NO863433L - Polymerer til behandling av overflater. - Google Patents
Polymerer til behandling av overflater.Info
- Publication number
- NO863433L NO863433L NO863433A NO863433A NO863433L NO 863433 L NO863433 L NO 863433L NO 863433 A NO863433 A NO 863433A NO 863433 A NO863433 A NO 863433A NO 863433 L NO863433 L NO 863433L
- Authority
- NO
- Norway
- Prior art keywords
- phenyl
- groups
- group
- substituents
- alkyl
- Prior art date
Links
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims description 10
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 title description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 27
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 25
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 16
- -1 -SH Chemical group 0.000 claims description 14
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 12
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 claims description 9
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims description 8
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 7
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 7
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 claims description 6
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 claims description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims description 5
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 claims description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000005581 pyrene group Chemical group 0.000 claims description 3
- 230000027756 respiratory electron transport chain Effects 0.000 claims description 3
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000005037 alkyl phenyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000005577 anthracene group Chemical group 0.000 claims description 2
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 claims description 2
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 claims description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 2
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 claims description 2
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 18
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 5
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 125000001140 1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:2])=C([H])C([H])=C1[*:1] 0.000 description 3
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 3
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 3
- ZJQQRRMYJSBNOH-UHFFFAOYSA-N (3,4-dimethoxyphenyl)-dimethoxy-methylsilane Chemical compound COC1=CC=C([Si](C)(OC)OC)C=C1OC ZJQQRRMYJSBNOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KJLUORISKYXZLZ-UHFFFAOYSA-N 4-[dimethoxy(methyl)silyl]-2,6-dimethylbenzonitrile Chemical compound CO[Si](C)(OC)C1=CC(C)=C(C#N)C(C)=C1 KJLUORISKYXZLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005411 Van der Waals force Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 2
- LNBLBKMIENYAGP-UHFFFAOYSA-N dichloro-(3,5-dimethylphenyl)-methylsilane Chemical compound CC1=CC(C)=CC([Si](C)(Cl)Cl)=C1 LNBLBKMIENYAGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 2
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 2
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N pyrene Chemical compound C1=CC=C2C=CC3=CC=CC4=CC=C1C2=C43 BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229920005573 silicon-containing polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- PYOKUURKVVELLB-UHFFFAOYSA-N trimethyl orthoformate Chemical compound COC(OC)OC PYOKUURKVVELLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LMFRTSBQRLSJHC-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-3,5-dimethylbenzene Chemical compound CC1=CC(C)=CC(Br)=C1 LMFRTSBQRLSJHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVTLTBONLZSBJC-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-tris(ethenyl)-2,4,6-trimethyl-1,3,5,2,4,6-trioxatrisilinane Chemical compound C=C[Si]1(C)O[Si](C)(C=C)O[Si](C)(C=C)O1 BVTLTBONLZSBJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003762 3,4-dimethoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C(OC([H])([H])[H])C([H])=C1* 0.000 description 1
- KBTMGSMZIKLAHN-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,2-dimethoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(Br)C=C1OC KBTMGSMZIKLAHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LAYDFDMDUCVHBO-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-2,6-dimethylbenzonitrile Chemical compound CC1=CC(Br)=CC(C)=C1C#N LAYDFDMDUCVHBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHMXBWJNWMUZEM-UHFFFAOYSA-N 5-[dimethoxy(phenyl)silyl]benzene-1,3-dicarbonitrile Chemical compound C=1C(C#N)=CC(C#N)=CC=1[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 NHMXBWJNWMUZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonium chloride Substances [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJUPTFDROKFGMI-UHFFFAOYSA-N C[SiH](OC)OC.C(#N)C=1C=C(C=C(C1)C#N)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C[SiH](OC)OC.C(#N)C=1C=C(C=C(C1)C#N)C1=CC=CC=C1 SJUPTFDROKFGMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003747 Grignard reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007818 Grignard reagent Substances 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 229940095564 anhydrous calcium sulfate Drugs 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- FDCBKHMYMQKXGF-UHFFFAOYSA-N chloro-methoxy-methylsilane Chemical compound CO[SiH](C)Cl FDCBKHMYMQKXGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013375 chromatographic separation Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 125000001891 dimethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000005805 dimethoxy phenyl group Chemical group 0.000 description 1
- GYZSPRZBAAJGON-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-(6-pyren-1-ylhexyl)silane Chemical compound C1=C2C(CCCCCC[Si](C)(OC)OC)=CC=C(C=C3)C2=C2C3=CC=CC2=C1 GYZSPRZBAAJGON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 239000012259 ether extract Substances 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N fluoranthrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=C22)=C3C2=CC=CC3=C1 GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 1
- 150000004795 grignard reagents Chemical class 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 239000002035 hexane extract Substances 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004811 liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- GBMDVOWEEQVZKZ-UHFFFAOYSA-N methanol;hydrate Chemical compound O.OC GBMDVOWEEQVZKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N n-[4-(1,3-benzoxazol-2-yl)phenyl]-4-nitrobenzenesulfonamide Chemical class C1=CC([N+](=O)[O-])=CC=C1S(=O)(=O)NC1=CC=C(C=2OC3=CC=CC=C3N=2)C=C1 SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 125000005575 polycyclic aromatic hydrocarbon group Polymers 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 description 1
- ICEYAVKJMMRQIX-UHFFFAOYSA-N trichloro-[3-(3,5-dimethoxyphenyl)propyl]silane Chemical compound COC1=CC(CCC[Si](Cl)(Cl)Cl)=CC(OC)=C1 ICEYAVKJMMRQIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003751 zinc Chemical class 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J20/00—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof
- B01J20/281—Sorbents specially adapted for preparative, analytical or investigative chromatography
- B01J20/286—Phases chemically bonded to a substrate, e.g. to silica or to polymers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J20/00—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof
- B01J20/30—Processes for preparing, regenerating, or reactivating
- B01J20/32—Impregnating or coating ; Solid sorbent compositions obtained from processes involving impregnating or coating
- B01J20/3202—Impregnating or coating ; Solid sorbent compositions obtained from processes involving impregnating or coating characterised by the carrier, support or substrate used for impregnation or coating
- B01J20/3204—Inorganic carriers, supports or substrates
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J20/00—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof
- B01J20/30—Processes for preparing, regenerating, or reactivating
