PL106432B1 - Sposob nadawania niepalnosci materialom wloknistym z poliestrow - Google Patents

Description

Przedmiotem wynalazku jest sposób nadawania niepalnosci materialom wlóknistym z poliestrów za pomoca traktowania tych materialów wodna zaprawa zawierajaca srodek nadajacy niepalnosc.

Z opisu patentowego Stanów Zjednoczonych Ameryki Pln. nr 3 730 939 znany jest sposób nadawania niepalnosci wlóknom poliamidowym przez zmieszanie masy poliamidowej, z aromatycznymi sulfonamidami przed uformowaniem tej masy przez wytloczenie w postac wlókna. W tym znanym sposobie jako sulfonamidy stosuje sie zwiazki zawierajace reszte fenylowa zwiazana bezposrednio z atomem siarki ugrupowania sulfonami- dowego o wzorze —S02 NH-.

Stwierdzono, ze w przeciwienstwie do wyzej opisanego sposobu nadawania njepalnosci masie poliamidowej mozna uzyskac niepalne poliestrowe materialy wlókniste, jesli wytworzone wlókna lub materialy wlókniste podda sie dzialaniu wodnej zaprawy zawierajacej co najmniej jeden, wystepujacy ewentualnie w postaci soli amonowej podstawiony sulforyloamid, zawierajacy co najmniej jedno ugrupowanie >N—S02—N<, okreslony ogólnym wzorem 1, w którym n oznacza wartosc liczbowa 1 lub 2, przy czym jesli n oznacza wartosc liczbowa 2, to Ai oznacza rodnik alkilenowy o 2—9 atomach wegla lub fenylenowy, R2f R3, R4 i R5 kazde oznacza alkil o 1—4 atomach wegla lub R2 i R3 razem i/lub R4 i R5 razem oznaczaja grupe alkilenowa o 4 lub 5 atomach wegla i jesli n oznacza wartosc liczbowa, 1, Ri oznacza rodnik fenylowy, naftyIowy, fenyloetylowy, benzylowy lub cykloheksylowy, ewentualnie oznacza podstawiony chlorowcem lub grupa alkoksylowa o 1—4 atomach wegla rodnik alkilowy o 1—4 atomach wegla, grupe acylowa o 1—4 atomach wegla, alkoksykarbonylowa o 2—5 atomach wegla lub atom wodoru; R2 i R3 kazde ma takie znaczenie jak podane dla Ri lub R2 i R3 razem, oznaczaja grupe alkilenowa o 4—5 atomach wegla, przy czym najwyzej dwa symbole sposród Rlf R2 i R3 oznaczaja atomy wodoru i material poddaje obróbce cieplnej.

Zwiazki o wzorze 1 sa dwusulfuryloamidami jesli n oznacza wartosc liczbowa 2, a monosulfuryloamidami jesli n oznacza wartosc liczbowa 1. W porównaniu z dwusulfuryloamidami korzystniejsze sa monosulfuryloamidy, zwlaszcza okreslone wzorami 2, 3 lub 4.2 106 432 Tak wiec zastosowane w sposooie wedlug wynalazku sulfuryloamidy róznia sie tym od wymienionych w wyzej wspomnianym opisie patentowym Stanów Zjednoczonych Ameryki Pln. nr 3 730 939, ze zwiazane z ugrupowaniem >N—S02—N< rodniki aromatyczne, jak np. fenylowy i wyzej wymienione, nie sa nigdy polaczone bezposrednio z atomem siarki wymienionego ugrupowania.

Jesli sulfuryloamidy o wzorze 1 wystepuja w postaci soli amoniowych, to moga to byc np. sole amoniowe podstawione grupa cykloheksylowa lub zwlaszcza hydroksyalkilowa lub szczególnie grupa alkilowa o 1—4 atomach wegla. Jako-przyklady takich soli wymienia sie sole cykloheksylo-2 nylocykloheksylo-, dwumetylohyd- roksyetylo-, dwuetylohydroksyetylo-, dwumetylo-, dwuetylo-, n-butylo i etylo-amoniowe. Jednak w porównaniu z takimi podstawionymi solami amoniowymi korzystniejsze sa niepodstawione sole amonowe.

