NO772116L - Fremgangsm}te til fremstilling av en galvanisk utfelling og pletteringsoppl¦sning til utf¦relse av fremgangsm}ten - Google Patents
Fremgangsm}te til fremstilling av en galvanisk utfelling og pletteringsoppl¦sning til utf¦relse av fremgangsm}tenInfo
- Publication number
- NO772116L NO772116L NO772116A NO772116A NO772116L NO 772116 L NO772116 L NO 772116L NO 772116 A NO772116 A NO 772116A NO 772116 A NO772116 A NO 772116A NO 772116 L NO772116 L NO 772116L
- Authority
- NO
- Norway
- Prior art keywords
- nickel
- cobalt
- iron
- cyclosulfone
- stated
- Prior art date
Links
- 238000007747 plating Methods 0.000 title claims description 54
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 15
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 title claims description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 190
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 122
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 86
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 70
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 70
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 60
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 56
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 19
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 18
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 claims description 17
- -1 iron ions Chemical class 0.000 claims description 16
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 12
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 11
- 229910002056 binary alloy Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 8
- 229910002058 ternary alloy Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 150000002506 iron compounds Chemical class 0.000 claims description 6
- ARQIGMQNYUNRHF-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-1,1-dioxothiolane-3-sulfonic acid Chemical group OC1CS(=O)(=O)CC1S(O)(=O)=O ARQIGMQNYUNRHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 4
- 150000001869 cobalt compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 4
- AMXKVIWWXBYXRS-UHFFFAOYSA-N 1,1-dioxothiolan-3-ol Chemical group OC1CCS(=O)(=O)C1 AMXKVIWWXBYXRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- LDVDYVUZEKIBDP-UHFFFAOYSA-N 1,1-dioxothiolane-3,4-diol Chemical group OC1CS(=O)(=O)CC1O LDVDYVUZEKIBDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- QJJODUDDARIVCQ-UHFFFAOYSA-N 1,1-dioxothiolane-3-sulfonic acid Chemical group OS(=O)(=O)C1CCS(=O)(=O)C1 QJJODUDDARIVCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- JUROXLRSVVHUOG-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1-dioxothiolan-3-ol Chemical group OC1CS(=O)(=O)CC1Br JUROXLRSVVHUOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 3
- 150000002816 nickel compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- XXCALQCZHWNHDO-UHFFFAOYSA-M sodium;1,1-dioxothiolane-3-sulfonate Chemical group [Na+].[O-]S(=O)(=O)C1CCS(=O)(=O)C1 XXCALQCZHWNHDO-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 27
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 11
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 11
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 11
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 6
- BAUYGSIQEAFULO-UHFFFAOYSA-L iron(2+) sulfate (anhydrous) Chemical compound [Fe+2].[O-]S([O-])(=O)=O BAUYGSIQEAFULO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 6
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 5
- 239000005569 Iron sulphate Substances 0.000 description 5
- 230000000536 complexating effect Effects 0.000 description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N glycine betaine Chemical compound C[N+](C)(C)CC([O-])=O KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-M sulfamate Chemical compound NS([O-])(=O)=O IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 3
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N Fe2+ Chemical compound [Fe+2] CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 3
- DLDJFQGPPSQZKI-UHFFFAOYSA-N but-2-yne-1,4-diol Chemical class OCC#CCO DLDJFQGPPSQZKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 3
- XNMQEEKYCVKGBD-UHFFFAOYSA-N 2-butyne Chemical compound CC#CC XNMQEEKYCVKGBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHUFGBSGINLPOW-UHFFFAOYSA-N 3-chloro-4-(trifluoromethoxy)benzoyl cyanide Chemical compound FC(F)(F)OC1=CC=C(C(=O)C#N)C=C1Cl JHUFGBSGINLPOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N D-gluconic acid Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N 0.000 description 2
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N Glycolic acid Chemical compound OCC(O)=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910006069 SO3H Inorganic materials 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 2
- 229960003237 betaine Drugs 0.000 description 2
- 238000005282 brightening Methods 0.000 description 2
- 229910001429 cobalt ion Inorganic materials 0.000 description 2
- XLJKHNWPARRRJB-UHFFFAOYSA-N cobalt(2+) Chemical compound [Co+2] XLJKHNWPARRRJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 2
- 229910001651 emery Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- TXXHDPDFNKHHGW-UHFFFAOYSA-N muconic acid Chemical compound OC(=O)C=CC=CC(O)=O TXXHDPDFNKHHGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001453 nickel ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001603 reducing effect Effects 0.000 description 2
- CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N saccharin Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NS(=O)(=O)C2=C1 CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003455 sulfinic acids Chemical class 0.000 description 2
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 2
- 150000003456 sulfonamides Chemical class 0.000 description 2
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- QDRZGXHVBINHCR-UHFFFAOYSA-N 1,1-dioxothiolan-2-ol Chemical compound OC1CCCS1(=O)=O QDRZGXHVBINHCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RFRQQNJDUQXAAS-UHFFFAOYSA-M 1-(2,3-dichloroprop-2-enyl)pyridin-1-ium;chloride Chemical compound [Cl-].ClC=C(Cl)C[N+]1=CC=CC=C1 RFRQQNJDUQXAAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PBYMYAJONQZORL-UHFFFAOYSA-N 1-methylisoquinoline Chemical compound C1=CC=C2C(C)=NC=CC2=C1 PBYMYAJONQZORL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLCKMAMMLDRAQP-UHFFFAOYSA-M 1-prop-2-enylpyridin-1-ium;bromide Chemical compound [Br-].C=CC[N+]1=CC=CC=C1 KLCKMAMMLDRAQP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SPKKUSPQPHBCEZ-UHFFFAOYSA-M 2,4,6-trimethyl-1-prop-2-ynylpyridin-1-ium;bromide Chemical compound [Br-].CC1=CC(C)=[N+](CC#C)C(C)=C1 SPKKUSPQPHBCEZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YPFNIPKMNMDDDB-UHFFFAOYSA-K 2-[2-[bis(carboxylatomethyl)amino]ethyl-(2-hydroxyethyl)amino]acetate;iron(3+) Chemical compound [Fe+3].OCCN(CC([O-])=O)CCN(CC([O-])=O)CC([O-])=O YPFNIPKMNMDDDB-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- GDMJHPRLSACEJC-UHFFFAOYSA-M 2-methyl-1-prop-2-enylquinolin-1-ium;bromide Chemical compound [Br-].C1=CC=CC2=[N+](CC=C)C(C)=CC=C21 GDMJHPRLSACEJC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CEBKHWWANWSNTI-UHFFFAOYSA-N 2-methylbut-3-yn-2-ol Chemical compound CC(C)(O)C#C CEBKHWWANWSNTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APHZEADZBIVXGN-UHFFFAOYSA-N 3-bromo-1,1-dioxothiane-4-sulfonic acid Chemical compound BrC1CS(CCC1S(=O)(=O)O)(=O)=O APHZEADZBIVXGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N D-gluconic acid Natural products OCC(O)C(O)C(O)C(O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CIWBSHSKHKDKBQ-DUZGATOHSA-N D-isoascorbic acid Chemical compound OC[C@@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-DUZGATOHSA-N 0.000 description 1
- VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N Fe3+ Chemical compound [Fe+3] VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 240000007108 Fuchsia magellanica Species 0.000 description 1
- WHUUTDBJXJRKMK-UHFFFAOYSA-N Glutamic acid Natural products OC(=O)C(N)CCC(O)=O WHUUTDBJXJRKMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKLJMWTZIZZHCS-REOHCLBHSA-N L-aspartic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CC(O)=O CKLJMWTZIZZHCS-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- WHUUTDBJXJRKMK-VKHMYHEASA-N L-glutamic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CCC(O)=O WHUUTDBJXJRKMK-VKHMYHEASA-N 0.000 description 1
- TXXHDPDFNKHHGW-CCAGOZQPSA-N Muconic acid Natural products OC(=O)\C=C/C=C\C(O)=O TXXHDPDFNKHHGW-CCAGOZQPSA-N 0.000 description 1
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M Sodium laurylsulphate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N Sulfobutanedioic acid Chemical class OC(=O)CC(C(O)=O)S(O)(=O)=O ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXZUUHYBWMWJHK-UHFFFAOYSA-N [Co].[Ni] Chemical compound [Co].[Ni] QXZUUHYBWMWJHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003064 anti-oxidating effect Effects 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 235000006708 antioxidants Nutrition 0.000 description 1
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 description 1
- 235000003704 aspartic acid Nutrition 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQFSQFPPLPISGP-UHFFFAOYSA-N beta-carboxyaspartic acid Natural products OC(=O)C(N)C(C(O)=O)C(O)=O OQFSQFPPLPISGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VAYGXNSJCAHWJZ-UHFFFAOYSA-N dimethyl sulfate Chemical compound COS(=O)(=O)OC VAYGXNSJCAHWJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMVRDGHCVNAOIN-UHFFFAOYSA-L disodium;1-dodecoxydodecane;sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O.CCCCCCCCCCCCOCCCCCCCCCCCC SMVRDGHCVNAOIN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- YGSZNSDQUQYJCY-UHFFFAOYSA-L disodium;naphthalene-1,5-disulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].C1=CC=C2C(S(=O)(=O)[O-])=CC=CC2=C1S([O-])(=O)=O YGSZNSDQUQYJCY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001804 emulsifying effect Effects 0.000 description 1
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 description 1
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 1
- 235000010350 erythorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 229910001447 ferric ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000003891 ferrous sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000011790 ferrous sulphate Substances 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 235000012208 gluconic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000000174 gluconic acid Substances 0.000 description 1
- 229950006191 gluconic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000013922 glutamic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000004220 glutamic acid Substances 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 230000009931 harmful effect Effects 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- FBAFATDZDUQKNH-UHFFFAOYSA-M iron chloride Chemical compound [Cl-].[Fe] FBAFATDZDUQKNH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000358 iron sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940026239 isoascorbic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000003760 magnetic stirring Methods 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 1
- OVQABVAKPIYHIG-UHFFFAOYSA-N n-(benzenesulfonyl)benzenesulfonamide Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)(=O)NS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 OVQABVAKPIYHIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- UNYWISZSMFIKJI-UHFFFAOYSA-N prop-2-ene-1-sulfonamide Chemical compound NS(=O)(=O)CC=C UNYWISZSMFIKJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVDSBUOJIPERQY-UHFFFAOYSA-N prop-2-yn-1-ol Chemical compound OCC#C TVDSBUOJIPERQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- SOUHUMACVWVDME-UHFFFAOYSA-N safranin O Chemical compound [Cl-].C12=CC(N)=CC=C2N=C2C=CC(N)=CC2=[N+]1C1=CC=CC=C1 SOUHUMACVWVDME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019333 sodium laurylsulphate Nutrition 0.000 description 1
- YSJZWXFVNXMVCR-UHFFFAOYSA-M sodium;3-chlorobut-2-ene-1-sulfonate Chemical compound [Na+].CC(Cl)=CCS([O-])(=O)=O YSJZWXFVNXMVCR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MZSDGDXXBZSFTG-UHFFFAOYSA-M sodium;benzenesulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 MZSDGDXXBZSFTG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LDHXNOAOCJXPAH-UHFFFAOYSA-M sodium;prop-2-yne-1-sulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)CC#C LDHXNOAOCJXPAH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- NVBFHJWHLNUMCV-UHFFFAOYSA-N sulfamide Chemical compound NS(N)(=O)=O NVBFHJWHLNUMCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJPKYOIXTSGVAN-UHFFFAOYSA-K trisodium;naphthalene-1,3,6-trisulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC(S([O-])(=O)=O)=CC2=CC(S(=O)(=O)[O-])=CC=C21 NJPKYOIXTSGVAN-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/562—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of iron or nickel or cobalt
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/12—Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt
- C25D3/14—Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt from baths containing acetylenic or heterocyclic compounds
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
- Coating With Molten Metal (AREA)
Description
Den foreliggende oppfinnelse angår en fremgangsmåte til fremstilling av en galvanisk utfelling av nikkel, kobolt eller jern eller binære eller ternære legeringer av de ovennevnte metaller og et pletteringsbad til utførelse av fremgangsmåten.
For å oppnå en besparelse av nikkel samt reduserte omkost-ninger er det tatt i bruk en rekke fremgangsmåter innen forniklingsindustrien. Noen av fremgangsmåtené omfatter å redusere tykkelsen av nikkelutfellingen, erstatte nikkel helt eller delvis med kobolt i de tilfeller hvor kobolt er billigere eller lettere tilgjenglig, og i den senere tid, elektroplettering av nikkel/jern-, kobolt/jern- og nikkel/kobolt/jern-legeringer hvori opptil 60% av pletteringen kan inneholde relativt billig jern. Imidlertid er det nødvendig, når pletteringens tykkelse blir redusert, å bruke mer effektive eller "kraftige" nikkel-glanstilsatser eller høyére konsentrasjoner av glanstilsatser, slik at den grad av blankhet som forniklingsindustrien er blitt vant til, kan oppnås. De "kraftige" nikkelglanstilsatser eller høy konsentrasjon av glanstilsats er riktignoki.standtil å frembringe den ønskede blankhet.
og utjevning, men kan ikke desto mindre ha uakseptable bivirkninger. For eksempel kan nikkelpletteringen skalle, av, eller oppvise sterk spenning eller sprøhet, mindre mottagelighet for senere kromplettering, uklarheter (hazes), redusert dekkevne eller redusert "spredning" ved lav strømtetthet eller stripedannelse og udekket plate, dvs. områder hvor der ikke dannes noen plettering.
