Przedmiotem wynalazku jest tlumik bimorfu przezna¬ czony szczególnie do bimorfów pracujacych skretnie w przetwornikach elektroakustycznych monofonicznych.W znanych przetwornikach elektroakustycznych mono¬ fonicznych stosowano tlumik bimorfu, który obejmowal bimorf cala powierzchnia lub tylko w czesci srodkowej tego bimorfu, zas korpus tlumika cala zewnetrzna powierz¬ chnia blokowano w korpusie przetwornika. W wyniku takiej konstrukcji tlumika bimorf tlumiony byl w miejscu, gdzie amplituda drgan nie jest najwieksza, a wiec nie zapewnial wlasciwej skutecznosci tlumienia, przez co nastepowalo swego rodzaju sumowanie szkodliwych rezo¬ nansów w jednym z zakresów charakterystyki przetwornika.Próby znalezienia takiego materialu na tlumik, który dzieki swym wlasciwosciom tlumiacym poprawial te wade nie zawsze dawaly dobre rezultaty, a jezeli tak to wyniki nie zawsze byly trwale.Celem wynalazku jest opracowanie takiej konstrukcji tlumika która wyeliminuje walor doboru wlasciwego ma¬ terialu na tlumik, na korzysc jego konstrukcji, a tym samym zmniejszy znacznie szkodliwe rezonanse bimorfu.Zadanie techniczne wytyczone dla zrealizowania tego celu zostalo rozwiazane zgodnie z wynalazkiem w ten sposób, ze tlumik ma ksztalt beczkowaty utworzony promieniem tworzacym z wysokoscia tlumika stosunek wyrazony war¬ toscia 0,8—2,0, a osadzony jest w polowie wysokosci otworu wewnetrznego korpusu obudowy przetwornika i styka sie z tym korpusem tylko dwoma punktami polowy wysokosci tlumika, przy czym wysokosc otworu w korpusie jest 10 25 30 wieksza od wysokosci tlumika o tyle, aby w trakcie maksymal¬ nych drgan bimorfu tlumik ten nie dotykal swa górna i dolna czescia korpusu przetwornika.Przedmiot wynalazku zostal uwidoczniony w przykladzie wykonania na rysunku przedstawiajacym przekrój pionowy przez korpus przetwornika elektroakustycznego.Tlumik wedlug wynalazku jest osadzony w dzielonym korpusie 1 przetwornika elektroakustycznego przy czym tlumik 2, w którym jest osadzony bimorf 3 ma ksztalt beczkowaty utworzony promieniem R tworzacym z wyso¬ koscia H tego tlumika stosunek zawarty w granicach 0,8— 2,0, a wysokosc W otworu wewnetrznego w korpusie 1 przetwornika jest wieksza od wysokosci H tlumika 2 o tyle, aby w trakcie maksymalnych drgan bimorfu 3 tlumik ten nie dotykal górna i dolna czescia korpusu 1, zas sam tlumik 2 jest osadzony w polowie wysokosci W otworu w korpusie 1. Szerokosc S tlumika 2 i szerokosc otworu w korpusie 1 przetwornika sa identyczne stad tlumik 2 w stanie spoczyn¬ ku dotyka scian wewnetrznych korpusu 1 tylko w dwu punktach w polowie wysokosci tego tlumika i korpusu przetwornika.W trakcie pracy przetwornika drgania skretne bimorfu 3 ga tlumione na calej powierzchni tego bimorfu przez tlumik 2, który powtarzajac drgania bimorfu 3 jednoczesnie tlumi szkodliwe drgania rezonansowe, dzieki temu iz w ca¬ lym zakresie pracy bimorfu masa tlumika dodaje sie czescio¬ wo do masy bimorfu 3 powodujac podzial silnego rezonansu na kilka slabszych, wyrównujac tym samym charaktery¬ styke przetwornika. 111 405111 405 Tlumik wedlug wynalazku dzieki wyraznej poprawie charakterystyki poprawia walory jakosciowe odsluchu plyt gramofonowych.Zastrzezenie patentowe Tlumik bimorfu obejmujacy bimorf na calym obwodzie znamienny tym, ze ma ksztalt beczkowaty utworzony promieniem (R) tworzacym z wysokoscia (H) tlumika (2) stosunek wyrazony wartoscia 0,8—2,0, a tlumik ten jest osadzony w polowie wysokosci (W) otworu wewnetrznego korpusu (1) obudowy przetwornika i styka sie z tym korpusem tylko dwoma punktami polowy wysokosci (H) tlumika (2) przy czym wysokosc (W) otworu w korpusie (1) jest wieksza od wysokosci tlumika (2) o tyle, aby w trak¬ cie maksymalnych drgan bimorfu (3) tlumik ten nie dotykal swa górna i dolna czescia korpusu (1) przetwornika elektro¬ akustycznego.LDD Z-d 2, z. 470/1400/81, n. 120 egz.Cena 45 zt PL