Jak wyzej wspomniano korzystny sposób nadawania niepalnosci poliestrowym materialom wlóknistym polega na tym, ze materialy te traktuje sie zaprawa zawierajaca co najmniej jeden sulfuryloamid o wzorze 2, w którym R6 oznacza rodnik fenylowy, naftylowy, fenyloetylowy, benzylowy lub cykloheksylowy, ewentualnie podstawiony chlorowcem lub grupa hydroksylowa albo a Ikoksy Iowa rodnik alkilowy £> 1—4 atomach wegla lub atom wodoru, a R7 i Rs kazde, ma takie znaczenie jak wyzej podane dla R6 lub R2 i R3 razem, oznaczaja alkilen o 4 lub 5 atomach wegla, z tym, ze nie wiecej jak dwa symbole sposród R6 R7 i R8 oznaczaja atomy wodoru, i tak potraktowane materialy poddaje obróbce w podwyzszonej temperaturze.

Równiez korzystne jest stosowanie sulfuryloamid u o wzorze 3, w którym R9 oznacza rodnik fenylowy, naftylowy, benzylowy, fenyloetylowy lub cykloheksylowy, rodnik alkilowy o 1—4 atomach wegla, rodnik chlorowcoalkilowy o 3 atomach wegla lub atom wodoru, H10 \Ru kazde ma znaczenie takie jak wyzej podane dla R9 lub razem oznaczaja rodnik alkilenowy o 4 lub 5 atomach wegla, z tym, ze nie wiecej jak dwa symbole sposród R9, R10 i Rn oznaczaja atomy wodoru.

Korzystne sa równiez sulfuryloamidy c wzcrii A.. w którym R12, Rij i Ri4 kazde, ozu^za rodnik fenylowy,, benzylowy, cykloheks*> Iowya alkilowy o 1—4 atomach wegla, bromoalkilowy o 3 atomach wegla lub atom wodoru, z tym, ze nie wiecej jak dwa symbole sposród R12, R13 i R14 oznaczaja atomy wodoru.

W sposobie wedlug wynalazku materialy wlókniste traktuje sie wodna zaprawa zawierajaca korzystnie dodatkowo srodek dyspergujacy i koloid ochronny, przy czym zaprawa zawiera korzystnie w 1 kg 50—700 g sulfuryloamidu o srednim przekroju czasteczki 1—30/1, 02-200 g dyspergatora i 0-300 g koloidu ochronnego, a zwlaszcza taka ilosc sulfuryloamidu, aby jego ilosc po naniesieniu i po obróbce cieplnej wynosila 1—20% wagowych w odniesieniu do materialu wlóknistego.

Do stosowania w sposobie wedlug wynalazku odpowiednie sa równiez takie sulfuryloamidy o wzorze 1, które sa rózne od okreslonych wzorem 2.

W okresleniach podanych dla reszt oznaczonych symbolami R, chlorowiec oznacza korzystnie chlor, a zwlaszcza brom. Jako reszty alkilowe odpowiednie sa reszty n-butylowa, lll-rzed.butylowa, ll-rzed.butylowa, fzobutylowa, n-propylowa, izopropylowa, etylowa lub metylowa. Grupa alkoksyIowa jak np.n-butoksylowa, lll-rzed.butoksylowa, izobutoksylowa, n-propoksyIowa, izopropoksylowa, etoksylowa, lub zwlaszcza metoksyIo¬ wa. Reszty alkilowe podstawione grupa alkoksylowa zawieraja lacznie zwlaszcza 2—6 atomy wegla. Reszty alkilowe podstawione chlorowcem, korzystnie bromem, zawieraja korzystnie 3 atomy wegla i 1 lub 2 atomy chlorowca. Jesli R2 i R3 wzglednie R4 i R5 razem oznaczaja reszte alkilenowa, to lacznie z atomem azotu, do którego sa one przylaczone, tworza one pierscien heterocykliczny, np. pierscien piperydynowy lub pirolidynowy.