Skjønt galvanisk utfelling av nikkel/jern-, kobolt/jern-
eller nikkel/kobolt/jern-legeringer på mange måter har stor likhet med galvanisk utfelling av nikkel, idet lignende utstyr og drifts-forhold anvendes, så byr allikevel elektroplettering med jernholdige legeringer av nikkel og/eller kobolt på visse spesielle problemer. F.eks. er det et krav ved galvanisk utfelling av jern-legeringer av nikkel og/eller kobolt at jernet i den galvaniske
pletteringsoppløsning overveiende bør være toverdig jern i stedet for treverdig. Ved en pH-verdi på ca. 3,5 vil der utfelles basiske ferrisalter som kan tilstoppe anodeposene og filtrene og gi ru galvaniske utfellinger. Det er derfor fordelaktig å forhindre utfelling av eventuelle basiske ferrisalter. Dette kan oppnås ved tilsetning av egnede kompleksdannende, chelatdannende, antiodsy-derende eller reduserende midler til det jernholdige galvaniske legering - pletteringsbad, som beskrevet av Koretzky i US-PS 3 354 059?av Passal i US-PS 3 804 726 eller Clauss o.a. i US-PS 3 806 429. Skjønt disse kompleksdannende eller chelatdannende midler er nødvendige for å skaffe en løsning på problemet med ferriioner, kan bruken av disse medføre uønskede bivirkninger. De kan forårsake en reduksjon i utjevningen av utfellingen og kan også gi stripete, uklare eller matte utfellinger som dessuten kan oppvise trinn eller helligdager, dvs. områder som ikke er plettert eller bare er meget tynt plettert sammenlignet med andre partier av utfellingen.
For å overvinne de-skadelige virkninger av høye konsentrasjoner av glanstilsatser eller "kraftige" glanstilsatser, eller for å motvirke de uønskede bivirkninger av jern eller jernoppløsende substanser når disse er tilstede i galvaniske nikkel- og/eller kobolt- eller jernholdige nikkel- og/eller kobolt-pletteringsbad, er det i US-PS 2 654 703 blitt foreslått å tilsette forskjellige suifinsyrer eller salter derav. Uheldigvis er sulfinsyrer og deres salter ustabile og utsatt for hurtig oksydering av luftens oksygen til de tilsvarende sulfonsyrer eller sulfonsalter, og i denne tilstand er de ikke lenger virkningsfulle med hensyn til å.overvinne de forskjellige ovennevnte bivirkninger. Bruken av sulfinsyrer eller deres salter reduserer dessuten utfellingens jevnhet betraktelig.
Det er en hensikt med den foreliggende oppfinnelse å skaffe fremgangsmåter og pletteringsbad for galvanisk utfelling av nikkel, kobolt eller binære eller ternære legeringer av nikkel, kobolt og jern som i større -grad kan tåle høye konsentrasjoner av glanstilsatser. Det er ytterligere en hensikt med oppfinnelsen å skaffe utfellinger av nikkel, kobolt eller binære eller ternære legeringer av nikkel, kobolt og jern,karakterisert vedøkt duktilitet,
blankhet, dekkevne og evne til utjevning og skjuling av striper.
Enda en hensikt med oppfinnelsen er å overvinne de problemer som forårsakes av tilstedeværelsen av jern eller jernoppløsende stoffer i galvaniske bad til plettering av jernholdige nikkel- og/eller kobolt-legeringer. Andre hensikter med oppfinnelsen vil fremgå av den etterfølgende detaljerte beskrivelse.
Den foreliggende oppfinnelse angår en fremgangsmåte ogr> et plétteringsbad til fremstilling av en galvanisk utfelling som inneholder minst ett metall valgt fra nikkel, kobolt eller binære eller ternære legeringer av nikkel, jern og kobolt, hvor strøm føres fra en anode til en katode gjennom en vandig, sur galvanisk pletterings-oppløsning som inneholder minst én nikkel- og/eller koboltforbindelse, og som i tillegg kan inneholde jernforbindelser, som skaffer nikkel-, kobolt- og jernioner til galvanisk utfelling av nikkel, kobolt, nikkel/kobolt-legeringer, nikkel/jernlegeringer, kobolt/jern-legeringer eller nikkel/jern/kobolt-legeringer, i tilstrekkelig lang til til at der dannes en galvanisk metallutfelling på katoden,karakterisert vedat der i oppløsningen foreligger 5*10 — 6 -
0.5 mol/l av et substituert s<y>kiosulfon med følgende generelle strukturformel:
hvor R betyr -OH, -S03H eller salter derav, eller -COOH eller . salter eller estre derav; a, b, c, er uavhengige av hverandre og lik 1 eller 2.
Badene ifølge den foreliggende oppfinnelse kan også inneholde en effektiv mengde av en eller flere av de følgende tilsetninger:
a) Glanstilsatser av klasse I
b) Glanstilsatser av klasse II
c) Antigropdannende midler eller fuktemidler.
Uttrykket "glanstilsatser av-klasse I" slik det anvendes i
fremstillingen og er. definert i Modern Electroplating, Third Edition, med F. Lowenheim som redaktør, er ment å skulle innbefatte aromatiske sulfonater, sulfonamider, sulfonimider, sulfinater, etc, foruten alifatiske eller aromatisk-alifatiske alken- eller acetylen-umettede sulfonater, sulfonamider, sulfonimider, etc. Spesielle eksempler på slike pletteringstilsatser er:
(1) natrium-o-sulfobenzimid
(2) dinatrium-1,5-naftalen-disulfonat
(3) trinatrium-1,3,6-naftalen-trisulfonat
(4) natriumbénzen-monosulfonat
(5) dibenzen-sulfonimid
(6) natriumallysulfonat
(7) natrium-3-klor-2-buten-l-sulfonat
(8) natrium - fl-styren-sulfonat
(9) natrium-propargyl-sulfonat
(10) monoallylsulfamid
(11) diallylsulfamid
(12) allylsulfonamid
Slike pletteringstilsatser, som kan anvendes alene eller i egnede kombinasjoner, bør fortrinnsvis anvendes i mengder på
0.5 - 10 g/l. De gir de fordeler som er beskrevet i den ovenfor nevnte publikasjon, og som er velkjent for alle som er bevandret i forniklingsfaget.
