rettet mot er fullstendig fylt med elektrolytt som er i kontinuerlig kommunikasjon med utsida av kammeret (2, hhv. 1) bare gjennom det andre kammeret (1, hhv. 2) via de vertikale galvaniseringscellene (9, 10).
2. Anlegg for galvanisering av metaller i samsvar med krav 1, karakterisert ved at pumpeanordningen (16) er plassert på det nedre ytterpunktet i cellen (10) som metallegemet (6) som skal galvaniseres passerer gjennom fra bunn til topp idet tilførselen er rettet inn i det nedre kammeret (1).
3. Anlegg for galvanisering av metaller i samsvar med krav 2, karakterisert ved at pumpeanordningen omfatter en ejektor (15) hvis primære "trekkende" fluid er elektrolytten fra det nedre kammeret (2), mens det sekundære "trukkete" fluidet er elektrolytt som suges gjennom cellen fra det øvre kammeret (1).
NO860214A 1985-02-08 1986-01-22 Vertikale celler for galvanisering av metaller. NO167989C (no)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
IT47663/85A IT1182708B (it) 1985-02-08 1985-02-08 Perfezionamento nei dispositivi a celle verticali per l'elettrodeposizione, in continuo e a elevata densita' di corrente, di metalli

Publications (3)

Publication Number Publication Date
NO860214L NO860214L (no) 1986-08-11
NO167989B true NO167989B (no) 1991-09-23
NO167989C NO167989C (no) 1992-01-02

Family

ID=11261760

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NO860214A NO167989C (no) 1985-02-08 1986-01-22 Vertikale celler for galvanisering av metaller.

Country Status (14)

Country Link
US (1) US4640757A (no)
JP (1) JPS61183495A (no)
AT (1) AT390450B (no)
BE (1) BE904188A (no)
BR (1) BR8600445A (no)
DE (2) DE8603184U1 (no)
ES (1) ES8706860A1 (no)
FR (1) FR2577243B1 (no)
GB (1) GB2170819B (no)
IT (1) IT1182708B (no)
LU (1) LU86299A1 (no)
NL (1) NL8600205A (no)
NO (1) NO167989C (no)
SE (1) SE462981B (no)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3510592A1 (de) * 1985-03-23 1986-10-02 Hoesch Stahl AG, 4600 Dortmund Hochgeschwindigkeits-elektrolysezelle fuer die veredelung von bandfoermigem gut
DE19510667A1 (de) * 1995-03-23 1996-09-26 Schloemann Siemag Ag Abscheidevorrichtung für Metalle aus einem metallhaltigen Elektrolyten
KR20010018167A (ko) * 1999-08-17 2001-03-05 신현준 수직형 전기도금조를 구비한 금속 스트립의 전기도금장치
JP5484974B2 (ja) * 2010-03-22 2014-05-07 新日鉄住金エンジニアリング株式会社 連続電気めっき方法、めっき液の循環方法、および連続電気めっき装置

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2317242A (en) * 1939-04-28 1943-04-20 Carnegie Illinois Steel Corp Plating tank for electrodeposition of metals on metallic strip
US2535966A (en) * 1947-02-07 1950-12-26 Teplitz Alfred Electrolytic apparatus for cleaning strip
US2910422A (en) * 1958-01-30 1959-10-27 United States Steel Corp Apparatus for continuously electroplating strip
DE2234365C3 (de) * 1972-07-13 1981-04-09 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Vorrichtung zur kontinuierlichen elektrochemischen Behandlung eines Metallbands
JPS58123898A (ja) * 1982-01-19 1983-07-23 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 電気メツキライン
JPS58204197A (ja) * 1982-05-20 1983-11-28 Sumitomo Metal Ind Ltd 竪型電気メッキ装置
US4434040A (en) * 1982-09-28 1984-02-28 United States Steel Corporation Vertical-pass electrotreating cell
JPS59179796A (ja) * 1983-03-30 1984-10-12 Sumitomo Metal Ind Ltd ストリツプの幅そり抑制方法
IT1173713B (it) * 1983-05-16 1987-06-24 Centro Speriment Metallurg Dispositivo per il trattamento elettrolitico di nastri metallici
IT1173714B (it) * 1983-05-16 1987-06-24 Centro Speriment Metallurg Dispositivo per il trattamento elettrolitico di nastri metallici
FR2551467B1 (fr) * 1983-09-07 1987-02-06 Sumitomo Metal Ind Procede et appareil permettant de realiser un depot electrolytique continu d'alliages
IT1177925B (it) * 1984-07-24 1987-08-26 Centro Speriment Metallurg Procedimento per elettrodeposizione in continuo di metalli ad elevata denista' di corrente di celle verticali e relativo dispositivo di attuazione
JPS6137996A (ja) * 1984-07-31 1986-02-22 Nippon Kokan Kk <Nkk> 垂直型電気亜鉛めつき装置