- B01J20/32—Impregnating or coating ; Solid sorbent compositions obtained from processes involving impregnating or coating
- B01J20/3214—Impregnating or coating ; Solid sorbent compositions obtained from processes involving impregnating or coating characterised by the method for obtaining this coating or impregnating
- B01J20/3217—Resulting in a chemical bond between the coating or impregnating layer and the carrier, support or substrate, e.g. a covalent bond
- B01J20/3219—Resulting in a chemical bond between the coating or impregnating layer and the carrier, support or substrate, e.g. a covalent bond involving a particular spacer or linking group, e.g. for attaching an active group
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J20/00—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof
- B01J20/30—Processes for preparing, regenerating, or reactivating
- B01J20/32—Impregnating or coating ; Solid sorbent compositions obtained from processes involving impregnating or coating
- B01J20/3231—Impregnating or coating ; Solid sorbent compositions obtained from processes involving impregnating or coating characterised by the coating or impregnating layer
- B01J20/3242—Layers with a functional group, e.g. an affinity material, a ligand, a reactant or a complexing group
- B01J20/3244—Non-macromolecular compounds
- B01J20/3246—Non-macromolecular compounds having a well defined chemical structure
- B01J20/3257—Non-macromolecular compounds having a well defined chemical structure the functional group or the linking, spacer or anchoring group as a whole comprising at least one of the heteroatoms nitrogen, oxygen or sulfur together with at least one silicon atom, these atoms not being part of the carrier as such
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J20/00—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof
- B01J20/30—Processes for preparing, regenerating, or reactivating
- B01J20/32—Impregnating or coating ; Solid sorbent compositions obtained from processes involving impregnating or coating
- B01J20/3231—Impregnating or coating ; Solid sorbent compositions obtained from processes involving impregnating or coating characterised by the coating or impregnating layer
- B01J20/3242—Layers with a functional group, e.g. an affinity material, a ligand, a reactant or a complexing group
- B01J20/3244—Non-macromolecular compounds
- B01J20/3246—Non-macromolecular compounds having a well defined chemical structure
- B01J20/3257—Non-macromolecular compounds having a well defined chemical structure the functional group or the linking, spacer or anchoring group as a whole comprising at least one of the heteroatoms nitrogen, oxygen or sulfur together with at least one silicon atom, these atoms not being part of the carrier as such
- B01J20/3259—Non-macromolecular compounds having a well defined chemical structure the functional group or the linking, spacer or anchoring group as a whole comprising at least one of the heteroatoms nitrogen, oxygen or sulfur together with at least one silicon atom, these atoms not being part of the carrier as such comprising at least two different types of heteroatoms selected from nitrogen, oxygen or sulfur with at least one silicon atom
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J20/00—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof
- B01J20/30—Processes for preparing, regenerating, or reactivating
- B01J20/32—Impregnating or coating ; Solid sorbent compositions obtained from processes involving impregnating or coating
- B01J20/3231—Impregnating or coating ; Solid sorbent compositions obtained from processes involving impregnating or coating characterised by the coating or impregnating layer
- B01J20/3242—Layers with a functional group, e.g. an affinity material, a ligand, a reactant or a complexing group
- B01J20/3244—Non-macromolecular compounds
- B01J20/3246—Non-macromolecular compounds having a well defined chemical structure
- B01J20/3257—Non-macromolecular compounds having a well defined chemical structure the functional group or the linking, spacer or anchoring group as a whole comprising at least one of the heteroatoms nitrogen, oxygen or sulfur together with at least one silicon atom, these atoms not being part of the carrier as such
- B01J20/3261—Non-macromolecular compounds having a well defined chemical structure the functional group or the linking, spacer or anchoring group as a whole comprising at least one of the heteroatoms nitrogen, oxygen or sulfur together with at least one silicon atom, these atoms not being part of the carrier as such comprising a cyclic structure not containing any of the heteroatoms nitrogen, oxygen or sulfur, e.g. aromatic structures
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J20/00—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof
- B01J20/30—Processes for preparing, regenerating, or reactivating
- B01J20/32—Impregnating or coating ; Solid sorbent compositions obtained from processes involving impregnating or coating
- B01J20/3231—Impregnating or coating ; Solid sorbent compositions obtained from processes involving impregnating or coating characterised by the coating or impregnating layer
- B01J20/3242—Layers with a functional group, e.g. an affinity material, a ligand, a reactant or a complexing group
- B01J20/3244—Non-macromolecular compounds
- B01J20/3246—Non-macromolecular compounds having a well defined chemical structure
- B01J20/3257—Non-macromolecular compounds having a well defined chemical structure the functional group or the linking, spacer or anchoring group as a whole comprising at least one of the heteroatoms nitrogen, oxygen or sulfur together with at least one silicon atom, these atoms not being part of the carrier as such
- B01J20/3263—Non-macromolecular compounds having a well defined chemical structure the functional group or the linking, spacer or anchoring group as a whole comprising at least one of the heteroatoms nitrogen, oxygen or sulfur together with at least one silicon atom, these atoms not being part of the carrier as such comprising a cyclic structure containing at least one of the heteroatoms nitrogen, oxygen or sulfur, e.g. an heterocyclic or heteroaromatic structure
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J20/00—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof
- B01J20/30—Processes for preparing, regenerating, or reactivating
- B01J20/32—Impregnating or coating ; Solid sorbent compositions obtained from processes involving impregnating or coating
- B01J20/3231—Impregnating or coating ; Solid sorbent compositions obtained from processes involving impregnating or coating characterised by the coating or impregnating layer
- B01J20/3242—Layers with a functional group, e.g. an affinity material, a ligand, a reactant or a complexing group
- B01J20/3268—Macromolecular compounds
- B01J20/3272—Polymers obtained by reactions otherwise than involving only carbon to carbon unsaturated bonds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/121—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20
- C07F7/122—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-C linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/29—Coated or structually defined flake, particle, cell, strand, strand portion, rod, filament, macroscopic fiber or mass thereof
- Y10T428/2982—Particulate matter [e.g., sphere, flake, etc.]
- Y10T428/2991—Coated
- Y10T428/2993—Silicic or refractory material containing [e.g., tungsten oxide, glass, cement, etc.]
- Y10T428/2995—Silane, siloxane or silicone coating
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/29—Coated or structually defined flake, particle, cell, strand, strand portion, rod, filament, macroscopic fiber or mass thereof
- Y10T428/2982—Particulate matter [e.g., sphere, flake, etc.]
- Y10T428/2991—Coated
- Y10T428/2998—Coated including synthetic resin or polymer
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31—Surface property or characteristic of web, sheet or block
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31—Surface property or characteristic of web, sheet or block
- Y10T428/315—Surface modified glass [e.g., tempered, strengthened, etc.]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31551—Of polyamidoester [polyurethane, polyisocyanate, polycarbamate, etc.]
