PL115515B1 - Method for production of printed circuits with metallized openings on a laminated insulating board made of resin glass - Google Patents
Method for production of printed circuits with metallized openings on a laminated insulating board made of resin glass Download PDFInfo
- Publication number
- PL115515B1 PL115515B1 PL1978208651A PL20865178A PL115515B1 PL 115515 B1 PL115515 B1 PL 115515B1 PL 1978208651 A PL1978208651 A PL 1978208651A PL 20865178 A PL20865178 A PL 20865178A PL 115515 B1 PL115515 B1 PL 115515B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- substrate
- resin
- holes
- metallized
- printed circuits
- Prior art date
Links
- 229920005989 resin Polymers 0.000 title claims description 31
- 239000011347 resin Substances 0.000 title claims description 31
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 32
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 16
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 claims description 12
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 9
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 claims description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 3
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 claims description 2
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 claims description 2
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 claims 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 3
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 3
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 3
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010020112 Hirsutism Diseases 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000005219 brazing Methods 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001311 chemical methods and process Methods 0.000 description 1
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005340 laminated glass Substances 0.000 description 1
- LQBJWKCYZGMFEV-UHFFFAOYSA-N lead tin Chemical compound [Sn].[Pb] LQBJWKCYZGMFEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011837 pasties Nutrition 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000009987 spinning Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/40—Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
- H05K3/42—Plated through-holes or plated via connections
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/40—Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
- H05K3/42—Plated through-holes or plated via connections
- H05K3/422—Plated through-holes or plated via connections characterised by electroless plating method; pretreatment therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0313—Organic insulating material
- H05K1/0353—Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement
- H05K1/0366—Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement reinforced, e.g. by fibres, fabrics
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/09—Shape and layout
- H05K2201/09209—Shape and layout details of conductors
- H05K2201/095—Conductive through-holes or vias
- H05K2201/09581—Applying an insulating coating on the walls of holes
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/40—Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
- H05K3/42—Plated through-holes or plated via connections
- H05K3/425—Plated through-holes or plated via connections characterised by the sequence of steps for plating the through-holes or via connections in relation to the conductive pattern
- H05K3/427—Plated through-holes or plated via connections characterised by the sequence of steps for plating the through-holes or via connections in relation to the conductive pattern initial plating of through-holes in metal-clad substrates
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/49117—Conductor or circuit manufacturing
- Y10T29/49124—On flat or curved insulated base, e.g., printed circuit, etc.
- Y10T29/4913—Assembling to base an electrical component, e.g., capacitor, etc.