Jako przyklady odpowiednich sulfuryloamidów o wzorze 1 wymienia sie w tablicy I i II ich specyficznych przedstawicieli: Tablica I Nr kolejny 1 2 3 4 CJI 6 7 8 9 Reszty Ri i wzór 5 l wzór 6 wzór 7 n-C4H9 -CHa-CH-CH3 Br Br wzór 5 -n-C4H9 wzór 7 -H we wzorze 1, przy R2 wzór 5 wzór 6 wzór 7 -n-C4H9 CH, -(CH2)f- -H -H -CH3 n = 1 Ra -H -H -H -H CH, -H -H -CH,106432 3 \ «0 11 12 13 14 16 17 18 19 2 wzór 5 wzór 8 -CH2CH2-0-CH3 wzór 9 wzór 9 CH,-CHa-0-CO- CH3-CO- CH3-CH2-CH2 -CÓ- wzór 10 wzór 10 -NH/~ 3 -CH3 -CH3 -CH2CH2-0-CHj l-H wzór 9 CH3-CH20-CO- CH3-CO- ^H -CH3 wzór 10 -CH3 4 -CH3 -CH3 -H -H -H ^H -H -H -CH3 -H -CH3 Tablica II Nr kolejny 21 22 Reszty we wzorze 1, przy n = 2 *2 -CH3 -CH2-CH3 R3 -CH3 -CH2-CH3 ^4 -CH3 -CH2-CH3 R5 ( A, -CH3 -CH2-CH3 -CH2-CH2- wzór 11 Szczególnie korzystne wyniki uzyskuje sie przy stosowaniu zwiazku oznaczonego nr 2 w tablicy I.

Sulfuryloamidy o wzorze 1 sa znane wzglednie mozna je wytworzyc wedlug znanych metod np.: a/ przez poddanie reakcji 1 mola S02CI2 z 2 molami pierwszorzedowej aminy, w obecnosci 2 moli akceptora kwasu, np. trójetyloaminy lub aminy uzytej do reakcji, w obojetnym rozpuszczalniku; b/ przez poddanie reakcji 2 moli chlorku sulfurylu o wzorze (R2)(R3)N—S02CI n/lub o wzorze (F^MRsIN • S02CI, w których to wzorach R2, R3, R4 i R5 maja wyzej podane znaczenie, z 1 molem dwuaminy o wzorze H2N—Ai—NH2, w którym A! ma wyzej podane znaczenie, w obecnosci 2 moli akceptora kwasu, takiego jak wyzej podano w metodzie (a) w obojetnym rozpuszczalniku lub 1 mola sulfochlorku o wzorze (R2)(R3)N—S02CI,z 1 molem pierwszorzedowej aminy, w obecnosci 1 mola akceptora kwasu; c/ przez reakcje przeamidowania 1 mola sulfuryloamidu z 1 molem pierwszorzedowej aminy przy odszczepieniu amoniaku, albo d/ przez acylowanie T mola sulfuryloamidu, za pomoca 1 lub 2 moli bezwodnika kwasowego lub halogenku kwasowego.

W przypadku uzycia alliloaminy, po zakonczeniu reakcji mozna jeszcze zbromowac podwójne wiazanie, co przeprowadza sie zwlaszcza w ten sposób, ze oczyszczony N,N-dwualkilo-IST- allilosulfamid rozpuszcza sie w chloroformie t w temperaturze z zakresu —10°C do +10°C poddaje reakcji z 1 molem Br2 .

Sulfuryloamidy przez wprowadzenie ich np. do amoniaku mozna przeksztalcac w odpowiednie sole amonowe.

Sulfuryloamidy o wzorze 1 sa cieklymi lub przewaznie stalymi zwiazkami, które sa w wodzie rozpuszczal¬ ne lub nierozpuszczalne. Produkty rozpuszczalne w wodzie nanosi sie na material wlóknisty z roztworów wodnych, a produkty nierozpuszczalne w wodzie nanosi sie na material wlóknisty, z emulsji wodnych, w przypadku produktów cieklych lub z wodnych zawiesin, w przypadku produktów w postaci stalej. Poza tym produkty nierozpuszczalne w wodzie moga byc stosowane równiez i z organicznych roztworów.