Uttrykket "glanstilsats av klasse II" slik det anvendes i denne fremstilling og er beskrevet i Modern Electroplating, Third Edition, med F. Lowenheim som redaktør, er ment å skulle innbefatte slike pletteringstilsatser som f.eks. reaksjonsproduktene av epoksyder med oc-hydroksy-acetylenalkoholer, f. eks. dietoksylert 2-butyn-l,4-diol eller dipropoksylert 2-butyn-l,4-diol, andre acetylenforbindelser, N-heterosykliske forbindelser, fargestoffer, etc. Spesielle eksempler på slike pletteringstilsatser er:
(1) 1, 4-di-(^-hydroksyetoksy) -2-butyn
(2) 1, 4-di- ((^-hydroksy- If-klorpropoksy) -2-butyn (3) . 1, 4-di- , ^epoksypropoksy) -2-butyn
(4) 1,4-di- (^-hydroksy- Y^butenoksy)-2-butyn
(5) 1,4-di- (2' -hydroksy-4'-oksa-6'-'heptenoksy)-2-butyn
(6) N-(2,3-diklor-2-propenyl)-pyridiniumklorid
(7) 2, 4,6-trimetyl-N-propargyl-pyridiniumbromid
(8) N-allylkinaldiniumbromid
(9) 2-butyn-l,4-diol
. (10) propargylalkohol
(11) 2-metyl-3-bu.tyn-2-ol
(12) kinaldyl-N-propansulfonsyrebetain
(13) kinaldindimetylsulfat
(14) N-allylpyridiniumbromid
(15) isokinaldyl-N-propansulfonsyrebetain
(16) isokinaldindimetylsulfat
(17) N-allylisokinaldinbromid
(18) 1, 4-di- (/£-sulfoetoksy)-2-butyn
(19) 3- (/?-hydroksyetoksy) -propyn
(20) 3-(^-hydroksypropoksy)-propyn
(21) 3- [ f-sulf oe toksy) -propyn
(22) fenosafranin
(23) fuksin
Når den anvendes alene eller i kombinasjon, fortrinnsvis i mengder på 5 - 1000 mg/l kan en glanstilsats av klasse II gi ingen synlig virkning på den galvaniske utfelling, eller den kan gi fin-kornede utfellinger med halvglans. De beste resultater oppnås imidlertid når glanstilsatser av klasse II anvendes sammen med en eller flere glanstilsatser av klasse I for å skaffe optimal ut-fellingsglans, blankhetsgrad, utjevning, strømtetthetsområde for blankplettering, dekning av lav strømtetthet etc.
Uttrykket "antigropdannende middel eller fuktemiddel" slik
det anvendes i den foreliggende fremstilling, er ment å skulle innbefatte et materiale som tjener til å hindre eller redusere gassgropdannelse. Et antigropdannende middel som anvendes alene eller i kombinasjon, fortrinnsvis i mengder på 0,05 - 1 g/l, kan også tjene til å gjøre badene mere forenlige med forurensninger
som f.eks. olje, fett, etc. ved sin emulgerende, dispergerende eller oppløsende virkning på slike forurensninger, og derved fremme oppnåelsen av bedre utfellinger. Foretrukne antigropdannende midler omfatter natriumlaurylsulfat, natriumlauryl-etersulfat og natriumdialkylsulfosuksinater.
De nikkelforbindelser, koboltforbindelser og jernforbindelser som anvendes for å skaffe nikkel-, kobolt- og jernioner for galvanisk utfelling av nikkel, kobolt eller binære eller ternære legeringer av nikkel, kobolt og jern (f.eks. nikkel/kobolt-, nikkel/jern-, kobolt/jern- og nikkel/kobolt/jern-legeringer), blir typisk tilsatt som sulfat-, klorid-, sulfamat- eller fluoborat-salter. Sulfat-, klorid-, sulfamat- eller fluoboratsalter av nikkel eller kobolt anvendes i de galvaniske pletteringsoppløsninger ifølge oppfinnelsen i konsentrasjoner som er tilstrekkelige til å gi nikkel- og/eller koboltioner i konsentrasjoner på 10 - 150 g/l.
Når jernforbindelsene, f.eks. jernsulfat, jernklorid etc, til-settes de nikkel- og/eller koboltholdige.galvaniske pletterings-oppløsninger ifølge oppfinnelsen, anvendes de i mengder som er tilstrekkelige til å gi jernioner i konsentrasjoner på 0,25 - 25 g/l. Forholdet mellom nikkel- og/eller koboltioner og jernioner kan ligge i området 50:1 til 5:1.
Jernionene i de galvaniske pletteringsoppløsninger ifølge oppfinnelsen kan også tilføres gjennom bruk av jernanoder isteden-for ved tilsetning av jernforbindelser. Hvis f.eks. en viss pro-sentuell andel av den samlede anodeoverflate i et galvanisk pletteringsbad for nikkel består av jernanoder, vil der etter en viss elektrolyseperiode være blitt innført tilstrekkelig jern i badet ved kjemisk eller elektrokjemisk oppløsning av jernanodene til å skaffe den ønskede konsentrasjon av jernioner.-De galvaniske pletteringsbad ifølge oppfinnelsen som inneholder nikkel, kobolt, nikkel og kobolt, nikkel og jern, kobolt og jern eller nikkel, kobolt og jern, kan dessuten inneholde 30-60 g/l, fortrinnsvis ca.' 45 g/l, borsyre eller et annet buffer-middel til.å regulere pH-verdien (f.eks. fra ca. 2,5 til 5, fortrinnsvis ca. 3-4) og å hindre brenning som følge av høy strøm-tetthet.
Når dét foreligger jernioner i pletteringsbadene ifølge oppfinnelsen, er det for å gjøre jernionene oppløselige ønskelig å innlemme ett eller flere midler som virker kompleksdannende, chelatdannende, antioksyderende eller reduserende på jern eller gjør jern oppløselig, f.eks. sitronsyre, maleinsyre, glutarsyre, glukonsyre, askorbinsyre, isoaskorbinsyre, mukonsyre, glutamin-syre, glykollsyre eller aspartinsyre eller lignende syrer eller disses salter. Disse midler, som virker kompleksdannende eller oppløsende på jern, kan foreligge i pletteringsoppløsningen i konsentrasjoner på 1-100 g/l, naturligvis avhengig av hvor meget jern som er tilstede i pletteringsbadet.