- Y10T29/49144—Assembling to base an electrical component, e.g., capacitor, etc. by metal fusion
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/49117—Conductor or circuit manufacturing
- Y10T29/49124—On flat or curved insulated base, e.g., printed circuit, etc.
- Y10T29/49155—Manufacturing circuit on or in base
- Y10T29/49156—Manufacturing circuit on or in base with selective destruction of conductive paths
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Description
Opis patentowy opuiblikowano: 30.11.1982 115515 Int.Cl.2H05K3/00 B41M 3/08 CZ Y1ELNI/M Urzedtf Patentowego | Twórcawynalazku Uprawniony z patentu: Societe Anonyme de Telecommunications, Paryz Sposób wykonywania obwodów drukowanych z metalizowanymi otworami na podlozu izolacyjnym laminowanym ze szkla zywicznego i Wynalazek dotyczy sposobu wykonywania obwodów drukowanych, dwustronnych, z metalizowanymi otworami, na podlozu izolacyjnym laminowanym ze szkla zywicznego, zwlaszcza laminowanego szkla epoksydowego lub szkla poliamidowego. 5 W znanych sposobach wykonywania obwodów druko¬ wanych dwustronnych, w podlozu izolacyjnym wykonuje sie otwory, które sa nastepnie metalizowane, po czym na¬ klada sie warstwe metalu przewodzacego przez metaliza¬ cje chemiczna obu stron podloza i otworów, nastepnie 10 wykonuje sie polaczenia przez trawienie przewodzacego , metalu na obu stronach po uprzednim nalozeniu oslony, potem umieszcza sie skladowe elementy elektryczne w me¬ talizowanych otworach i lutuje sie doprowadzenia tych komponentów w tych otworach dla zapewnienia polaczenia 15 elektrycznego.Jakosc polaczen, wykonanych przez lutowanie w metali¬ zowanych otworach, jest dla niezawodnosci obwodu naj¬ wazniejsza, polaczenia te nie moga zawierac zadnych wad w postaci pecherzyków, pekniec lub kraterów. 20 Jednak na podlozach z laminowanego szkla zywicznego obserwuje sie istnienie takich wad, w ilosciach, które nie moga byc lekcewazone. Przyczyna tego stanu jest naste¬ pujaca podloze zawiera strefy z zywicy i strefy z wlókien szklanych, które przy wykonywaniu otworów przemiesz- 25 czaja sie z soba. W sciankach otworów tworza sie wtedy szczeliny oraz mikro odpryski wlókien szkla. Do szczelin tych wnikaja zanieczyszczenia powstale jako pozostalosci po procesach poprzedzajacych chemiczna metalizacje.Roztwory chemiczne, które stykaja sie ze sciankami otworów 30 na skutek wloskowatosci przenikaja wzdluz wlókien szkla pozostawiajac osady, których nie mozna usunac przez plu¬ kanie, a które sa nastepnie zasklepione przez pózniejsza metalizacje.Przy szybkim lutowaniu, takim jak lutowanie potokowe, przykladowo na tasmie, osadzone wtrety dyfuduja pod dzialaniem wysokiej temperatury na zewnatrz i zmieniaja jakosc lutowanych polaczen tworzac banki, szczeliny lub kratery.W wyniku powstaja nieciaglosci polaczen elektrycznych, zwarcia lub nawet rozerwania sie zlutowanego polaczenia.Konieczne jest'wówczas, dla zapewnienia niezawodnosci, wykonanie dodatkowej operacji lutowania, Operacja taka musi byc wykonywana recznie lutownica, jest wiec bardzo klopotliwa 1 kosztowna.Celem wynalazku jest usuniecie wymienionych niedo¬ godnosci. Dla osiagniecia tego celu, w sposobie wedlug wynalazku wykonywania obwodów drukowanych z meta¬ lizowanymi otworami na podlozu izolacyjnym laminowanym ze szkla zywicznego syntetycznego, w podlozu izolacyjnym wykonuje sie otwory majace byc metalizowanymi, po czym naklada sie warstwe metalu przewodzacego przez metaliza¬ cje/chemiczna obu stron podloza i otworów, nastepnie wykonuje sie polaczenia przez trawienie przewodzacego metalu na obu stronach podloza po uprzednim nalozeniu oslony, po czym umieszcza sie skladowe elementy elek-' tryczne w pometalizowanych otworach i lutuje sie dopro¬ wadzenia tych komponentów w tych otworach dla zapew¬ nienia polaczenia elektrycznego; sposób wedlug wynalazku charakteryzuje sie tym, ze zaraz po wykonaniu otworów 115 515115 515 3 powleka sie podloze, a w szczególnosci wewnetozna