PL105862B1 - Urzadzenie do odparowywania substancji plynnej - Google Patents

Description

Przedmiotem wynalazku jest urzadzenie do odparowywania substancji plynnej lub sprowadzonej do stanu plynnego zwlaszcza siarki w procesie produkcji kwasu siarkowego.

Dotychczas znane urzadzenia do odparowywania badz równoczesnego spalania substancji posiadaja uklad dysz lub palników którymi podawana jest do odpowiedniej komory z reguly juz oczyszczona, na przyklad przez filtrancje, substancja plynna, gdzie wskutek duzego rozwiniecia powierzchni strugi nastepuje jej odparowanie i spalanie, przykladowo siarki cieklej jak to wynika z polskiego opisu patentowego nr 85561 oraz nr 72598.

Znane jest takze urzadzenie do bezprzeponowego odparowywania substancji plynnej opisane w artykule pod tytulem „Koncepcja nowych bezprzeponowych typów wyparek powierzchniowych" zamieszczonym w czaso¬ pismie „Chemik" nr 2 str. 45 i 46 z 1977 roku, wyposazone w uklad rur zanurzonych w przeplywajacej cieklej substancji odparowywanej, zakonczonych odpowiednimi dyszami którymi doprowadza sie goracy gaz odparowu¬ jacy a znajdujacymi sie nad powierzchnia tej substancji.

Zasadniczymi wadami przedstawianych rozwiazan konstrukcyjnych urzadzen jest koniecznosc dokladnego oczyszczania spalanej substancji w przypadku dyszowego jej wprowadzania do komory spalania co ma swoje uzasadnienie technologiczne i aparaturowe oraz w przypadku odparowywaczy bezprzeponowych brak odpowied¬ niego kontaktu goracych gazów z powierzchnia substancji plynnej i mala w zwiazku z tym turbulencja pomiedzy tymi mediami co wplywa na wydajnosc procesu odparowywania.

Celem wynalazku jest usuniecie powyzszych wad glównie poprzez wydluzenie drogi kontaktu substancji plynnej z goracymi gazami lub powietrzem umozliwiajacym spalanie substancji w urzadzeniu i szczególnie w przypadku siarki bezposrednie wykorzystanie powstajacego efektu cieplnego do jej odparowywania oraz wpro¬ wadzenie ciaglego przeplywu siarki plynnej przez urzadzenie i odpowiedni osadnik sedymentacyjny usytuowany poza urzadzeniem w którym nastepuje grawitacyjne usuwanie zanieczyszczen mechanicznych z substancji.

Cel ten osiagnieto w ten sposób, ze dno komory skonstruowanej w ksztalcie polowy walca wyposazonego w poprzeczne przegrody wymuszajace serpentynowy przeplyw odparowywanej substancji prostopadle do osi podluznej dna komory przy czym pomiedzy przegrodami umieszczono w kierunku przeciwpradowym w stosun¬ ku do strugi substancji plynnej dysze gazowe posiadajace plaski wylot a ukierunkowane pod katem 0 - 30°2 105862 w stosunku do powierzchni strugi substancji plynnej, którymi wyprowadza sie gorace gazy lub powietrze poprzez komore gazowa usytuowana bezposrednio pod dnem komory odparowania. Gorace gazy z odprowadzanymi parami substancji plynnej uchodza z urzadzenia króccem umieszczonym w plaszczyznie wlotu substancji plynnej*która odprowadzana jest z urzadzenia poprzez odpowiedni zbiornik gdzie nastepuje grawitacyjne usuwa¬ niezanieczyszczen, , Przedmiot wynalazku przedstawiony jest w przykladowym wykonaniu na rysunku na którym fig. 1 przed¬ stawia podluzny przekrój urzadzenia natomiast fig. 2 jego przekrój poprzeczny.