For å hindre "brenning" i områder med høy strømtetthet, skaffe en jevnere temperaturregulering av oppløsningen og regulere mengden av jern i de jernholdige legeringsutfellinger kan der anvendes omrøring av oppløsningen. Omrøring med luft, mekanisk om-røring, pumping, omrøring ved hjelp av katodestaver og andre måter til omrøring av oppløsningen er alle tilfredsstillende. Dessuten kan badene arbeide uten omrøring.
Driftstemperaturen av de galvaniske pletteringsbad ifølge oppfinnelsen kan ligge på 40-85°C, fortrinnsvis på 50-70°C.
Den gjennomsnittlige katodestrømtetthet kan ligge i området
2 2
50-1200 A/m , og 300-600 A/m gir et optimalt område.
Typiske vandige nikkelholdige galvaniske pletteringsbad (som kan anvendes i kombinasjon med virksomme mengder samvirkende tilsetninger) innbefatter følgende bad, hvor alle konsentrasjoner er i g/l med mindre noe annet er angitt:
Når jernsulfat (FeSO^Tl^O) innlemmes i det foregående bad, vil konsentrasjonen være ca. 2,5 - 125 g/l.
Et typisk nikkelpletteringsbad av sulfamattypen som kan anvendes ved utførelse av den foreliggende oppfinnelse, kan inneholde følgende bestanddeler:
Når jernsulfat (FeSO^<*>7H20) innlemmes i det foregående bad, vil konsentrasjonen være ca. 2,5 - 125 g/l.
Et typisk kloridfritt nikkelpletteringsbad av suifattypen som kan anvendes ved utførelse av den foreliggende oppfinnelse, kan inneholde følgende bestanddeler:
Når jernsulfat (FeSO^*7H20) innlemmes i det foregående bad, vil konsentrasjonen være på ca. 2,5 - 125 g/l.
Et typisk klorfritt nikkelpletteringsbad av sulfamattypen som kan anvendes ved utførelse av den foreliggende oppfinnelse, kan inneholde følgende bestanddeler:
Når jernsulfat (FeSO^'Vl^O) er innlemmet i det foregående bad, vil konsentrasjonen være på ca. 2,5 - 125 g/l.
I det følgende er der angitt vandige koboltholdige og kobolt/ nikkel-holdige galvaniske pletteringsbad som kan anvendes ved ut-førelse av den foreliggende oppfinnelse:
pH-verdien av de typiske sammensetninger i tabell V kan" ligge på . ca. 3-5 og fortrinnsvis ca. 4.
Når jernsulfat (FeSO^"7H20) innlemmes i de foregående bad, vil konsentrasjonen ligge på 2,5 - 125 g/l.
Typiske galvaniske-pletteringsbad som inneholder nikkel og jern, og som kan anvendes ved utførelse av den foreliggende oppfinnelse, kan inneholde følgende bestanddeler:
Når jernsulfat (FeSO^"7H20) innlemmes i bad med sammensetning som angitt ovenfor, er det ønskelig i tillegg å innlemme ett eller flere midler som virker kompleksdannende, chelatdannende eller oppløsende på jern, idet middelet anvendes i konsentrasjoner på ca. 1 - 100 g/l>naturligvis avhengig av den foreliggende jern- . konsentrasjon.
Det vil. være klart at de ovennevnte bad kan inneholde forbindelser i mengder som ligger utenfor det område som defineres av de angitte foretrukne minimums- og maksimumsverdier, men at den mest tilfredsstillende og økonomiske drift vanligvis oppnås når forbindelsene er tilstede i badene i de angitte mengder.
pH-verdien av alle de foregående, belysende, vandige sammensetninger som inneholder nikkel, kobolt, nikkel og kobolt, nikkel og jern, kobolt og jern, eller nikkel, kobolt og jern, kan under pletteringen vedlikeholdes på 2,5 - 5,0 og fortrinnsvis på mellom 3,0 og 4,0. Under driften av badet kan pH-verdien normalt ha en
tilbøyelighet til å stige, og den kan reguleres ved hjelp av syrer som f.eks. saltsyre, svovelsyre etc.
Anoder som anvendes i de ovennevnte bad, kan bestå av.de bestemte enkle metaller som det pletteres med ved katoden, f.eks. nikkel eller kobolt ved plettering med henholdsvis nikkel og kobolt. Ved plettering med binære eller ternære legeringer, f.eks. nikkel og kobolt, kobolt og jern, nikkel og jern eller nikkel, kobolt og jern, kan anodene bestå av de respektive separate metaller opphengt på egnet måte i badet som stenger, strimler eller små biter i titankurver. I slike tilfeller innstilles forholdet mellom anodeoverflåtene av de forskjellige metaller i. overensstemmelse med den spesielle legeringssammensetning som ønskes ved katoden. For plettering med binære eller ternære legeringer kan der også som anoder anvendes legeringer av de respektive metaller i et vektforhold mellom metallene svarende til det prosentvise vektforhold mellom de samme metaller i den ønskede galvanisk utfelte legering på katoden. Disse to typer av anodesystemer vil vanligvis gi en stort sett konstant ionekon-sentrasjon av de respektive metaller i badet. Hvis der med anoder av legeringer med fast metallforhold skulle forekomme en viss ubalanse mellom metallionene i badet, kan der fra tid till annen utføres justeringer ved tilsetning av egnede korrigerende konsentrasjoner av de individuelle metallsalter. Alle anoder er vanligvis dekket på egnet måte med stoff- eller plastposer av ønsket porøsitet for å redusere til et minimum tilførselen til badet av metallpartikler, anodeslim etc. som kan Vandre til katoden enten mekanisk eller elektroforetisk og gi ruhet i den galvaniske utfelling på katoden.