po¬ wierzchnie otworów zywica swiatloczula i tak pokryte podloze poddaje sie napromieniowaniu zdolnemu do roz¬ puszczenia zywicy, pó czym podloze sie suszy.Korzystnie w sposobie wedlug wynalazku powlekanie zywica dokonuje sie w prózni, przy czym zywica swiatlo¬ czula stanowi zywice fenolowo-formalinowa lub zywice metylofenolowo-formalinowa, laczona z sensybilizatorem dwuazowym z rodnikiem organicznym.Podczas powlekania zywica swiatloczula przenika do szczelin powstalych przy wykonywaniu otworów; zywica znajdujaca sie w szczelinach tych otworów jest zabezpie¬ czona przed napromieniowaniem i nie ulega zniszczeniu.W ten sposób szczeliny sa zatkane i zamkniete dla pózniej¬ szej penetracji zanieczyszczen z nastepnych . procesów, a wiec zabezpieczane przed powstawaniem wtretów osadzo¬ nych miedzy materialem podloza i warstwa metaliczna.* Przedmiot wynalazku pokazany jest w przykladzie wy¬ konania, na rysunku na którym fig. la—Id pokazuja rózne fazy produkcji, w czesciowym schematycznym przekroju, W duzym powiekszeniu, przy czym fig. la przedstawia ^podloze laminowane ze szkla zywicznego, przykladowo ze szkla epoksydowego z wykonanym otworem, fig. Ib — po¬ dloze po nalozeniu warstwy zywicy swiatloczulej, fig. lc— podloze po wystawieniu go na dzialanie swiatla, fig. Id — podloze po wykonaniu metalizacji, fig. 2 przedsta¬ wia wzór strukturalny zywicy fenolowo-formalinowej, fig. 3 — wzór strukturalny uczulacza dwuazowego do sensybilizowania zywicy, a fig. 4 — wzór wedlug którego przebiega proces sensybilizacji.Przedstawione na fig. la—Id podloze 1 oblozone jest z obu stron cienka folia miedziana 2 i 3 co pozwala na unikniecie koniecznosci pózniejszego nanoszenia grubej warstwy metalicznej, jednak nie jest to najwazniejsze w wy¬ nalazku. W podlozu wykonany • jest otwór 10, którego wykonaniepowoduje powstanie zaklócen struktury laminatu, tworza sie bowiem szczeliny lub nadpekniecia 11. Podloze pokrywane jest warstwa zywicy swiatloczulej 12 w stanie ciastowatym, zywica pokrywa równiez sciany otworu 10 i wnika do szczelin 11 (fig. Ib). Pokrywanie to moze byc wykonane w rózny sposób, na przyklad przez immersje (zanurzanie), wirowanie lub napylanie w prózni. Korzy¬ stnie, operacja ta wykonywana jest w prózni aby ze szczelin 11 usunac powietrze. Po wystawieniu podloza na dzialanie swiatla (fig. lc) zywica zostaje przeprowadzona w stan rozkladu przez energie swietlna, z wyjatkiem zywicy znaj¬ dujacej sie w strefie zakrytej dla promieniowania to jest w szczelinach 11. Po suszeniu, które ma na celu utwardzenie pozostalej zywicy, szczeliny 11 sa doskonale zaprawione.Cykl metalizacji chemicznej moze byc wówczas prowadzony bez obawy, ze jakies zanieczyszczenia moga przeniknac do tych szczelin przy przeprowadzaniu procesu chemicznego prowadzonego na wstepie cyklu metalizacji,^a jeszcze przed wlasciwa metalizacja.Podloze po wykonanej metalizacji pokazane jest na fig. Id, nie istnieja tu zadne wtrety miedzy podlozem izo¬ lacyjnym, którego szczeliny zostaly zaprawione zywica swiatloczula, a warstwa metaliczna 13 "utworzona przy¬ kladowo zmiedzi. s Proces metalizacji chemicznej jest sposobem klasycznym i nie ma potrzeby opisywania go szczególowo. Nalezy tylko zaznaczyc, ze cykl metalizacji obejmuje etap przygotowania podloza wykonywany w sposób zalezny od materialu po¬ dloza, a majacy na celu stworzenie na powierzchni podloza 4 reliefu umozliwiajacego przyleganie metalu, jest to wiec na przyklad etap zaszczepienia zarodków zwlaszcza palladu dla utworzenia miejsc o wzmozonej przyczepnosci, zwany operacja katalizacji, i na koniec nalozenie metalu przewo- 5- dzacego.Dalszy ciag postepowania jest równiez klasyczny: dla wzmocnienia pokrycia chemicznego wykonuje sie nastepnie elektrolityczne nakladanie metalu przewodzacego, naklada sie wiec oslone stosownie do schematu polaczen, które 10 maja byc wykonane, wykonuje sie ponowne pokrycie elek¬ trolityczne az do osiagniecia zadanej calkowitej grubosci, a potem naklada