PL105131B1 - Sposob otrzymywania powloki na szkle odbijajacej promieniowanie podczerwone - Google Patents

Sposob otrzymywania powloki na szkle odbijajacej promieniowanie podczerwone Download PDF

Info

Publication number
PL105131B1
PL105131B1 PL19092876A PL19092876A PL105131B1 PL 105131 B1 PL105131 B1 PL 105131B1 PL 19092876 A PL19092876 A PL 19092876A PL 19092876 A PL19092876 A PL 19092876A PL 105131 B1 PL105131 B1 PL 105131B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
cathode
change
coating
voltage
thickness
Prior art date
Application number
PL19092876A
Other languages
English (en)
Other versions
PL190928A1 (pl
Inventor
Mieczyslaw Jachimowski
Eugeniusz Krawczyk
Edward Leja
Jerzy Ogorzalek
Original Assignee
Akad Gorniczo Hutnicza
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Akad Gorniczo Hutnicza filed Critical Akad Gorniczo Hutnicza
Priority to PL19092876A priority Critical patent/PL105131B1/pl
Publication of PL190928A1 publication Critical patent/PL190928A1/pl
Publication of PL105131B1 publication Critical patent/PL105131B1/pl

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/06Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with metals
    • C03C17/09Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with metals by deposition from the vapour phase

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest sposób otrzymywania na szkle powloki odbijajacej promieniowanie podczerwone.
Znany sposób otrzymywania powloki na szkle, odbija¬ jacej promieniowanie podczerwone polega na reaktywnym rozpylaniu metali tworzacych segmentowa katode, pod 5 która umieszczona jest szklana plyta przesuwana na rolkach z predkoscia okolo 10 mm/sek. Powierzchnia katody utwo¬ rzona jest z trzech czesci, pokrytych kolejno stopem cyny z 5% wagowymi antymonu, zlotem i ponownie stopem cyny z 5% wagowymi antymonu. Dlugosci poszczególnych io czesci powierzchni katody, mierzone w kierunku przesu¬ wania sie szklanej plyty, odpowiadaja stosunkowi liczb 7 : 3 : 25.
Wada dotychczasowego sposobu jest to, ze nie mozna uzyskac zmiany barwy powloki w swietle odbitym w spo- 15 sób powtarzalny, poniewaz nie ma mozliwosci niezaleznego kontrolowania grubosci poszczególnych warstw. W znanym sposobie bowiem grubosc poszczególnych warstw a tym samym przepuszczalnosc powlok, ustala sie przez dobór szerokosci poszczególnych segmentów katody metoda 20 doswiadczalna.
Celem wynalazku jest opracowanie takiego sposobu, który pozwalalby zmienic stopien przezroczystosci powloki i jej zabarwienie w swietle odbitym bez koniecznosci wymianykatody. 25 Istota wynalazku polega na reaktywnym rozpylaniu metali tworzacych katode, pod która umieszczona plyta szklana przesuwa sie ze stala predkoscia. Katoda utworzona jest z trzech segmentów odizolowanych elektrycznie od siebie i niezaleznie zasilanych wysokim napieciem. Seg- 39 menty katody pokryte sa kolejno: metalem lub stopem metali tworzacych tlenek w procesie reaktywnego rozpy¬ lania, zlotem lub srebrem, ewentualnie ich stopami i po¬ nownie metalem lub stopem metali tworzacych tlenek.
Grubosc powloki refleksyjnej reguluje sie, zmieniajac napiecie na poszczególnych segmentach, przy czym zmiana napiecia na skrajnych segmentach katody powoduje zmien¬ na grubosc warstw tlenkowych, od grubosci których zalezy barwa interferencyjna powloki. Natomiast zmiana napiecia na srodkowym segmencie katody powoduje zmiane grubosci warstwy metalicznej, a tym samym przepuszczalnosc powloki. Zmiana napiecia zasilania w zakresie od 1000 V do 2500 V reguluje sie zmiane przepuszczalnosci powlok od 20% do 80%.
Zaleta sposobu, wedlug wynalazku, jest mozliwosc kon¬ trolowania grubosci, przezroczystosci oraz barwy powlok, bez koniecznosci wymiany katody. Interferencyjne zabar¬ wienie moze byc wybrane z calego zakresu widma od fioletu do czerwieni.
Przykladl. Plyta szklana przesuwa sie z szybkoscia 100 mm/min. przy czym napiecia zasilania wynosza od¬ powiednio Ut = 16©0 V, U2 = 1550 V, U3 = 1850 V, cisnienie w komorze wynosi 5.10-2Tr, a transmisja 55%, w wyniku_otrzymuje sie w swietle odbitym, blekitna barwe interferencyjna.
Przykladu. Plyta szklana przesuwa sie z szybkoscia 100 mm/min. przy czym napiecia zasilania wynosza od¬ powiednio Ut = 1600 V, U2 = 1700 V, U3 = 1600 V, cisnienie w komorze wynosi 5.10-2 Tr, a transmisja 55%, 105 131/ 105 131 w wyniku otrzymuje sie w swietle odbitym purpurowa barwe interferencyjna.