Urzadzenie sklada sie z komory odparowania 1 o ksztalcie polowy walca pod dnem której znajduje sie komora gazowa 2 polaczona przewodajniz dyszami-gazowymi 3 o odpowiednim plaskim wylocie usytuowanymi w komorze odparowania 1 pod katem-0 -,30° w stósifnku do powierzchni odparowywanej substancji plynnej 1 tak zlokalizowanymi ze:wprowadzane tymi dyszami 3 gazy lub powietrze maja przeciwpradowy w stosunku do substancji plynnej kierunek przplywu. Dla uzyskania serpentynowego przeplywu siibsitancji < przez urzadzenie a tym samym wydluzenie czasu jej przebywania wurzadzeniu zainstalowalo wdnie komory 1 odpowiedni system przegród 4 usytuowanych prostopadle, do osi padluznej komory 1; Urzadzenie zaopatrzone jest w odpo¬ wiednie krócce 5 - wlotu i 6 - odplywu nadmiaru substancji plynnej oraz krócce 7,- wprowadzenia goracych gazów do komory gazowej 2 i odprowadzenia mieszaniny par i gazów 8 z komory1. 0 . f Zasada pracy urzadzenia polega na tym, ze substancja odparowywana, na przyklad siarka, doprowadzana jest do komory odparowywania 1 króccem 5 i dnem tej komory przeplywajac serpentynowe dó króccawyloto- wego 6 pomiedzy sysfemem przegród 4 ulega odparowywaniu dzieki kontaktowi .z goracyjni gazami lub powie¬ trzem wprowadzanymi króccem 7 poprzez komore gazowa 2 i uklad dysz 3 o odpowiednich plaskich wylotach ustawionych pod katem 0-30° do powierzchni substancji odparowywanej. Mieszahina gazów i par substancji odprowadzana jest z urzadzenia króccem 8 do dalszych urzadzen technologicznych na przyklad komory spala¬ nia - pieca jak to ma zastosowanie w przypadku siarki. Nadmiar odparowywanej.substancji odprowadzany jest z urzadzenia króccem 6 do odpowiedniego zbiornika gdzie nastepuje sedymentacja nagromadzonych zanieczysz¬ czenmechanicznych. ^ W przypadku stosowania w procesie powietrza lub innych gazów utleniajacych mozna w urzadzeniu prowa¬ dzic spalanie substancji plynnej i bezposrednie wykorzystanie powstajacego efektu cieplnego do intensyfikacji odparowywania. Dobrany ksztalt komory odparowywania 1 pozwala na uzyskanie duzej turbulencji gazów i kontakt z substancja plynna pozwalajacy na uzyskanie duzego stopnia nasycenia gazów parami substancji odpa¬ rowywanej. W przedstawionym rozwiazaniu urzadzenia do odparowywania substancji charakterystyczna jest mo¬ zliwosc bezprzeponowej i przeponowej wymiany ciepla pomiedzy gazami a odparowywana substancja. '¦.-./• Urzadzenie wedlug Wynalazku moze znalezc zastosowanie wszedzie tam gdzie zachodzi potrzeba odparo¬ wywania substancji plynnej i to zarówno polaczonego z procesem spalania lub bez niego.

Claims (1)

1. Zastrzezenie patentowe Urzadzenie do odparowywania substancji plynnej zwlaszcza (siarki plynnej znamienne tym, ze posiada komore (1) o ksztalcie polowy walca, której dno wyposazone jest w poprzeczne przegrody (4) zmuszaja¬ ce odparowywana substancje plynna, do serpentynowego przeplywu prostopadle do podluznej osi dna komory, wlot (5) na koncu komory do doprowadzania substancji plyrtnej, wylot przelewowy (6) na poczatku komory (1), pr^y czym pomiedzy przegrodami (4) umieszczone sa w kierunku przeciwpradowym w stosunku do strugi sub- stajneji, dysze (3) posiadajace plaski wylot i nachylone pod katem 0-30° do powierzchni substancji plynnej, ktckymi wprowadza sie gorace gazy lub powietrze poprzez króciec (7) i komore gazowa (2) usytuowana pod dnim komory odparowywania (1), króciec (8) do odprowadzenia par substancji i gazów spalinowych usytuowany nad króccem wlotowym (5) substancji plynnej i wylot przelewowy (6) do odprowadzenia substancji plynnej, fig-f dg2 Prac. Poligraf. UP PRL. Naklad 120 + 18