- Y10T428/31609—Particulate metal or metal compound-containing
- Y10T428/31612—As silicone, silane or siloxane
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
- Graft Or Block Polymers (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Description
Målet for foreliggende oppfinnelse er et middel, det vil si en organosilisium forbindelse for å gi lipofile egenskaper til en hydrofil overflate så som den til glass, kvarts, oksidert silikon, metall-metall oksyd eller til en plast inneholdene 0H- og/eller NH-grupper. Ved hjelp av oppfinnelsen kan de fysiokjemiske egenskaper, spesielt absorpsjons-egenskapene til en slik overflate selektivt modifiseres og/ eller forbedres. I henhold til en type av oppfinnelsen kan middelet i henhold til oppfinnelsen polymeriseres valgfritt ved ytterligere å bruke i og for seg kjente silisium forbindelser for å danne en silisium polymer som kan tilføres absorpsjon en overflate som fortrinnsvist er blitt forbe-handlet i henhold til oppfinnelsen. Et viktig bruktsområde for de omhandlende forbindelser er i kromotografi, både gass og væske kromotografi, spesielt gass kromotografi og i elektroniske deler.
Det kjent å behandle overflater av for eksempel glass med organo-silisium forbindelser eller polymere for å modifisere deres hydrofile egenskaper, så som for kromatografiske formål, jevnfør DE 834 002, DE 29 30 516, Advances in Chemistry Series, vol. 87 (1968), Bascom W.D. og GB 1.354. 357. Imidlertid har, i disse kjente metoder, primært alifa-tiske silaner blitt brukt. I tilfeller hvor aromatiske silaner har blitt brukt har fenyl substituenten enten vært under-substituert eller substituert med grupper eller atomer, spesielt halogen atomer som imidlertid ikke fremskaffer den ønskede selektivitet i henhold til oppfinnelsen. Det er også kjent å danne overflate belegg inneholdene mer kompli-sert substituerte aromatiske grupper. Imidlertid, istedet for å bruke den film dannende forbindelse som sådann for å danne belegget, dannes filmen ved å bygge detønskede molekyl opp av mindre molekyl enheter ved å starte fra substrat-overflaten og fortsette fra denne i en utadrettet retning ved stegvis å tilsette de krevede molekulære enheter (Journal of Amercan Chemical Society, vol. 102 (1980) nr. 12, p. 4029 til 4030).
Det er et mål for oppfinnelsen å fremskaffe nye organo substituerte silaner, inneholdene som en substituent en fenyl gruppe som ytterligere er substituert for å fremskaffe forbindelser ved hjelp av hvilke egenskapene til den behandlede overflate kan skreddersys på en meget selektiv måte. Dette målet oppnås ved selektivt å velge ut slike substituenter på fenyl gruppen(e) i silane som er i stand til akt-ivt å delta i intermolekulaere krefter, så som ved dannelsen av 1adningsoverførende komplekser.
Det organo substituerte silan i henhold til oppfinnelsen er representert av den generelle formel
1 2 hvori Z og Z uavhengig av hverandre er klor, fluor, brom, alkoksy med ikke mer enn 6 karbonatomer, NH, - NH^, -NR'2, hvori R<1>er alkyl med 1 til 3 karbonatomer, -SH,
-CN, -N-. eller hydrogen og
<1>
R er
hvori hver S-substi tuent, som kan være like eller forskjellige, er hydrogen hvorved fenylringen kan inneholde høyst 4 hydrogen substituenter, alkyl med 2 til 4 karbonatomer eller metyl eller metoksy ihvilket tilfelle det kan være høyst 3 hydrogen substituenter i fenylringen, cyano, etoksy eller to hosliggende S-substituenter danner med fenylkjernen en naftalen eller antracen gruppe, eller tre hosliggende S-substituenter danner sammen med fenylkjernen en pyren gruppe og X er gruppen -(CH2) hvori n er 0 til 20,
fortrinnsvist 10 til 16, eller gruppen
hvori i er 0 til 10 og k er 1 til 5, hvorved, når n ikke er 0, det vil si X er en avstandsgruppe, kan S-substituentene, spesielt S^også være fenoksy eller bifenyl og R 2 er
1 1
lik Z eller R eller er lavere alkyl, lavere alkenyl, fenyl eller fenyl substituert med lavere alkyl eller lavere alkoksy.
Uttrykket "lavere" i forbindelse med grupper eller forbindelser inneholder fra 1 til 7, fortrinnsvist fra 1 til 4 karbonatomer.
Spesielt fordelaktige forbindelser i henhold til oppfinnelsen erholdes når R"*" er en av de følgende grupper
i hvilke grupper R er direkte bundet til silisium atomet eller over en avstandsgruppe av formel
hvori i er 1 til 10 og k er 1 til 5.
Forbindelsene i henhold til oppfinnelsen er således silaner inneholdene minst en gruppe Z, som kan danne en kjemisk binding med en hydrofil gruppe til overflaten som skal behandles og en eller selektivt substituerte fenyl grupper.
I henhold til oppfinnelsen kan absorpsjons egenskapene til overflaten således behandlet modifiseres og/eller forbedres Spesielt kan overflaten modifiseres på en selektiv måte ved å bruke spesifike substituenter på fenyl gruppen som definert ovenfor. Overflater erholdes således som er velegnet for et antall formål, så som for kromatografiske formål, eller som har spesifike elektriske egenskaper og er passende for bruk i elektronisk apparatur og/eller som ytterligere kan behandles for eksempel ved å absorbere derpå et ytterligere lag, for eksempel erholdt ved polymerisering av forbindelsene (I).
De mest viktige krefter som foreligger mellom ikke-ioniske molekyler stammer fra hydrogenbindinger og dipol-dipol-interaksjoner. I visse tilfeller er dannelsen av ladnings-overføring komplekser rådene. Sammenlignet med disse krefter er Van der Waals kreftene svake. Imidlertid er i enkelte tilfeller de eneste krefter mellom molekylene Van der Waals krefter.
Som nevnt ovenfor har overflater tidligere blitt belagt for kroatografiske formål med forbindelser så som metyl, octa-decyl- og fenylsiloksaner hvor intraksjonene med forbindelsene som skal fraksjoneres er svake. Et vesentlig karakter-trekk til oppfinnelsen er at relasjonen mellom disse forskjellige krefter selektivt kan reguleres sammenlignet med bruken av enkle alkyl eller fenyl grupper. Reguleringsmåten i henhold til oppfinnelsen er illustrert i det følgenden.