De underlag som de galvaniske utfellinger ifølge oppfinnelsen som inneholder nikkel, kobolt, nikkel og kobolt, nikkel og jern, kobolt og jern eller nikkel, kobolt og jern, kan påføres på, kan være av metall eller metall-legeringer av den art som vanligvis forsynes med galvaniske pletteringsbelegg og benyttes i faget, f.eks. nikkel, kobolt, nikkel-kobolt, kobber, tinn, messing etc. Andre typiske underlagsmaterialer som gjenstander som skal pletteres, fremstilles fra, omfatter jernholdige metaller, f.eks. stål, kobber, kobberlegeringer som messing, bronse etc, og zink, spesielt i form av kokillestøpestykker på zinkbasis, og alle disse metaller kan bære pletterte skikt av andre metaller, f.eks. av kobber. G.runn-metallunderlagene kan være gitt en rekke overflatebehandlinger avhengig av det endelige utseende som ønskes, som i sin tur er avhengig av slike faktorer som glans, skinn, utjevning, tykkelse etc. av den galvaniske utfelling av kobolt, nikkel og/eller jern som påføres underlagene.-
Skjønt der kan oppnås galvaniske utfellinger av nikkel,
kobolt, nikkel og kobolt, nikkel og jern, kobolt og jern eller nikkel, jern og kobolt under anvendelse av de ovennevnte para-metre, kan glansen, utjevningen, duktiliteten og dekkevnen være utilfredsstillende eller utilstrekkelig for en bestemt anvendelse. Dessuten kan utfellingen være uklar eller matt og også oppvise, striper og trinn, avskalling samt dårlig mottagelighet for krom. Disse forhold kan spesielt oppstå etter tilsetning av for store kompletterende mengder av glanstilsatser av klasse II eller ved bruk av spesielt "kraftige" glanstilsatser av klasse II. Når det gjelder jernholdige pletteringsbad som dessuten inneholder midler som virker oppløsende på jern, kan jernet eller jernoppløsnings-midlene også medføre et tap i utjevning og glans, eller de kan føre til uklare, matte eller stripete utfellinger. Ifølge den fore-
liggende oppfinnelse er det oppdaget at det ved tilsetning til et vandig, surt galvanisk pletteringsbad for plettering med nikkel, kobolt, nikkel og kobolt, nikkel og jern, kobolt og jern, eller nikkel, jern og kobolt, er mulig å rette på de foran nevnte ulemper ved tilsetning eller innlemmelse av visse sulfoner som er forenlige med badet og som har visse/^-og/éller ^"-substituerte undergrupper. Dessuten'tillater de sulfonforbindelser som skal anvendes ifølge oppfinnelsen, bruken av høyere konsentrasjoner enn normalt av glanstilsatser av klasse II, hvorved det blir mulig å oppnå en høyere grad av glans og utjevning uten uønskede striper, helligdager, sprøhet etc. som vanligvis må ventes under disse forhold.
Disse badoppløselige sulfoner erkarakterisert vedden følgende strukturformel:
hvor R betyr -0H, S03H eller salter derav, eller -COOH eller salter eller estre derav; a, b, c er uavhengige av hverandre og lik 1 eller 2.
Det er underforstått. at der.kan også foreligge undergrupper som f.eks. klorid, bromid, alkoksy etc. som er forenlige med badet men som ikke i seg selv bidrar til virkningen av det substituerte syklosulfon/men er enten inerte med hensyn til den galvaniske pletteringsoppløsning eller gir øket oppløsning i badet av grunnsulfonet.
Typiske eller representativé forbindelser som har den ovennevnte generaliserte formel er angitt nedenfor uten at dette må oppfattes som noen begrensning:
3-hydroksytiasyklobutan-l,1-dioksyd 3-hydroksysulfolan 3,4-dihydroksysulfolan 3-bromo-4-hydroksysulfolan Sulfolan-3-sulfonsyrenatriumsalt 3-karbok sysulfolan 3-hydroksy-4-sulfosulfolan 4-hydroksy tlasy.kloheksan-1,1-dioksyd 3-bromo-4-sulfotiasykloheksan-1,1-dioksyd
Av de ovennevnte forbindelser er de følgende spesielt nyttige ved utførelsen av den foreliggende oppfinnelse:
3-hydroksysulfolan
3,4-dihydroksysulfolan
3-sulfosulfolan
3-hydroksy-4-sulfosulfolan
De substituerte syklosulfoner som anvendes ifølge den foreliggende oppfinnelse, er usedvanlige ved at de ikke virker som glanstilsatser i seg selv slik som glanstilsatser av klasse I eller II gjør. De bør derfor ikke betraktes som glanstilsatser, men snarere som tilsetninger hvis funksjon i badet er å overvinne uklarheter, striper, avskalling, trinndannelse og helligdager. I tillegg kan der oppnås en forbedring av utfellingens dekning og jevnhet ved lav strømtetthet ved tilsetning av disse forbindelser til galvaniske pletteringsbad inneholdende nikkel, kobolt, nikkel/kobolt, nikkel/jern, kobolt/jern eller nikkel/ kobolt/jern.
De substituerte syklosulfoner anvendes i galvaniske pletteringsbad i konsentrasjoner på 5<*>10 ^ - 0,5 mol/l og fortrinnsvis - n;
De følgende eksempler er gjengitt for å belyse oppfinnelsen og gi fagfolk en bedre forståelse av de forskjellige utførelses-former og sider ved oppfinnelsen. Eksemplene tjener således ikke til definisjon av beskyttelsesområdet.
Eksempel 1
Et vandig galvanisk nikkelpletteringsbad med følgende sammensetning ble fremstilt: NiS04<*>6H20 300 g/l
NiCl2<*>6H20 60 g/l
H3B0345 g/l
Natrium o-sulfobenzimid 2,25 g/l Natriumallylsulfonat 3,68 g/l 1,4-di($-hydroksyetoksy)-
2-butyn 0,2 g/l
pH-verdi 3,8
Temperatur 55°C
En polert messingplate ble oppskrapt ved en eneste horisontal passasje av smergelpapir med 4/0-korn for å gi et ca. 1 cm bredt bånd i en avstand på ca. 2,5 cm fra den nedre kant av platen og parallelt med denne. Den rensede plate ble deretter plettert i en 267 ml's Hull-celle med en cellestrøm på 2A i 10 min. under anvendelse av den ovennevnte oppløsning og magnetisk omrøring.
Med den ovennevnte oppløsning ble der oppnådd en utfelling som var skinnende, glansfull .og godt utjevnet (noe utviskingen og utfyllingen av ripene fra smergelpapiret vitnet om) i et strøm-tetthetsområde fra ca. 200 A/m 2 til høy-strømtetthetsområdet langs kanten av prøveplaten. I området med lavere strømtetthet enn 200 A/m 2 var utfellingen mørk av farge, sterkt stripet, og sam-tidig meget tynn med områder med trinndannelse. Dette forhold skyldtes bruken av ca. det dobbelte av den "normale" konsentrasjon av 1,4-di (/^-hydroksyetoksy)-2-butyn for å oppnå meget blanke nikkelutfellinger med god utjevning.