W przypadku nanoszenia nierozpuszczalnych w wodzie sulfuryloamidów z wodnych emulsji lub zawiesin korzystnie stosuje sie je razem z emulgatorami i,dyspergatorami takiego rodzaju jak stosowane w przemysle barwników i wlókniennictwie, np. sulfoniany ligniny, aromatyczne kwasy sulfonowe, nasycone, alifatyczne kwasy dwukarboksylowe podstawione dluzszymi resztami alkilowymi, produkty kondensacji aromatycznych kwasów sulfonowych z formaldehydem, addukty alkilofenoli z tlenkiem etylenu, addukty kwasów tluszczowych, amin tluszczowych lub alkohoH tluszczowych do'tlenku etylenu, podstawione benzimklazole sulfonowane amidy kwasów tluszczanych. Dobre rezultaty uzyskuje sie przede wszystkim z sulfonianami ligniny, adduktami tlenku etylenu do alkilofenoli amin tluszczanych, alkoholi tluszczowych lub kwasów tluszczowych, a zwlaszcza z podstawionymi benzimidazolami lub produktami kondensacji aromatycznych kwasów sulfonowych, z formal¬ dehydem.4 106 432 Korzystnie stosuje sie takie dyspergatory, które w podwyzszonej temperaturze np. 180-220°C nie powoduja zupelnie zzólkniecia poddawanego obróbce substratu lub najwyzej powoduja-takie zzólkniecie, które daje sie usunac w procesie dodatkowego plukania, to jest dyspergatory nie powinny ulegac rozkladowi w podwyzszonej temperaturze lub ulegajac rozkladowi tworzyc jedynie rozpuszczalne albo lotne produkty rozkladu. Ilosc dodawanego dyspergatora korzystnie wynosi 1—60% wagowych wprowadzonego do reakcji sulfuryloamidu. Szczególnie dobre wyniki uzyskuje sie przy stosowaniu 1-50, korzystnie 1-20, a zwlaszcza 1—4% wagowych dyspergatora w przeliczeniu na ilosc wagowa uzytego sulfuryloamidu.

W celu podwyzszenia stabilnosci przy przechowywaniu, wodne zawiesiny, lub zawiesiny moga jeszcze zawierac ochronne koloidy. Odpowiednie sa tu znane, stosowane w technice koloidy ochronne, jak np. poli alkohol winylowy, poliwinylopirolidon, metyloceluloza, karboksymetyloceluloza, hydroksyetylo- lub hydroksy- propyloceluloza, zelatyna, kwasowa kazeina, klej skrobiowy, lub polimery uzyskane z monomerów z szeregu kwasu akrylowego, jak kwas poliakrylowy lub kopolimery akrylanu etylu i metylometakrylanu. Dobre wyniki uzyskuje sie przede wszystkim przy uzyciu polialkoholu winylowego, hydroksyetylocelulozy a zwlaszcza karboksym etylocelulozy.

Wodne zaprawy zawieraja z reguly 50—700 g/kg, korzystnie 200—700 g/kg, a zwlaszcza 200-500 g/kg sulfuryloamidu, 0-300 g/kg, korzystnie 0,2-200 g/kg, a zwlaszcza 5-40 g/kg dyspergatora; 0-30 lub 0,5-30 g/kg, korzystnie 0—10 lub 0,5—10 g/kg koloidu ochronnego. Calosc uzupelnia sie kazdorazowo woda do wagi 1 kg.

Korzystnie wystepujacy w postaci stalej sulfuryloamid o wzorze 1 miele sie w taki sposób w wodnej zawiesinie w obecnosci srodka dyspergujacego aby rozdrobnic go do czastek posiadajacych srednia wielkosc srednicy 1—30/i, korzystnie 0,5-30 ju, a zwlaszcza 1—20 jjl. Dobre wyniki uzyskuje sie przy stosowaniu takich zawiesin, w których wielkosc czastek wynosi 1—10, korzystnie 0,5—10, a zwlaszcza 0,5—5/;. Wielkosc czastek nie wywiera zadnego wplywu na uzyskany efekt niepalnosci, ale ma wplyw na stabilnosc dyspersji.