Also Published As

Publication number Publication date
AT390450B (de) 1990-05-10
BE904188A (fr) 1986-05-29
FR2577243A1 (fr) 1986-08-14
ES551756A0 (es) 1987-07-01
GB2170819B (en) 1988-11-09
FR2577243B1 (fr) 1989-01-06
LU86299A1 (fr) 1986-06-10
GB2170819A (en) 1986-08-13
NO860214L (no) 1986-08-11
JPS61183495A (ja) 1986-08-16
BR8600445A (pt) 1986-12-30
ES8706860A1 (es) 1987-07-01
IT8547663A1 (it) 1986-08-08
DE3603770C2 (no) 1989-10-05
ATA30686A (de) 1989-10-15
DE3603770A1 (de) 1986-08-14
SE8600554L (sv) 1986-08-09
NO167989C (no) 1992-01-02
DE8603184U1 (de) 1990-08-02
IT8547663A0 (it) 1985-02-08
IT1182708B (it) 1987-10-05
US4640757A (en) 1987-02-03
SE8600554D0 (sv) 1986-02-07
NL8600205A (nl) 1986-09-01
GB8602185D0 (en) 1986-03-05
SE462981B (sv) 1990-09-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US2370973A (en) Method and apparatus for producing coated wire
NO162144B (no) Innretning for aa oppnaa hakebenfrie fiskefileter.
US2445675A (en) Apparatus for producing coated wire by continuous process
GB824989A (en) Improvements in apparatus for producing sheet metal by electrodeposition
US4560460A (en) Apparatus for the galvanic deposition of metal
KR890002839B1 (ko) 금속대의 연속전기도금 공정
US2970950A (en) Method and apparatus for the continuous galvanization of the inner surface of tubes
US4640757A (en) Vertical cells for the continuous electrodeposition of metals at high current density
US4634504A (en) Process for the electrodeposition of metals
EP0259922B1 (en) Cell for continuous electrolytic deposition treatment of bars and the like
CA1278764C (en) Electrodeposition of metals on strip in vertical cells
US4762602A (en) Method and apparatus for processing metal strip in vertical electroplating cells
CN102560608A (zh) 具有独立可调功能的立式电镀槽
CN101250736A (zh) 连续电镀装置
CA1334184C (en) Process and device for continuous electrolytic treatment of metals
US5198089A (en) Plating tank
KR101493852B1 (ko) 강판 도금장치
US4111761A (en) Method and apparatus for flow-through plating including pneumatic electrolyte shuttling system
SE465579B (sv) Radialcellanordning foer elektroplaetering
US4444636A (en) System for the galvanic deposition of metals such as aluminum
ES8400503A1 (es) Perfeccionamientos en aparatos para el tratamiento electrolitico continuo de una banda metalica.
US3354070A (en) Overflow cell for plating strip
KR101351967B1 (ko) 수평셀 전기도금장치 및 도금용액 비산방지장치
NO130119B (no)
JPS6187895A (ja) めつき方法とその装置