Hydrogenbinding aksptor egenskaper økes ved innføringen i fenylgruppen av for eksempel metoksy eller cyano grupper. I tilfettet med to metoksy grupper dannes følgende isomere
I disse forbindelser er den felles avstand mellom oksygen-atomene 2,8 Å, 4,8 Å og 5,6 Å. Således hvis en forbindelse som skal samvirke med en overflate behandlet med en dimetoksy-fenyl forbindelse inneholder to aktive hydrogenatomer i en på forhånd bestemt gjensidig avstand blir en dimetoksy fenyl isomer valgt for overflate behandling hvor avstanden mellom dimetoksy gruppene er passende, det vil si korre-sponderer best til den mellom hydrogenatomene og som gir en sterk interaksjon.
Også dipol-dipol-interaksjoner kan økes ved bruk av metoksy og cyano grupper. I det dipol momentene til strukturelle isomere varierer vesentlig kan kromatografisk separasjon av isomere lettes.
Ladningsoverføring donor karakteristika økes ved bruk av alkyl eller alkoksy grupper, spesielt metyl og metoksy grupper. På den annen side blir 1adningsoverføring akseptor karakteristika forsterket ved bruk av cyano grupper. Poly-cycliske aromatiske hydrokarboner som er ladningsoverføring donorer danner sammen med cyano substituerte aromatiske grupper ladningsoverføring komplekser. Ved å variere antall opposisjon av cyano gruppene kan stabiliteten til kompleks-ene varieres, noe som kan anvendes for eksempel i kromatografi såvel som i elektronikk.
Spesielt i forbindelse med gass kromatografi er den term-iske stabilitet til overflate laget viktig. Bindingen mellom en aromatisk gruppe og silisium atomet er sterk. På den annen side er det av og til en fordel at den aktive gruppen ikke er nær substrat overflaten. Begge disse mål kan oppnås ved å bruke en forbindelse i henhold til oppfinnelsen med
en avstandsgruppe bestående av p-fenylen-metyl eller en poly-p-fenylen gruppe som følger
Poly-p-fenylen strukturen er av viktighet også ved elektroniske anvendelser, spesielt i tilfeller hvor substratet er et metall-metall oksyd idet det tillater lett elektron overføring mellom metall overflaten, for eksempel til en sekundær film absorbert på den behandlede overflate. Som et spesifikt eksempel kan det nevnes behandling av indium-tin oksyd dekket glass overflate med en poly-p-fenylen silan forbindelse inneholdene i den terminale fenylring en cyano gruppe til hvilken behandlede overflate en pyren gruppe inneholdene fosforglycerol film kan absorberes hvor cyano gruppen og pyren gruppen danner et 1adnings-overføring-kom-pleks, som angitt ovenfor.
Som nevnt ovenfor i henhold til et modus av oppfinnelsen for å øke eller modifisere absorpsjons egenskapene til en overflate spesielt anvendelig for gass kromatografi formål på en overflate valgfritt behandlet med et silan i henhold til oppfinnelsen kan det absorberes en polymerisert film av samme eller lignende silan forbindelse inneholdene de aktive fenyl grupper definert i formel I hvor det polymeriserte silan har formelen
1 2
hvori R og R har betydningene som definert ovenfor,
3 6
R til R er uavhengig av hverandre lavere alkyl, lavere alkenyl, fenyl eller lavere alkyl-fenyl, og p > 1, q og r > 0. Gruppene R og R kan være like eller forskjellige fra de tilsvarende grupper brukt i overflate behandling steget. Gruppene R i polymeren er naturlig valgt i henhold til anvendelsen av overflaten under betraktning. Fremstillingen av polyeren er konvensjonell og kjent for fagmannen.
Som også nevnt ovenfor er et annet viktig anvendelses felt bruk av oppfinnelsen i elektronikk, spesielt i anordninger hvor overflatene behandlet i henhold til oppfinnelsen blir brukt sammen med filmer av Langmuir-Blodgett type, for eksempel i fotografiske eller sol celler, micro kretser osv. Således kan for eksempel silan forbindelser med substituenter som har elektron akseptor egenskaper, for eksempel cyano grupper blir brukt for å behandle en overflate. På en slik overflate som oppviser elektron akseptor egenskaper kan en film inneholde donor grupper, for eksempel alkyl eller alkoksy grupper av Langmuir-Blodgett type påføres. Elektron overføring mellom disse lag kan initieres ved ut-vendig påvirkning, for-eksempel ved å bruke et spennings potensial eller lys. Donor gruppene kan naturlig innebefat-tes i overflate behandlings middelet, hvorved på den behand lede overflate et lag som oppviser akseptor egenskaper på-føres .
Silan forbindelsene i henhold til oppfinnelsen er nye og de kan fremstilles ved å bruke prosesser som tilsvarer prosesser kjent i faget. En passende metode for fremstilling av disse forbindelser er Grignard reaksjonen, hvorved et mole av en Grignard reagens R^- Mg Br fremstilt på kjent vis reageres med et mole av en forbindelse av formel R 2Si 1 2 (Z )^ Z i hvilke formler symbolene har ovenfor angitte betydning. En alternativ metode for fremstilling av forbindelsene ifølge oppfinnelsen hvori X er p-fenylen inneholdene en avstandsgruppe omfatter å danne i et første steg på en måte som beskrevet ovenfor den tilsvarende p-Br-2 12 substituerte silan forbindelse, Br-X-(R ) Si Z Z hvori Z-substituentene har ovenfor angitte mening, men kan ikke være halogen, og deretter danne dets zink derivat
2 12 Br-Zn-X-(R ) SiZ Z som i nærvær av en passende Pt-katalysator sammen med forbindelsen
gir den ønskede forbindelse.
De følgende eksempler illustrerer oppfinnelsen.
Eksempel 1
117 g (0.63 mol) av 5-bromo-l,3-dmetyl-benzen ble oppløst i vannfri tetrahydrofuran. Denne oppløsning ble sakte tilsatt en reaksjonsflaske hvori 17.0 g (0,70 mol) magnesium strim-ler ble omrørt i vannfri tetrahydrofuran. Nitrogen gass ble brukt som en beskyttende gass i flasken. Etter tilsetningen ble oppløsningen kokt i ytterligere en halv time. Den av-kjølte oppløsning ble sakte tilsatt en kraftig omrørt opp-løsning inneholdene 250 ml (2.13 mol) metyl-triklorsilan i vannfri tetrahydrofuran. Under tilføringen ble temperaturen holdt ved 0 til 10°C. Atter tilføringen ble oppløsningen omrørt i ytterligere 2 timer ved 20°C.