Sulfuryloamidy posiadaja rózna zwilzalnosc, tak ze jest korzystne wczesniejsze przygotowanie zawiesiny tych zwiazków w wodzie, anie przygotowanie tej zawiesiny bezposrednio przed jej uzyciem. Jednak czyste zawiesiny sa stosunkowo niestabilne. Dlatego tez do wodnych zapraw korzystnie dodaje sie srodek dyspergujacy, poniewaz zapobiega on szybkiej sedymentacji stalego sulfuryloamidu. Przez dodatkowe wprowadzenie koloidu ochronnego mozna praktycznie calkowicie zapobiec sedymentacji. Koloidy ochronne mozna wprowadzic do <_awiesiny przed lub po procesie mielenia. Tego rodzaju stabilne zawiesiny mozna przeprowadzic w stale preparaty handlowe, w znany sposób, np. przez rozpylowe suszenie lub zwykle suszenie w suszarce z lopatko¬ wym mieszadlem. Preparaty takie moznaw kazdym momencie ponownie zdyspergowac. Mielenie wystepujacych- w postaci stalej sulfuryloamidów prowadzi sie w znanych odpowiednich do tego celu urzadzeniach, np. w mlynie kulowym ze szklanymi kulami, w mlynie paskowym lub w mlynie tarczowym o tarczach z korundu.

Jako organiczne rozpuszczalniki odpowiednie do nanoszenia z nich sulfuryloamidów o wzorze 1, wymienia sie aromatyczne weglowodory, np. benzen lub toluen, a przede wszystkim cykloalifatyczne lub heterocykliczne weglowodory, np. dioksan lub tetrahydrofuran, chlorowcowane, korzystnie alifatyczne weglowodory, np. chloroform lub trójchloroetylen, a zwlaszcza niskie, korzystnie alifatyczne alkohole, np. metanol lub etanol, ketony, np. cykloheksanon, aceton, lub keton metyloetyIowy; estry, np. octan etylu lub amidy, np. dwumetylo- formamid.

Zgodnie .ze sposobem wedlug wynalazku postepuje sie korzystnie w ten sposób, ze material wlóknisty po poddaniu obróbce wodnym srodkiem nadajacym niepalnosc poddaje sie koncowej obróbce termicznej w podwyz¬ szonej temperaturze. Odpowiedni sposób postepowania polega na tym, ze material suszy siew temperaturze do 100°C, np. w temperaturze 70—100°C i poddaje obróbce cieplnej w temperaturze powyzej 100°C np. 100—220°C lub zwlaszcza 150—220 °jC tj. poddaje tzw. termosolowaniu.

Srodki do nadawania niepalnosci zawierajace sulfuryloamid o wzorze 1 mozna nanosic na material wlóknisty za pomoca znanych metod, np. przez rozpylanie, drukowanie, zwlaszcza metoda wyczerpywania z kapieli lub zwlaszcza przez fulardowanie.

Proces dermosolowania prowadzi sie korzystnie w temperaturze 175—220° C w czasie zazwyczaj 10—200 sekund, korzystnie 20—100 sekund. Szczególnie dobre rezultaty uzyskuje sie w czasie 10—60 sekund.

Zamiast stosowania procesu termosolowania lub fulardowania nanoszenie zaprawy mozna przeprowadzic metoda wyczerpywania jej z kapieli w warunkach podwyzszonej temperatury, np. w temperaturze 100—130°C.

Korzystnie sposób wedlug wynalazku prowadzi sie tak, aby warstwa sulfuryloamidu o wzorze 1, naniesiona na poddany obróbce wlóknisty material przy odpowiednim rozcienczeniu srodka nadajacego niepalnosc za pomoca wody lub organicznego rozpuszczalnika, w zaleznosci od rodzaju wlóknistego materialu i jego „gramatu¬ ry" wynosila 1—20% wagowych a zwlaszcza 1—10% wagowych.

Wlókniste materialy poliestrowe, którym sposobem wedlug wynalazku nadawania jest niepalnosc moga byc poddawane powyzszemu „wykonczaniu" w dowolnym etapie wytwarzania tych produktów tj. w postaci106432 5 wlókien cietych lub „nici bez konca", tkanin lub dzianin, produktów niebarwionych lub wybarwionych albo wytworzonych juz wyrobów wlókienniczych.

Korzystnie takiemu wykonczaniu poddaje sie wlókniste materialy poliestrowe wywodzace sie z kwasu tereftalowego, np.politereftalanu glikolu etylenowego.