sie pokrycie elektrolityczne antykorozyjne, przykladowo cynowo-olowiane, usuwa sie ochrone i trawi sie miedz, k:óra znajdowala sie pod ochrona. Nastepnie 15 mozna juz umiescic na wlasciwym miejscu czesci skladowe i je przylutowac.Zywica swiatloczula o dodatnim dzialaniu uzyta do powlekania _odpowiadajaca wzorowi przedstawionemu na fig. 2 musi posiadac szczególne wlasnosci. Musi spelniac * 20 warunki elektryczne odpowiadajace uzytecznosci w* obwo¬ dach drukowanych, a w szczególnosci duza stratnosc die- elektryczna. Musi posiadac dostateczna , wytrzymalosc cieplna to jest byc odporna na temperatury lutowania oko¬ lo 200—250 Q Musi posiadac doskonala odpornosc na 25 czynniki chemiczne, aby nie ulegac zniszczeniu przez sklad¬ niki znajdujace sie w roztworach kapieli uzywanych w cyklu metalizacji.Taka zywice korzystnie stanowia zywica fenolowo-for¬ malinowa o wzorze przedstawionym na fig. 2 lub zywice 30 metylofenol-formalina majace strukture analogiczna do zywic otrzymanych z reakcji formaliny z fenolem lub me- tylofenolem.Zywica jest sensybilizowana uczulaczem dwuazowym, . którym przykladowo jest O-dwuazochinon-sulfonu o wzorze 35 pokazanym na fig. 3, przy czym R jest rodnikiem organi¬ cznym.Sensybilizacja na poczatku fotorozpuszczalnosci przebiega zgodnie z reakcja wg wzoru przedstawionego na fig. 4r przy czym produktem koncowym jest kwas karboksylowy. 40 Promiennikiem swietlnym uzywanym w sposobie wedlug, wynalazku jest promiennik ultrafioletowy stanowiacy lampe wypelniona parami rteci. PL
Claims (3)
- Zastrzezenia patentowe 45 1. Sposób wykonywania obwodów drukowanych z me¬ talizowanymi otworami na podlozu izolacyjnym lamino¬ wanym ze ¦ szkla zywicznego syntetycznego, w którym w podlozu izolacyjnym wykonuje sie otwory majace byc „ 50 metalizowanymi, po czym naklada sie warstwe metalu przewodzacego przez metalizacje chemiczna obu stron podloza i otworów, a nastepnie wykonuje sie polaczenia przez trawienie przewodzacego metalu na obu stronach podloza po uprzednim nalozeniu oslony, po czym umiejscawia sie 55 skladowe elementy elektryczne w pometalizowanych otwo¬ rach i lutuje sie doprowadzenia tych komponentów w tych otworach dla zapewnienia polaczenia elektrycznego, zna¬ mienny tym, ze zaraz po wykonaniu otworów powleka sie podloze, a w szczególnosci wewnetrzna powierzchnie 50 otworów zywica swiatloczula i tak pokryte podloze poddaje sie napromieniowaniu zdolnemu do rozpuszczenia zywicy, po czym podloze sie suszy.
- 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze powle¬ kania zywica dokonuje sie w prózni. 65
- 3. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze zywica115 515 swiatloczula stanowi zywice fenolowo-formalinowa która odpowiada wzorowi 1 lub zywice metylofenolowo-formali- nowa, laczona z sensybilizatorem dwuazowym o wzorze-2, w którym R jest rodnikiem organicznym. WZCJR 1 FIG. 2 FN-N WZ0R 2 FIG. 3 N- N hv coou WZÓR 3 FIG. H115 515 FIG.Ia FIG.Ib FIG.lc FIG.Id LDD Z-d 2, z. 361/1400/82, n. 105 + 20 Cena 100 zl PL
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR7723251A FR2399184A1 (fr) | 1977-07-28 | 1977-07-28 | Procede de realisation de circuits imprimes a trous metallises a partir de supports isolants en stratifie : verre-resine synthetique |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL208651A1 PL208651A1 (pl) | 1979-04-09 |
| PL115515B1 true PL115515B1 (en) | 1981-04-30 |
Family
ID=9193935
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL1978208651A PL115515B1 (en) | 1977-07-28 | 1978-07-26 | Method for production of printed circuits with metallized openings on a laminated insulating board made of resin glass |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4229879A (pl) |
| EP (1) | EP0000673B1 (pl) |
| DE (1) | DE2860533D1 (pl) |
| FR (1) | FR2399184A1 (pl) |
| PL (1) | PL115515B1 (pl) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4487828A (en) * | 1983-06-03 | 1984-12-11 | At&T Technologies, Inc. | Method of manufacturing printed circuit boards |