Fra reaksjonsblåndingen ble en hoveddel av oppløsnings middelet og ureagert metyl-triklorsilan fjernet under redusert trykk. Fra det masse lignende residium ble produktet ekstrahert med n-hexan.
N-hexan ekstraktet ble konsentrert og produktet isolert ved våkum destillasjon.
Produktet, (3,5-dimetyl-fenyl)-metyl-diklorsilan, oppviste et kokepunkt på 67°C/0.12 mbar. Dets NMR-spektrum bekreftet dets struktur. Dets renhet ble bestemt ved å bruke gass kromatografi.
Eksempel 2
202 g (0.93 mol) av 4-bromo-l,2-dimetoksy-benzen ble opp-løst i vannfri tetrahydrofuran. Denne oppløsning ble sakte tilsatt en flaske hvori 24.3 g (1.00 mol) magnesium ble om-rørt i vannfri tetrahydrofuran. Nitrogen ble brukt som beskyttende gass i flasken. Etter tilsetningen ble oppløs-ningen omrørt i ytterligere en halv time. Den avkjølte re-aksjonsblanding ble sakte tilsatt en kraftig omrørt oppløs-ning inneholdene 370 ml (3.14 mol) av metyl-triklorsilan i vannfri tetrahydrofuran. Under tilsetningen ble temperaturen holdt ved 0 til 10° C. Etter tilsetningen ble oppløs-ningen omrørt i 2 timer ved 20°C.
Fra reaksjonsblandingen ble en hoveddel av oppløsningsmidd-elet og ureagert metyl-triklorsilan fjernet. Produktet ble ekstrahert fra det masse lignende resisium med en blanding av en hexan og vannfri etyleter.
Ekstraktet ble konsentrert og til dette ble det tilsatt 390 g (3,7 mol) trimetylortoformat. Etter ca. en uke ble blandingen destilert under redusert trykk. Grov produktet ble destilert under våkum.
Produktet, (3,4-dimetoksyfenyl)-metyl-dimetoksy-silan kokte ved 113°D/0.4 mbar. Dets NMR-spektrum bekreftet dets struktur. Dets renhet ble bestemt ved å bruke gass kromatografi.
På samme måte som beskrevet i eksemplene I og II kan de følgende forbindelser fremstilles.
3- (3,5-dimetoksyfenyl)-propyl-triklor-silan,
6- (1-pyrenyl)-hexyl-metyl-dimetoksy-silan,
16-(2,5-dimetoksyfenyl)-hexadexyl-trimetoksy-silan,
4- quaterfenyl-trimetoksy-silan, og
4-/4'-(fenoksy)-fenoksy/-fenyl-metyl-diklor-silan.
Eksempel III
141 g (0.67 mol) 4-bromo-2,6-dimetyl-benzonitril ble opp-løst i en blanding av vannfri tetrahydrofur an og metylde-metoksyklorosilan. Denne oppløsningen ble sakte tilsatt en flaske hvori 36.5 g (1.5 mol) magnesium ble omrørt i vannfri tetrahydrofuran. I flasken ble nitrogen brukt som en beskyttende gass og reaksjonstemperaturen var 10 til 35°C Etter ca. 20 timer ble en hoveddel av oppløsningsmiddelet og ureagert metyldimetoksyklorosilan fjernet fra reaksjonsblandingen under redusert trykk. Produktet ble ekstrahert fra det masse lignende residium med en blanding av n-hexan og vannfri etyleter.
Ekstraktet ble konsentrert og produktet isolert ved vakum-destilasjon. Grovproduktet ble opprenset ved hjelp av våkum destilasjon.
Produktet, (3,5-dimetyl-4-cyano-fenyl)-metyl-dimetoksysilan kokte ved 120°C/0.4 mbar. Dets struktur ble bekreftet med NMR og dets renhet bestemt med gass kromatografi.
Renheten av produktene i henhold til eksemplene I, II og III var over 95%.
På samme måte som beskrevet i eksempel III kan følgende forbindelser bli fremstilt.
(3,5-dicyano-fenyl)-fenyl-dimetoksy-silan, og (3',5'-dicyano-bifenyl)-metyl-dimetoksy-silan.
Eksempel IV
En silisiumpolymer inneholdene 10% 3,5-dimetylfenyl grupper ble behandlet på følgende måte.
I en flaske under anvendelse av nitrogen som en beskyttende gass ble ved 0°C 3.000 g (0.01369 mol) av (3,5-dimetylfenyl)-metyl-diklorosilan, 7.022 g (0.05446 mol) av dimetyl-diklorosilan og 0.0897 g (0.0006 mol) av metyltrikloro-silan blandet og til denne flasken ble det sakte tilsatt en 6N ammoniakk oppløsning. Produktet ble ekstrahert i etyleter og eter ekstraktet ble vasket med vann og tørket med vannfri kalsiumsulfat.
Polymeriseringen ble utført ved fordamping av etyleter og til residiet ble 0.1% av tetra-metylammonium-hydroksyd tilsatt. Blandingen ble omrørt under nitrogengass ved 100-120°C og viskøse produkt i ytterligere 20 minutter ved 140° for å ødelegge katalysatoren. Silanol gruppene i produktet ble beskyttet ved behandling med hexametyldisila-zan i 8 timer ved 80 til 100°C.
Lav molekulær forbindelsene ble fjernet ved å oppløse produktet i etyleter og felle ut polymeren ved tilsetning av metanol eller en vann-metanol-blanding. Trinnene ved opp-løsning og utfelling ble gjentatt flere ganger. De gjenvær-ende oppløsningsmidler ble fjernet i en nitrogenstrøm ved 120°C.
Fra produktet ble en silika kapillær kolonne dannet ved å bruke som et substrat et kommersielt fusert silika kapillær på den innvendige overflate av hvilket etter behandling i henhold til oppfinnelsen en film av den polymeriserte silisium forbindelsen ble absorbert. Egenskapene til kolonnen ble undersøkt ved å bruke en Grob-test blanding.
Eksempel V
En silikon polymer inneholdene 25% 3,4-dimetoksyfenyl grupper ble fremstilt på følgende måte.
I en flaske under nitrogen atomsfære ved 20°C blandet 4.846 g (0.020 mol) av
(3.4-dimetoksyfenyl)-metyl-dimetoksysilan, 2.188 g
(0.0182 mol) av dimetyl-dimetoksysilan, 0.0545 g (0.00040 mol) av metyl-trimetoksysilan og 0.138 g (0.00053 mol) av 1,3,5-trivinyl-1,3,5-trimetyl-cyclotrisiloksan ble blandet i 50 timer med 7 ml acetonitril og 7 ml vann. Til reaksjonsblandingen ble vann tilsatt og produktet ekstrahert med diklorometan.