Po obróbce zgodnie ze sposobem wedlug wynalazku wlókniste materialy poliestrowe wykazuja staly efekt niepalnosci, który utrzymuje sie nawet po wielokrotnym praniu i suszeniu. Takie wykonczenie ma poza tym te zalete, ze nadaje tym materialom niekleisty chwyt, a ponadto tendencja tkaniny do brudzenia sie w stanie suchym lub wilgotnym nie zostaje zwiekszona przy zaledwie minimalnym wplywie na odpornosc wybarwien na swiatla jak i odpornosc na tarcie. Jednak szczególna zaleta sposobu wedlug wynalazku polega na tym, ze uzyskuje sie dobry efekt niepalnosci przy naniesionych cienkich warstwach.

Powyzsze nadajace niepalnosc wykonczenie wplywa minimalnie na wlasciwosci mechaniczno-wlókiennicze wlóknistego materialu takiej tkaniny. To samo dotyczy niskiej sztywnosci przy zginaniu jak i wysokiej odpornosci na scieranie i wytrzymalosci na rozerwanie wykonczonego w powyzszy sposób materialu wlókniste¬ go. Nawet i drukowane „zawiesina" tkaniny mozna poddawac obróbce sposobem wedlug wynalazku bez spowodowania jakiegokolwiek widocznego obnizenia jakosci druku.

Sposób wedlug wynalazku moze byc prowadzony równoczesnie z procesem barwienia lub rozjasniania.

Wynalazek objasniaja nizej podane przyklady, w których procenty oznaczaja procenty wagowe.

W przypadku stosowania w tych przykladach wodnych zawiesin, zawiesiny te wytwarzano w nastepujacy sposób.

Wytworzono zawiesine z200g sulfuryloamidu o wzorze 1 w roztworze 4g soli sodowej produktu kondensacji kwasu nafta lenosulfonowego z formaldehydem zawierajacym 2g karboksymety I oce Iulozy w,194 g wody, po czym mielono w mlynie piaskowym do uzyskania czastek o sredniej wielkosci srednicy 5 ju. Otrzymano zawiesine dajaca sie dobrze rozcienczac i wylewac.

Przyklad I. Wybarwiona w odcieniu niebieskim tkanine poliestrowa o gramaturze 150 g/m2 napawa sie na fulardzie wodna kapiela wedlug danych tablicy III, po czym tkanine suszy w ciagu 30 minut w temperatu¬ rze 80°C i w koncu poddaje termicznemu utrwaleniu w ciagu 20 sekund w temperaturze 200°C.

Tkanine poddaje sie dodatkowemu plukaniu w ciagu 5 minut w temperaturze 60°C w kapieli zawierajacej 2 g bezwodnego weglanu sodu i 1 g produktu kondensacji 1 mola p-nonylofenolu z 9 molami tlenku etylenu, a nastepnie splukuje i suszy.

Stopien utrwalenia okreslony jest ta iloscia produktu naniesionego na wlóknisty material, która pozostaje na materiale po procesie dodatkowego plukania (w odniesieniu do tej ilosci produktu jaka pozostaje po procesie termicznego utrwalenia).

Tkanine pierze sie w ciagu 45 minut w temperaturze 60°C w mechanicznej pralce domowej stosujac kapiel zawierajaca 4 g/l srodka pioracego dla potrzeb domowych oznaczonego SNV 198861.

Poszczególne próoki tkaniny bada sie nastepnie na ich odpornosc na palenie wedlug DIN 53906 przy 3 sekundowym czasie zapalania. Otrzymane wyniki podano w tablicy III.

Przyklad II. Postepuje sie wedlug sposobu opisanego w przykladzie I, z tym ze tkanine poliestrowa napawa sie na fulardzie kapiela o skladzie podanym w tablicy IV.

Wyniki badan uodpornienia na palenie sie wedlug DIN 53906 przy 3 sekundowym zapaleniu, oraz dane odnosnie chwytu (porównaj przyklad I) zestawiono równiez w tablicy IV.