Ved til setning av 1, 8' 10 -3 mol/l (0,4 g/l) av natriumsulfolan-i I
3-sulfonat (CH2-CH2-S02-CH2-CH-S03Na) til pletteringsoppløsningen og gjentagelse av pletteringsforsøket ble der oppnådd en nikkel-utfelling som var skinnende og godt utjevnet samt fri fra striper, tynnhet ved lav strømtetthet, og trinndannelse over hele prøve-platens strømtetthetsområdei
Eksempel 2
Et vandig galvanisk nikkelpletteringsbad ble fremstilt og utprøvet på samme måte som beskrevet i eksempel 1, men med den forskjell at i stedet for å tilsette natriumsulfolan-3-sulfonat
-4
til nikkelpletteringsoppløsningen ble der tilsatt 4, 6' 10 mol/l (0,1 g/l) av 3-bromo-4-hydroksysulfolan (Br-CH-CH2-S02-CH2-CH-OH). Den resulterende utfelling var skinnende, godt utjevnet, og fri fra striper og trinndannelse, fra høy-strømtetthetsområdet langs kanten av prøveplaten til et område hvor strømtettheten var bare ca. 20 A/m 2. i det område■hvor strømtettheten var lavere enn 20 A/m 2 var der en svak uklarhet. Konsentrasjonen av 3-bromo-4--4
hydroksysulfolan ble økt til 9,2*10 mol/l )0,2 q/ l), og forsøket gjentatt. Den resulterende utfelling var identisk med den foregående bortsett fra at der var ingen tegn til uklarhet.
De ovennevnte eksempler er gjengitt for å belyse oppfinnelsen og gi fagfolk en bedre forståelse av de forskjellige utførelses-formér og sider ved oppfinnelsen. Eksemplene tjener således ikke til definisjon av beskyttelsesområdet.
Claims (13)
1. Fremgangsmåte til fremstilling av en galvanisk utfelling som inneholder nikkel, kobolt og/eller binære eller ternære legeringer av metaller valgt fra gruppen nikkel, jern og kobolt, omfattende å føre strøm fra en anode' til en katode gjennom en vandig, sur galvanisk pletteringsopplø sning som inneholder minst én komponent valgt fra nikkelforbindelser, koboltforbindelser og jernforbindelser som skaffer nikkel-, kobolt- og jernioner for galvanisk utfelling av nikkel, kobolt, nikkel/kobolt-legeringer, kobolt/jern-legeringer og nikkel/jern/kobolt-legeringer, i tilstrekkelig lang tid til at der dannes en galvanisk metallutfelling på katoden, karakterisert ved at der i oppløsningen foreligger 5*10 — 6 - 0,5 mol/l av et substituert syklosulfon med følgende generelle strukturformel: ;hvor R betyr -OH, -SO^ H eller salter derav, eller -COOH eller salter eller estre derav; a, b, c er uavhengige av hverandre og lik 1 eller 2.;
2. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at minst ett syklosulfon er er 3-hydroksysulfolan.;
3. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at minst ett syklosulfon er 3-bromo-4-hydroksysulfolan.;
4. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at minst ett syklosulfon er 3,4-dihydroksysulfolan.;
5. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at minst ett syklosulfon er 3-sulfosulfolan.;
6. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at minst ett syklosulfon er sulfolan-3-sulfonsyrenatrium-salt.;
7. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at minst ett syklosulfon er 3-hydroksy-4-sulfosulfolan.;
8. Vandig, sur galvanisk pletteringsoppløsning til utførelse av fremgangsmåte som angitt i krav 1, idet oppløsningen inneholder minst én komponent valgt fra nikkelforbindelser, koboltforbindelser og jernforbindelser som skaffer nikkel-, kobolt- og jernioner for galvanisk utfelling av nikkel, kobolt, nikkel/kobolt-legeringer, nikkel/jern-legeringer, kobolt/jern-legeringer eller nikkel/kobolt/ jern-legeringer, karakterisert ved at der i opp-
løsningen foreligger 5 <*> 10 ^ mol/l - 0,5 mol/l av et substituert syklosulfon med følgende generelle strukturformel:
hvor R betyr -OH, -SChj H eller salter derav, eller -COOH eller salter eller estre derav; a, b, c er uavhengige av hverandre og lik 1 eller 2.
9. Sammensetning som angitt i krav 8 karakterisert ved at minst ett syklosulfon er 3-hydroksysulfolan.
10. Sammensetning som angitt i krav 8 karakterisert ved at minst ett syklosulfon er 3-bromo-4-hydroksysulfolan.
11. Samménsetning som angitt i krav 8 karakterisert ved at minst ett syklosulfon er 3,4-dihydroksysulfolan.
12. Sammensetning som angitt i krav 8 karakterisert v e d at minst ett syklosulfon er 3-sulfosulfolan.
13. Sammensetning som angitt i krav 8 karakterisert ved at minst ett syklosulfon er sulfolan-3-sulfonsyrenatrium-sal t.
14, Sammensetning som angitt i krav 8 karakterisert ved at minst ett syklosulfon er 3-hydroksy-4-sulfosulfolan.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US69749076A | 1976-06-18 | 1976-06-18 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| NO772116L true NO772116L (no) | 1977-12-20 |
Family
ID=24801331
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| NO772116A NO772116L (no) | 1976-06-18 | 1977-06-15 | Fremgangsm}te til fremstilling av en galvanisk utfelling og pletteringsoppl¦sning til utf¦relse av fremgangsm}ten |
Country Status (20)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4069112A (no) |
| JP (1) | JPS52156138A (no) |
| AR (1) | AR216911A1 (no) |
| AU (1) | AU509447B2 (no) |
| BE (1) | BE855425A (no) |
| BR (1) | BR7702667A (no) |
| CA (1) | CA1081650A (no) |
| DE (1) | DE2718284A1 (no) |
| DK (1) | DK271177A (no) |
| ES (1) | ES457484A1 (no) |
| FR (1) | FR2355096A1 (no) |
| GB (1) | GB1521238A (no) |
| IT (1) | IT1080255B (no) |
| MX (1) | MX4434E (no) |
| NL (1) | NL7706722A (no) |
| NO (1) | NO772116L (no) |
| NZ (1) | NZ183529A (no) |
| PL (1) | PL198944A1 (no) |
| SE (1) | SE7703113L (no) |
| ZA (1) | ZA77896B (no) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4511631A (en) * | 1984-04-13 | 1985-04-16 | Toyo Kohan Co., Ltd. | Metallic chromium-nickel-hydrated chromium oxide-coated tin free steel and process for the production thereof |