Produktet bel polymerisert og testet som i eksemple IV.
Eksempel VI
En silikon polymer inneholdene 5.5% av 3,5-dimetyl-4-cyano-fenyl grupper ble fremstilt på følgende måte.
I en flaske ble 2.350 g (0.010 mol) av (3,5-dimetyl-4-cyano -fenyl)-metyldimetoksy-silan og 9.620 g (0.080 mol) av di-metyldimetyoksysilan blandet med 7 ml av acetonitril og 7 ml vann ved 20°C i 50 timer. Til reaksjonsblandingen ble vann tilsatt og produktet ble ekstrahert med diklorometan.
Produktet ble polymerisert og testet som i eksempel IV.
I følgende tabell er retensjonstidene for polymerene fra eksempler IV, V og VI med hensyn til enkelte angitte for-søksforbindelser angitt. For sammenlignings formål ble en kommersiell SE-54 kolonne anvendt.
Fra de erholdte resultater går det frem at et antall for-søks forbindelser er retensjonstidene vesentlig øket sammenlignet med de til standardkolonnen, noe som naturligvis er et fordelaktig ved visse anvendelser. Mer viktig er imidlertid det faktum at ved å bruke forskjellige aktive grupper på fenyl-kjernen kan retensjonstiden for enhver spesifik forbindelse varieres og tillate således skredder-sying av kolonner for for eksempel gass kromatografi for spesieller anvendelser.
Claims (9)
1. Forbindelsekarakterisert vedden generelle formel 1 2 hvori Z og Z uavhengig av hverandre er klor, fluor, brom, alkoksy med ikke mer enn 6 karbonatomer, NH, -NH^, -NR^, hvori R' er er alkyl 1med 1 til 3 karbonatomer, -SH, -CN, -N^er hydrogen, og R er
hvori hver S-substituent som kan være like eller forskjellige er hydrogen, hvorved fenylringen kan inneholde høyst fire hydrogen substituenter, alkyl med 2 til 4 karbonatomer eller metyl eller metoksy i hvilket tilfelle det høyst kan være tre hydrogen substituenter i fenylringen, cyano, etoksy, eller to hosliggende S-substituenter danner med fenyl kjernen en naftalen eller antracen gruppe, eller tre hosliggende S-substituenter danner sammen med fenylkjernen en pyren gruppe og X er gruppen -( CH^)^, hvori n er 0 til 20, fortrinnsvist 10 til 16 eller gruppen
hvori i er 0 til 10 og k er 1 til 5, hvorved når n ikke er 0, det vil si X er en avstandsgruppe, kan S-substituentene, spesielt S-. også være fenoksy eller bifenyl og R 2 er 1 1
lik Z eller R , eller er lavere alkyl, lavere alkenyl, fenyl eller fenyl substituert med lavere alkyl eller lavere alkoksy.
2. Anvendelse av forbindelsene ifølge krav 1 for å gi lipofile egenskaper til en hydrofil overflate, så som den til glass, kvarts, oksidert silikon, metall- metall-oksyd eller en 0H- og/eller NH-grupper inneholdene plast.
3. Polymeriske silaner,karakterisert vedden generelle formel 1 2
hvori R og R har betydningene som definert i krav 1,
R 3 til R 6 er uavhengig av hverandre lavere alkyl, lavere alkenyl, fenyl eller lavere alkyl-fenyl, og p > 1, q og r > 0.
4. Fremgangsmåten for fremstilling av en polymer ifølge krav 3,karakterisert vedå bruke som mon-omer en forbindelse av formel I ifølge krav 1 valgfritt sammen med ytterligere lavere alkyl, lavere alkenyl, fenyl og/eller lavere alkylfenyl silan.
5. Anvendelse av polymer ifølge krav 3 i form av en film absorbert på en overflate som valgfritt har blitt behandlet ifølge krav 2 ved kromatografi, spesielt gass kromatografi.
6. Anvendelse ifølge krav 2 hvor gruppen R"<*>" inneholder substituenter med elektron akseptor karakteristika, spesielt cyano grupper og hvor det på den behandlede overflate er absorbert en film inneholdene donor-grupper, spesielt alkyl eller alkoksy grupper.;
7. Anvendelse ifølge krav 2 hvor gruppen R"*" inneholder substituenter med elektrondonor egenskaper, spesielt alkyl eller alkoksy grupper og hvor det på den behandlede overflate er absorbert en film inneholdene grupper med elektron akseptor egenskaper, cyano grupper.
8. Forbindelser ifølge krav 1,karakterisertved at den har formelen 2 1
hvor R , Z , Si og k har betydningene som definert i krav 1.