Podobne wyniki uzyskano po zastosowaniu produktów nr 9 i nr 19 wedlug tablicy I i nr 22 wedlug tablicy II. ) po termicznym utrwaleniu czas palenia sie w sek. dlugosc rozdarcia w 1 cm po dodatkowym plukaniu czas palenia sie w sek. dlugosc rozdarcia cm po 20 praniach maszyno¬ wi*l o «o * o »o | n "1 1 o so «o 1 O (O | I ° * ' 1 O vn vo I "l 1 p * * 1 O *• *¦ I "l 1 e* v© e< I "l 1 O vO «n I -* *¦ * 1 •a "1 1 -h Tf *> I "l "l 1 O v> *© 1 O vO VO 1 "* 1 o *n + 1 o «o «o 1 disifEd disifBd 1 wych czas palenia sie w sek, dlugosc rozdarcia w cm po 40 praniach maszynowych czas palenia sie w sek. dlugosc rozdarcia w cm ** Z z 2 z. z S .Sf 2 -g i I | : | "5 •^ E ^ ^ .2 2 a ¦8 106 432 .O o o o o o aireA\ojj |-^jpnij_ * ^ 2 '3 ^ "^ ^5 -^ o 00 o o ^ o m to o o to 60 Cd* Jfc I N ^ -8 O ar 3 5 5^ — vo — to ^ >^ O to S2 O to — to O to O ^ O iri O iti O SO oo s© ©to ,~ to O to fSso c*-) >0 roso sO vO (NvO "Owo to n© to to o io — to — to — to o> r» o ^ ^, dis ijsd dis TjBd dis r^d dis ijsd 6 .2 &°o .gs E a 5rt »Q a' Cd c 0> cd a C/5 cd N o N O M *o »e/s O 3* •M T3 3 > ^ a -s -g cd a >* .^ O O C ^ l! - > w 3 &..S-.S I -S2 «y .5 ^ * O "o m ed cd »b« e cd *cfl cd g 73 o cd »cfl ed LS & a •B .2* £ =« -a ¦i s "cd *£ a o a ed _2 O rt _3 85-83 -C u .2 -a & a106 432 R, R.

\ N-Sa-NH-A," n-1 Rr 2-n -NH-S0,-N: •R, •Rs| Rex ,R7 H>SQ,-N Wzór 2 Wzór i R9)n-so2-n/R;o mer 3 ^N-sa-isk7 H ^R 14 Nzór4 Wzór 5 /r% CH.

/Yztfr 6 Wzór 7 Wzór 8 © 0 /Vztfr9 Mzór10 Wzór U

Claims (14)

Zastrzezenia patentowe

1. Sposób nadawania niepalnosci materialom wlóknistym z poliestrów, z namienny tym, ze materialy te traktuje sie zaprawa zawierajaca co najmniej jeden sulfuryloamid o wzorze 2, w którym R6 oznacza rodnik fenylowy, naftylowy, fenyloetylowy, benzylowy lub cykloheksylowy, ewentualnie podstawiony chlorowcem lub grupa a IkoksyIowa rodnik alkilowy o 1—4 atomach wegla lub atom wodoru, a R7 i fi« kazde ma takie znaczenie jak wyzej podane dla R6 lub R2 i R3 razem, oznaczaja alkiten o 4 lub 5 atomach wegla, z tym ze nie wiecej jak dwa symbole sposród R6, R7 i R8 oznaczaja atomy wodoru, i tak potraktowane materialy poddaje obróbce w podwyzszonej temperaturze.

2. Sposób wedlug zastrz. 1,znamienny tymr, ze stosuje sie sulfuryloamid o wzorze 3, w którym R9 oznacza rodnik fenylowy, naftylowy, benzylowy, fenyloetylowy lub cykloheksylowy, rodnik alkilowy o 1—4 atomach wegla, rodnik chlorowcoalkilowy o 3 atomach wegla lub atom wodoru, R1() i Ri i kazde, ma znaczenie takie jak wyzej podane dla R9 lub razem oznaczaja rodnik alkilenowy o 4 lub 5 atomach wegla, z tym ze nie wiecej jak dwa symbole sposród R9, R10 i Ri i oznaczaja atomy wodoru.6 106 432

3. Sposób wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze stosuje sie sulfuryloamid o wzorze 4, w którym R12, R13 i R14, kazde, oznacza rodnik fenylowy, benzylowy, cykloheksylowy, alkilowy o 1—4 atomach wegla, bromoalkilowy o 3 atomach wegla lub atom wodoru, z tym ze nie wiecej jak dwa symbole sposród R12/ R13 i R14 oznaczaja atomy wodoru.

4. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym„ze materialy wlókniste traktuje sie wodna zaprawa zawierajaca dodatkowo srodek dyspergujacy i koloid ochronny.

5. Sposób wedlug zastrz. 4, z n a m i e n n y t y m„ ze stosuje sie wodna zaprawe zawierajaca na 1 kg 50-7000 g sulfuryloamidu, 0,2-200 g dyspergatora i 0-300 g koloidu ochronnego.

6. Sposób wedlug zastrz., 1 znamienny tym, ze stosuje sie sproszkowany sulfuryloamid o srednim przekroju czasteczki 1-30/i.

7. Sposób wedlug zastrz. 1 znamienny tym,, ze material suszy sie w temperaturze nie wyzszej od 100°C i poddaje obróbce cieplnej w temperaturze powyzej 100°C.

8. Sposób wedlug zastrz. 7, znamienny tym, ze obróbke cieplna przeprowadza sie w tempe¬ raturze 120-220° C.

9. Sposób wedlug zastrz. 8, z.n a m i e n n y t y m, ze obróbke cieplna przeprowadza sie w temperaturze 150-220°C.

10. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze stosuje sie taki sposób postepowania, aby ilosc naniesionego sulfuryloamidu, po obróbce cieplnej wynosila 1—20% wagowych w odniesieniu do materialu wlóknistego.

11. Sposób wedlug zastrz. 1 znamienny tym,, ze material wlóknisty napawa sie metoda fulardowa- nia.

12. Sposób wedlug zastrz. 1,znamienny tym,, ze material wlóknisty napawa sie metoda ciagniecia zaprawy z kapieli.

13. Sposób nadawania niepalnosci materialom wlóknistym z poliestrów, znamienny tym, ze materialy traktuje sie zaprawa zawierajaca co najmniej jeden, ewentualnie w postaci soli amonowej, sulfurylo¬ amid o wzorze 1, w którym n oznacza wartosc liczbowa 1 lub 2 z tym, ze jesli n oznacza wartosc 2, to A! oznacza rodnik alkilenowy o 2—9 atomach wegla lub fenylowy, R2, R3, R4 i R5 kazde, oznacza rodnik alkilowy o 1—4 atomach wegla lub R2 i R3 razem i/lub R4 i R5 razem oznaczaja rodnik alkilenowy o 4—5 atomach wegla, a jesli n oznacza wartosc liczbowa 1, to Ri oznacza rodnik fenylowy, nafty Iowy, fenyloetylowy, benzylowy lub cykloheksylowy, ewentualnie podstawiony chlorowcem lub alkoksylem o 1—4 atomach wegla rodnik alkilowy o 1—4 atomach wegla, rodnik acylowy o 1—4 atomach wegla rodnik alkoksykarbonylowy o 2—5 atomach wegla lub atom wodoru a R2 i R3, kazde, ma znaczenie wyzej podane dla Ri albo R2 i R3 razem, oznaczaja alkilen o 4—5 atomach wegla, przy czym nie wiecej jak dwa symbole sposród Rlr R2 i R3 oznaczaja atomy wodoru, z tym, ze zaprawa zawiera inny sulfuryloamid niz okreslony wzorem 2, w zastrz. 1, po czym tak potraktowany material poddaje obróbce cieplnej.

14. Sposób wedlug zastrz. 13, znamienny ty m , ze stosuje sie sulfuryloamid o srednicy czasteczek 0,5-5 ix.106 432 H Po obróbce kapiela I » -——•» ¦ > ¦ I li O 2. s J * £ O L W* O ! U PQ < 1 511 1 I -BA\OJ>t I* -EIJSIllJ 100 1 ^H 1 ^ 1 ^ 1 *"* 1 "H 8 1 ^ s 00 o o JQ a — 1 Produkt nr1 (wedlug tablicy I)1 % produktu1 w zawiesinie |S 8 1 v> V6 I oo ro 00 |S | 00 co oo S 1