| DE3429236A1 (de) * | 1984-08-08 | 1986-02-13 | Krone Gmbh, 1000 Berlin | Folie mit beidseitig aufgedruckten elektrischen leiterbahnen |
| US4745045A (en) * | 1985-03-11 | 1988-05-17 | International Business Machines Corporation | Method for improving resolution in microelectronic circuits using photoresist overlayer by using thermally processed polyimide underlayer formed from positive photoresist and polyamic acid |
| JP2524436B2 (ja) * | 1990-09-18 | 1996-08-14 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション | 表面処理方法 |
| KR20140030123A (ko) * | 2010-12-13 | 2014-03-11 | 썬 케미칼 코포레이션 | 기재로의 코팅 또는 잉크 조성물 인가 및 방사선 노광 방법 및 이의 생성물 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2699424A (en) * | 1949-10-07 | 1955-01-11 | Motorola Inc | Electroplating process for producing printed circuits |
| US2897409A (en) * | 1954-10-06 | 1959-07-28 | Sprague Electric Co | Plating process |
| US2848359A (en) * | 1955-06-20 | 1958-08-19 | Gen Am Transport | Methods of making printed electric circuits |
| US3034930A (en) * | 1957-05-10 | 1962-05-15 | Motorola Inc | Printed circuit process |
| GB1120583A (en) | 1965-05-19 | 1968-07-17 | British Aircraft Corp Ltd | Improvements relating to printed circuits |
| US3708876A (en) * | 1969-01-28 | 1973-01-09 | Burroughs Corp | Vacuum-heat treatment of printed circuit boards |
| US3610811A (en) * | 1969-06-02 | 1971-10-05 | Honeywell Inf Systems | Printed circuit board with solder resist gas escape ports |
| US3773514A (en) * | 1971-08-12 | 1973-11-20 | Fromson H A | Light-sensitive structure |
| GB1571682A (en) * | 1976-01-26 | 1980-07-16 | Vickers Ltd | Printing plates |
| US4054483A (en) * | 1976-12-22 | 1977-10-18 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Additives process for producing plated holes in printed circuit elements |
-
1977
- 1977-07-28 FR FR7723251A patent/FR2399184A1/fr active Granted
-
1978
- 1978-06-28 EP EP78400038A patent/EP0000673B1/fr not_active Expired
- 1978-06-28 DE DE7878400038T patent/DE2860533D1/de not_active Expired
- 1978-07-13 US US05/924,228 patent/US4229879A/en not_active Expired - Lifetime
- 1978-07-26 PL PL1978208651A patent/PL115515B1/pl unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4229879A (en) | 1980-10-28 |
| FR2399184B1 (pl) | 1980-12-19 |
| FR2399184A1 (fr) | 1979-02-23 |
| DE2860533D1 (en) | 1981-04-02 |
| EP0000673A1 (fr) | 1979-02-07 |
| PL208651A1 (pl) | 1979-04-09 |
| EP0000673B1 (fr) | 1981-02-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5309632A (en) | Process for producing printed wiring board | |
| US3742597A (en) | Method for making a coated printed circuit board | |
| JP2001044639A (ja) | 多層プリント配線板及びその製造方法 | |
| US4888450A (en) | Circuit board fabrication leading to increased capacity | |
| EP0096701B1 (en) | Circuit board fabrication leading to increased capacity | |
| GB1478341A (en) | Printed circuit board and method of making the same | |
| PL115515B1 (en) | Method for production of printed circuits with metallized openings on a laminated insulating board made of resin glass | |
| CN113709984A (zh) | 一种用激光加工电镀孔、焊盘抗镀及抗蚀图案的制电路板方法 | |
| JP3204545B2 (ja) | 多層プリント配線板およびその製造方法 | |
| US3798060A (en) | Methods for fabricating ceramic circuit boards with conductive through holes | |
| KR20010009975A (ko) | 빌드업 다층 인쇄회로기판의 제조방법 | |
| JP2004047836A (ja) | プリント配線板とその製造方法 | |
| JP3624423B2 (ja) | プリント配線板およびその製造方法 | |
| CN113692131A (zh) | 一种用激光加工电镀孔抗镀及导电图案的制电路板方法 | |
| CN114828436B (zh) | 一种解决因电池效应引起的pcb板固定位置跳镀的方法 | |
| US8288266B2 (en) | Circuitized substrate assembly | |
| EP0335565B1 (en) | Process for producing printed wiring board | |
| KR0149969B1 (ko) | 인쇄회로기판의 제조방법 | |
| CN113766767A (zh) | 一种用激光加工电镀孔及抗蚀图案的制电路板方法 | |
| CN113709983A (zh) | 一种用激光加工电镀孔、焊盘抗镀及导电图案的制电路板方法 | |
| JP2919181B2 (ja) | プリント基板の製造方法 | |
| KR101184487B1 (ko) | 인쇄회로기판의 제조방법 | |
| JPH06152126A (ja) | 配線板の製造方法 | |
| JPS61147596A (ja) | 両面スル−ホ−ル印刷回路基板の製造方法 | |
| JPS5910770Y2 (ja) | プリント配線板 |