Claims (3)

Zastrzezenia patentowe
1. Sposób otrzymywania powloki na szkle odbijajacej promieniowanie podczerwone, polegajacy na reaktywnym rozpylaniu metali tworzacych katode, pod która jest prze¬ suwana plyta szklana, znamienny tym, ze plyte szklana przesuwa sie ze stala predkoscia pod katoda, utworzona z trzech segmentów, odizolowanych elektrycznie od siebie i niezaleznie zasilanych wysokim napieciem, przy czym segmenty katody pokryte sa kolejno: metalem lub stopem metali tworzacych tlenek w procesie reaktywnego rozpy- 10 lania, zlotem lub srebrem ewentualnie ich stopami i po¬ nownie metalem lub stopem metali tworzacych tlenek.
2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze grubosc powloki refleksyjnej reguluje sie, zmieniajac napiecie na poszczególnych segmentach, przy czym zmiana napiecia na skrajnych segmentach katody powoduje zmiane grubosci warstw tlenkowych, od grubosci których zalezy barwa interferencyjna powloki, natomiast zmiana napiecia na srodkowym segmencie katody powoduje zmiane grubosci warstwy metalicznej.
3. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze zmiana napiecia w zakresie od 1000 V do 2500 V reguluje sie zmiane przepuszczalnosci od 20% do 80%. LZG Z-d 3 w Pab. zam. 840-79, naikl. 105+20 egz. Cena 45 zl I
PL19092876A 1976-07-02 1976-07-02 Sposob otrzymywania powloki na szkle odbijajacej promieniowanie podczerwone PL105131B1 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL19092876A PL105131B1 (pl) 1976-07-02 1976-07-02 Sposob otrzymywania powloki na szkle odbijajacej promieniowanie podczerwone

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL19092876A PL105131B1 (pl) 1976-07-02 1976-07-02 Sposob otrzymywania powloki na szkle odbijajacej promieniowanie podczerwone

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL190928A1 PL190928A1 (pl) 1978-05-08
PL105131B1 true PL105131B1 (pl) 1979-09-29

Family

ID=19977633

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL19092876A PL105131B1 (pl) 1976-07-02 1976-07-02 Sposob otrzymywania powloki na szkle odbijajacej promieniowanie podczerwone

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL105131B1 (pl)

Also Published As

Publication number Publication date
PL190928A1 (pl) 1978-05-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4948677A (en) High transmittance, low emissivity article and method of preparation
US4834857A (en) Neutral sputtered films of metal alloy oxides
US4902580A (en) Neutral reflecting coated articles with sputtered multilayer films of metal oxides
US4610771A (en) Sputtered films of metal alloy oxides and method of preparation thereof
US4716086A (en) Protective overcoat for low emissivity coated article
US4786563A (en) Protective coating for low emissivity coated articles
US4898790A (en) Low emissivity film for high temperature processing
US4806220A (en) Method of making low emissivity film for high temperature processing
DK172969B1 (da) Glassubstrat til refleksion af solenergi og fremgangsmåde til fremstilling deraf
US4022947A (en) Transparent panel having high reflectivity for solar radiation and a method for preparing same
HK91192A (en) Sputtered films of metal alloy oxides
US6040939A (en) Anti-solar and low emissivity functioning multi-layer coatings on transparent substrates
US3984591A (en) Process for forming a metallic oxide coating
US4594137A (en) Stainless steel overcoat for sputtered films
US4906524A (en) Surface-coated article and a method for the preparation thereof
US4692389A (en) Stainless steel overcoat for sputtered films
CA1328089C (en) Sputtered films of bismuth/tin oxide
SE8904231D0 (sv) Coated glazing material and process of coating same
FI96507C (fi) Lasituote ja menetelmä titaania sisältävän päällysteen valmistamiseksi lasialustalle
CA1169722A (en) Glazing possessing selective transmission and reflection spectra
US5178966A (en) Composite with sputtered films of bismuth/tin oxide
EP0140032B1 (en) Method for coating substrates with a film by cathode sputtering
PL105131B1 (pl) Sposob otrzymywania powloki na szkle odbijajacej promieniowanie podczerwone
KR930009324B1 (ko) 백금층등이 피복된 프레스트레스 된 및/또는 만곡된 유리판의 제조방법
CA1323597C (en) Low reflectance, highly saturated colored coating for monolithic glazing

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Decisions on the lapse of the protection rights

Effective date: 19981102