9. Anvendelse av forbindelsene ifølge krav 8 for å gi elektron overføring mellom en ledene overflate og en film absor bert på overflaten.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FI845161A FI845161A0 (fi) | 1984-12-28 | 1984-12-28 | Ytbehandlingsmedel. |
| PCT/FI1985/000102 WO1986004063A1 (en) | 1984-12-28 | 1985-12-20 | Surface treatment agents and polymers |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| NO863433D0 NO863433D0 (no) | 1986-08-27 |
| NO863433L true NO863433L (no) | 1986-10-21 |
Family
ID=8520118
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| NO863433A NO863433L (no) | 1984-12-28 | 1986-08-27 | Polymerer til behandling av overflater. |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4756971A (no) |
| EP (2) | EP0207977A1 (no) |
| JP (1) | JPS62501557A (no) |
| AU (1) | AU5315786A (no) |
| DK (1) | DK407486A (no) |
| FI (2) | FI845161A0 (no) |
| HU (1) | HUT42494A (no) |
| NO (1) | NO863433L (no) |
| WO (1) | WO1986004063A1 (no) |
Families Citing this family (33)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5013585A (en) * | 1989-06-13 | 1991-05-07 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method for the preparation of surface-modified silica particles |
| US5457564A (en) * | 1990-02-26 | 1995-10-10 | Molecular Displays, Inc. | Complementary surface confined polymer electrochromic materials, systems, and methods of fabrication therefor |
| US5818636A (en) * | 1990-02-26 | 1998-10-06 | Molecular Displays, Inc. | Complementary surface confined polmer electrochromic materials, systems, and methods of fabrication therefor |
| US5653875A (en) * | 1994-02-04 | 1997-08-05 | Supelco, Inc. | Nucleophilic bodies bonded to siloxane and use thereof for separations from sample matrices |
| US5616533A (en) * | 1994-09-27 | 1997-04-01 | Syracuse University | Chemically active ceramic compositions with a thiol and/or amine moiety |
| US5612275A (en) * | 1994-09-27 | 1997-03-18 | Syracuse University | Chemically active ceramic compositions with a phospho-acid moiety |
| US5668079A (en) * | 1994-09-27 | 1997-09-16 | Syracuse University | Chemically active ceramic compositions with an hydroxyquinoline moiety |
| US5624881A (en) * | 1994-09-27 | 1997-04-29 | Syracuse University | Chemically active ceramic compositions with a pyrogallol moiety |
| WO1998001533A1 (en) | 1996-07-08 | 1998-01-15 | Burstein Laboratories, Inc. | Cleavable signal element device and method |
| US6342349B1 (en) | 1996-07-08 | 2002-01-29 | Burstein Technologies, Inc. | Optical disk-based assay devices and methods |
| US20050214827A1 (en) * | 1996-07-08 | 2005-09-29 | Burstein Technologies, Inc. | Assay device and method |
| US6331275B1 (en) | 1996-07-08 | 2001-12-18 | Burstein Technologies, Inc. | Spatially addressable, cleavable reflective signal elements, assay device and method |
| ID22965A (id) * | 1997-02-28 | 1999-12-23 | Burstein Lab Inc | Laboratorium dalam suatu disk |
| TW546301B (en) | 1997-02-28 | 2003-08-11 | Sumitomo Chemical Co | Silicon-containing compound and organic electroluminescence device using the same |
| CA2338401A1 (en) * | 1998-07-21 | 2000-02-03 | Burstein Laboratories, Inc | Optical disc-based assay devices and methods |
| WO2002094410A1 (en) * | 2001-05-18 | 2002-11-28 | University Of South Florida | Sol-gel dendron separation and extraction capillary column |
| KR100427258B1 (ko) * | 2001-08-11 | 2004-04-14 | 광주과학기술원 | 플로린을 함유한 실록산 단량체와 이의 제조방법 |
| WO2004102648A2 (en) * | 2003-05-09 | 2004-11-25 | Asm America, Inc. | Reactor surface passivation through chemical deactivation |
| US7914847B2 (en) | 2003-05-09 | 2011-03-29 | Asm America, Inc. | Reactor surface passivation through chemical deactivation |
| US20050106068A1 (en) * | 2003-11-18 | 2005-05-19 | Abdul Malik | Sol-gel dendron separation and extraction capillary column |
| US20050242038A1 (en) * | 2004-04-30 | 2005-11-03 | Wu Chen | Novel stationary phases for use in high-performance liquid chromatography |
| US7314505B1 (en) * | 2005-06-20 | 2008-01-01 | Sandia Corporation | Stationary phase deposition based on onium salts |
| US8293658B2 (en) * | 2010-02-17 | 2012-10-23 | Asm America, Inc. | Reactive site deactivation against vapor deposition |
| US9223203B2 (en) | 2011-07-08 | 2015-12-29 | Asm International N.V. | Microcontact printed films as an activation layer for selective atomic layer deposition |
| JP5833492B2 (ja) * | 2012-04-23 | 2015-12-16 | 信越化学工業株式会社 | ケイ素化合物、ポリシロキサン化合物、これを含むレジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法 |
| TWI663896B (zh) | 2014-10-15 | 2019-06-21 | 美商羅傑斯公司 | 磁-電介質基板、製作該磁-電介質基板之方法及包含該磁-電介質基板之物件 |
| FI126130B (en) * | 2015-03-20 | 2016-07-15 | Inkron Oy | Siloxane monomers with high refractive index, polymerization thereof and their use |
| FI127462B (en) * | 2016-07-14 | 2018-06-29 | Inkron Oy | Siloxane monomers, their polymerization and uses thereof |
| US11028231B2 (en) * | 2017-06-01 | 2021-06-08 | Dow Silicone Corporation | Polysiloxane comprising substituents having multiple aryl groups |
| WO2019094238A1 (en) | 2017-11-07 | 2019-05-16 | Rogers Corporation | Dielectric layer with improved thermally conductivity |
| US11198263B2 (en) | 2018-03-22 | 2021-12-14 | Rogers Corporation | Melt processable thermoplastic composite comprising a multimodal dielectric filler |
| JP7714541B2 (ja) | 2019-11-22 | 2025-07-29 | ロジャーズ・コーポレイション | 照射により架橋された成形誘電体部品及びその作製方法 |
| WO2023239594A1 (en) | 2022-06-08 | 2023-12-14 | Rogers Corporation | Y-type hexaferrite, method of manufacture, and uses thereof |
Family Cites Families (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL72963C (no) * | 1948-01-05 | |||
| US2546330A (en) * | 1948-12-11 | 1951-03-27 | Dow Chemical Co | Synthesis of aromatic silane |
| US2626270A (en) * | 1949-02-01 | 1953-01-20 | Dow Corning | t-butylsilanes |
| DE834002C (de) * | 1950-09-19 | 1952-03-13 | Dow Corning | Verfahren zur Oberflaechenbehandlung von Glas u. dgl. |
| DE1114492B (de) * | 1958-11-17 | 1961-10-05 | Union Carbide Corp | Verfahren zur Herstellung von Cyanphenyl-alkoxysilanen |
| US3312727A (en) * | 1965-02-03 | 1967-04-04 | Dow Corning | Organosilicon compounds |