| DE3416993A1 (de) * | 1984-05-09 | 1985-11-21 | Gerhard Collardin GmbH, 5000 Köln | Waessrige, saure, nickel- und cobalt-ionen enthaltende elektrolyte zur galvanischen abscheidung von harten, anlaufbestaendigen, weiss glaenzenden legierungsueberzuegen |
| WO2017004424A1 (en) * | 2015-06-30 | 2017-01-05 | Enthone Inc. | Cobalt filling of interconnects in microelectronics |
| KR102566586B1 (ko) * | 2016-07-18 | 2023-08-16 | 바스프 에스이 | 보이드 없는 서브미크론 피쳐 충전을 위한 첨가제를 포함하는 코발트 도금용 조성물 |
| US11035048B2 (en) * | 2017-07-05 | 2021-06-15 | Macdermid Enthone Inc. | Cobalt filling of interconnects |
| KR102603547B1 (ko) | 2017-10-31 | 2023-11-16 | 스미토모 세이카 가부시키가이샤 | 비수 전해액용 첨가제, 비수 전해액 및 축전 디바이스 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR1266377A (fr) * | 1960-09-01 | 1961-07-07 | Metal & Thermit Corp | Dépôt électrolytique de nickel brillant |
| US3376207A (en) * | 1965-05-17 | 1968-04-02 | Patent Serm Ag | Electrodeposition of nickel and electrolytes therefor |
| US3697392A (en) * | 1970-07-02 | 1972-10-10 | Allied Res Prod Inc | Electrodeposition of nickel |
-
1976
- 1976-10-04 US US05/729,074 patent/US4069112A/en not_active Expired - Lifetime
-
1977
- 1977-02-15 ZA ZA770896A patent/ZA77896B/xx unknown
- 1977-03-03 AU AU22885/77A patent/AU509447B2/en not_active Expired
- 1977-03-08 NZ NZ183529A patent/NZ183529A/xx unknown
- 1977-03-18 SE SE7703113A patent/SE7703113L/ not_active Application Discontinuation
- 1977-03-18 MX MX775552U patent/MX4434E/es unknown
- 1977-03-18 AR AR266901A patent/AR216911A1/es active
- 1977-04-02 ES ES457484A patent/ES457484A1/es not_active Expired
- 1977-04-21 GB GB16688/77A patent/GB1521238A/en not_active Expired
- 1977-04-25 DE DE19772718284 patent/DE2718284A1/de not_active Withdrawn
- 1977-04-27 BR BR7702667A patent/BR7702667A/pt unknown
- 1977-06-06 BE BE178226A patent/BE855425A/xx not_active IP Right Cessation
- 1977-06-07 FR FR7717371A patent/FR2355096A1/fr active Pending
- 1977-06-15 NO NO772116A patent/NO772116L/no unknown
- 1977-06-16 CA CA280,703A patent/CA1081650A/en not_active Expired
- 1977-06-17 PL PL19894477A patent/PL198944A1/xx unknown
- 1977-06-17 DK DK271177A patent/DK271177A/da not_active Application Discontinuation
- 1977-06-17 NL NL7706722A patent/NL7706722A/xx not_active Application Discontinuation
- 1977-06-17 IT IT09492/77A patent/IT1080255B/it active
- 1977-06-18 JP JP7274477A patent/JPS52156138A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| MX4434E (es) | 1982-05-04 |
| CA1081650A (en) | 1980-07-15 |
| GB1521238A (en) | 1978-08-16 |
| BE855425A (fr) | 1977-10-03 |
| SE7703113L (sv) | 1977-12-19 |
| FR2355096A1 (fr) | 1978-01-13 |
| ZA77896B (en) | 1977-12-28 |
| US4069112A (en) | 1978-01-17 |
| NL7706722A (nl) | 1977-12-20 |
| NZ183529A (en) | 1979-01-11 |
| AR216911A1 (es) | 1980-02-15 |
| AU2288577A (en) | 1978-09-07 |
| DK271177A (da) | 1977-12-19 |
| BR7702667A (pt) | 1978-03-28 |
| ES457484A1 (es) | 1978-03-16 |
| DE2718284A1 (de) | 1977-12-29 |
| IT1080255B (it) | 1985-05-16 |
| JPS52156138A (en) | 1977-12-26 |
| PL198944A1 (pl) | 1978-03-13 |
| AU509447B2 (en) | 1980-05-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US2927066A (en) | Chromium alloy plating | |
| US3804726A (en) | Electroplating processes and compositions | |
| US4053373A (en) | Electroplating of nickel, cobalt, nickel-cobalt, nickel-iron, cobalt-iron and nickel-iron-cobalt deposits | |
| US4036709A (en) | Electroplating nickel, cobalt, nickel-cobalt alloys and binary or ternary alloys of nickel, cobalt and iron | |
| US3697391A (en) | Electroplating processes and compositions | |
| NO147994B (no) | Fremgangsmaate til fremstilling av en elektrolytisk utfelling og pletteringsopploesning til utfoerelse av fremgangsmaaten | |
| CA1083078A (en) | Alloy plating | |
| KR101046301B1 (ko) | 니켈플래쉬 도금용액, 전기아연강판 및 이의 제조방법 | |
| KR20100121399A (ko) | 니켈플래쉬 도금용액, 전기아연도금강판 및 이의 제조방법 | |
| US3922209A (en) | Electrode position of alloys of nickel, cobalt or nickel and cobalt with iron and electrolytes therefor | |
| CA1132088A (en) | Electrodepositing iron alloy composition with aryl complexing compound present | |
| NO772116L (no) | Fremgangsm}te til fremstilling av en galvanisk utfelling og pletteringsoppl¦sning til utf¦relse av fremgangsm}ten | |
| CA1134775A (en) | Acid zinc electroplating process and composition | |
| NO150214B (no) | Fremgangsmaate til elektrolytisk utfelling av nikkel, kobolt og/eller binaere eller ternaere legeringer av metaller valgt fra gruppen nikkel, jern og kobolt og pletteringsloesning til utfoerelse av fremgangsmaaten | |
| NO781938L (no) | Fremgangsmaate til fremstilling av en galvanisk utfelling og pletteringsopploesning til utfoerelse av fremgangsmaaten. | |
| US2748068A (en) | Composition and process for electroplating bright nickel | |
| NO137760B (no) | Fremgangsm}te til fremstilling av en galvanisk utfelling av en jernlegering som inneholder nikkel eller nikkel og kobolt, og vandig pletteringsoppl¦sning for utf¦relse av fremgangsm}ten. | |
| NO147995B (no) | Fremgangsmaate til fremstilling av en elektrolytisk utfelling og pletteringsopploesning for utfoerelse av fremgangsmaaten | |
| US3969399A (en) | Electroplating processes and compositions | |
| US4435254A (en) | Bright nickel electroplating | |
| JPS5921394B2 (ja) | 鉄合金めっき水溶液 | |
| US4549942A (en) | Process for electrodepositing composite nickel layers | |
| EP0025694B1 (en) | Bright nickel plating bath and process and composition therefor | |
| US3514380A (en) | Chromium plating from a fluosilicate type bath containing sodium,ammonium and/or magnesium ions | |
| US4764262A (en) | High quality, bright nickel plating |