| US3722181A (en) * | 1970-05-22 | 1973-03-27 | Du Pont | Chromatographic packing with chemically bonded organic stationary phases |
| US3795313A (en) * | 1970-05-22 | 1974-03-05 | Du Pont | Chromatographic packing with chemically bonded organic stationary phases |
| DE2132569C3 (de) * | 1970-07-04 | 1975-06-12 | Boris Iosifowitsch Wainstein | Verfahren zur Herstellung von Organochlorsilanen |
| US3853726A (en) * | 1970-07-04 | 1974-12-10 | B Vainshiein | Method of producing organochlorosilanes |
| US3651117A (en) * | 1970-09-08 | 1972-03-21 | Union Carbide Corp | Esterification of halosilanes |
| US4164509A (en) * | 1970-11-24 | 1979-08-14 | Deutsche Gold- Und Silber-Scheideanstalt Vormals Roessler | Process for preparing finely divided hydrophobic oxide particles |
| US3899328A (en) * | 1973-05-07 | 1975-08-12 | Xerox Corp | Active matrix and intrinsic photoconductive polymer of a linear polysiloxane |
| US4044037A (en) * | 1974-12-24 | 1977-08-23 | Union Carbide Corporation | Sulfur containing silane coupling agents |
| DE2930516A1 (de) * | 1979-07-27 | 1981-02-12 | Merck Patent Gmbh | Trennmaterial fuer die chromatographie mit organisch modifizierter oberflaeche, verfahren zur herstellung solcher trennmaterialien und ihre verwendung |
| US4242227A (en) * | 1979-07-31 | 1980-12-30 | The Dow Chemical Company | Chromatographic column packing having a bonded organosiloxane coating |
| US4276061A (en) * | 1979-07-31 | 1981-06-30 | The Dow Chemical Company | Chromatographic column packing having a bonded organosiloxane coating |
| EP0028665B1 (en) * | 1979-11-02 | 1983-05-18 | Chisso Corporation | Process for the production of diaralkyldichlorosilanes and their use in manufacture of polysiloxane |
| DE3104326A1 (de) * | 1981-02-07 | 1982-08-19 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | "verfahren zur herstellung von aromatischen silanen" |
| SU1056050A1 (ru) * | 1982-07-02 | 1983-11-23 | Предприятие П/Я А-7629 | Неподвижна фаза дл газовой хроматографии органических и кремнийорганических соединений |
| SU1073248A1 (ru) * | 1982-10-29 | 1984-02-15 | Московский Ордена Трудового Красного Знамени Институт Тонкой Химической Технологии Им.М.В.Ломоносова | Карбазол- и антраценсодержащие полисилоксаны в качестве основы электрофотографических слоев и способ их получени |
| SU1078324A1 (ru) * | 1982-12-30 | 1984-03-07 | Государственный научно-исследовательский институт химии и технологии элементоорганических соединений | Способ разделени органических и кремнийорганических соединений |
| US4539061A (en) * | 1983-09-07 | 1985-09-03 | Yeda Research And Development Co., Ltd. | Process for the production of built-up films by the stepwise adsorption of individual monolayers |
-
1984
- 1984-12-28 FI FI845161A patent/FI845161A0/fi not_active Application Discontinuation
-
1985
- 1985-12-20 AU AU53157/86A patent/AU5315786A/en not_active Abandoned
- 1985-12-20 EP EP86900671A patent/EP0207977A1/en not_active Ceased
- 1985-12-20 US US06/907,687 patent/US4756971A/en not_active Expired - Fee Related
- 1985-12-20 JP JP86500609A patent/JPS62501557A/ja active Pending
- 1985-12-20 HU HU86761A patent/HUT42494A/hu unknown
- 1985-12-20 EP EP88115789A patent/EP0310904A1/en not_active Withdrawn
- 1985-12-20 WO PCT/FI1985/000102 patent/WO1986004063A1/en not_active Ceased
-
1986
- 1986-08-22 FI FI863399A patent/FI863399A0/fi not_active Application Discontinuation
- 1986-08-27 NO NO863433A patent/NO863433L/no unknown
- 1986-08-27 DK DK407486A patent/DK407486A/da not_active Application Discontinuation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| AU5315786A (en) | 1986-07-29 |
| DK407486A (da) | 1986-10-27 |
| FI863399A7 (fi) | 1986-08-22 |
| HUT42494A (en) | 1987-07-28 |
| US4756971A (en) | 1988-07-12 |
| NO863433D0 (no) | 1986-08-27 |
| JPS62501557A (ja) | 1987-06-25 |
| FI845161A0 (fi) | 1984-12-28 |
| FI863399A0 (fi) | 1986-08-22 |
| DK407486D0 (da) | 1986-08-27 |
| EP0207977A1 (en) | 1987-01-14 |
| WO1986004063A1 (en) | 1986-07-17 |
| EP0310904A1 (en) | 1989-04-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| NO863433L (no) | Polymerer til behandling av overflater. | |
| Mallegol et al. | Practical and efficient synthesis of tris (4-formylphenyl) amine, a key building block in materials chemistry | |
| Kussmaul et al. | Enhancement of dielectric permittivity and electromechanical response in silicone elastomers: molecular grafting of organic dipoles to the macromolecular network | |
| EP0137679A1 (en) | Diacetylenes having liquid crystal phases | |
| US7635741B2 (en) | Multifunctional monomers and their use in making cross-linked polymers and porous films | |
| JPH0459317B2 (no) | ||
| JP4447923B2 (ja) | 多官能性モノマー並びにそれらの架橋ポリマー及び多孔質フィルムの製造における使用 | |
| Richter et al. | Nonextractable cyanopropyl polysiloxane stationary phases for capillary chromatography | |
| Markides et al. | Cyanosilicones as stationary phases in gas chromatography: III. Synthesis, characterization and evaluation | |
| US5286890A (en) | Aromatic amine terminated silicone monomers, oligomers, and polymers therefrom | |
| Ohshita et al. | Synthesis of poly {[bis (diethynylphenyl) silylene] phenylene} s with highly heat-resistant properties and an application to conducting materials | |
| JP4889097B2 (ja) | ポリシクロオレフィン官能性ポリシロキサン | |
| CN106866719B (zh) | 苯并环丁烯聚碳硅烷聚合单体或树脂及其制备方法 | |
| SU1073248A1 (ru) | Карбазол- и антраценсодержащие полисилоксаны в качестве основы электрофотографических слоев и способ их получени | |
| Hu et al. | Synthesis and properties of novel conjugated poly (silylacetylene silazane) s | |
| JPH06157550A (ja) | アルファ,オメガ−フェニルエチニルシロキサン モノマー、オリゴマー、及びそのポリマー | |
| US5116973A (en) | Caprolactam silane compound and a method of manufacturing the same | |
| US5081201A (en) | Aromatic polyimide silanol compounds, precursors and polymers thereof | |
| JP5261169B2 (ja) | 1,4−ビス(ジクロロメチル)テトラフルオロベンゼンの製造方法 | |
| JP7815019B2 (ja) | イソシアヌレート骨格を有する新規ジオール化合物 | |
| JP4308334B2 (ja) | 表面改質剤及び表面改質方法 | |
| JP2007045782A (ja) | ポリシクロオレフィン官能性ポリシロキサンの製造方法 | |
| DE4027253A1 (de) | Neue arylmethylole, deren herstellung und verwendung | |
| CN105418927B (zh) | 一种低介电常数材料薄膜及其制备方法 | |
| JP2023161969A (ja) | イソシアヌレート骨格を有する新規ジオール化合物 |