PL117092B1 - Cleaning tape - Google Patents

Description

Przedmiotem wynalazku jest tasma czyszczaca, stosowana zwlaszcza do czyszczenia i polerowa¬ nia glowic magnetofonowych.Znane materialy szlifujaco-polerujace skladaja sie z mieszaniny Sipoiwa bakelitowego, poliureta¬ nowego, kauczukowego lub glutynowego z ma¬ terialem sciernym i sa nakladane na rózne po¬ dloza jak papier, plótno lub folie z tworzyw syn¬ tetycznych.Materialy typowo szlifierskie zawieraja proszek scierny o granulacji kilkudziesieciu mikronów, a do polerowania stosuje sie pasty polerskie, za¬ wierajace w tworzywie plastycznym proszek scier¬ ny o granulacji kilku mikronów.W zwiazku z rozwojem przemyslu elektrotech¬ nicznego, zwlaszcza produkcji magnetofonów, wy¬ nikla potrzeba czyszczenia lub polerowania ele¬ mentów zamontowanych w obudowanych urza¬ dzeniach np. glowic magnetofonowych.Próby przystosowania znanych tworzyw szlifu- jaco-polerujacych nie daly pozytywnych wyników.Czesc znanych materialów nie nadaje sie do wy¬ konania z nich cienkiej tasmy, dostosowanej do waskich szczelin wnetrza czyszczonej aparatury.Tworzywa o twardym spoiwie i materiale scier¬ nym o duzej granulacji niszczyly precyzyjne urza¬ dzenia przez zadrapanie lub porysowanie.Celem wynalazku bylo opracowanie technologii wytwarzania tasmy czyszczacej o duzej elastycz¬ nosci i jednorodnosci warstwy czynnej, której 10 20 25 30 swoiwo posiada dlobra adhezje, zarówno do cza¬ stek materialu sciernego jak i do elastycznego podloza.Cel ten osiagnieto przez opracowanie tasmy czyszczacej, skladajacej sie z elastycznego podlo¬ za syntetycznego i warstwy masy sciernej. Masa scienna w fazie stanu plynnego sklada sie z ka- polimeru chlorku winylu i octanu winylu o za¬ wartosci chlorku winylu 80—92% wagowych i octanu winylu 1—15% wagowych w ilosci 2,41— 39,86%, izocyjanianiu alifatycznego o zawartosci 2—25«/o wagowych grup NCO w ilosci 0,1—12,72*/§ poliuretanu stanowiacego produkt reakcji toluile- nodwuizocyjanianu z poliestrem w ilosci 0,18— 6,36tyt, proszku sciernego w ilosci 6,05—42,406/e i rozpuszczalnika typu estru kwasu octowego w ilosci 30,5—74,2«/#.Jako srodki uszlachetniajace mase scierna sto¬ suje sie ester kwasu fosforowego i oksylowanego alkilofenolu lub lecytyne w ilosci 0,01—0,80V» oraz kwas oleinowy lub jego pochodne typu gli¬ cerydów w ilosci 0,16—1,50^/l w stosunku do ca¬ lej masy sciernej w fazie stanu plynnego.Przyklad I. 50 g proszku Cra03 dysperguje sie w mlynie kulowym w czasie 3 godz. w roz¬ tworze o skladzie: 20 g kopolimeru, zawierajacego 90Vt wagowych chlorku winylu, 5V» wagowych octanu winylu i 5»/» wagowych alkoholu winylo¬ wego, 5 g elastomeru poliuretanowego, powstalego w wyniku reakcji toluilenodwuizocyjanianu z po- 117 0923 117 092 4 liestrem kwasu adypinowego i glikolu dwuetyle¬ nowego o zawartosci grup — OH okolo 1,7°/*, 0,5 g lecytyny, 0,2 g kwasu oleinowego, 60 g oc¬ tanu etylu, 72 g octanu butylu. Po wykonaniu lakieru i wylaniu go z mlyna do mieszalnika, dodaje sie roztwór o skladzie: 2,8 g dwuizocyja- nianiu 4,4 dwufenylometainu o zawartosci 16% grup NCO, 17 g octanu butylu, 21 g octanu ety¬ lu. Po 0,5 godz. mieszalnia lakier nanosi sie do¬ wolna metoda na podloze z folii poliestrowej.Zestalenie i czesciowa polimeryzacja warstwy na¬ stepuje w kanale suszacym w temperaturze wzra¬ stajacej od 60 do 90°C.Przyklad II. 50 g proszku SiC dysperguje sie w mlynie kulowym przez 3 godz. w roztwo¬ rze o skladzie: 20 g kopolimeru, zawierajacego 90% wagowych chlorku winylu, 5% wagowych octanu winylu i 5% wagowych alkoholu winylo¬ wego, 5 g elastomeru poliuretanowego, otrzyma¬ nego z poliestru kwasu adypinowego i glikolu dwuetylenowego przez modyfikacje toluilenodwu- izocyjanianem, 0,5 g estru kwasu fosforowego i oksylowanego alkilofenolu, 3,2 g kwasu oleinowe¬ go 52 g octanu etylu, 64 g. octanu butylu.Po tym czasie dodaje sie 3 g dwuizocyjanianu szesciometylu o zawartosci 18% grup NCO i dy¬ sperguje przez 0,5 godz. Po wykonaniu lakieru nanosi sie dowolna metoda na podloze z folii poliestrowej. Zestalenie i usieciowienie warstwy nastepuje w kanale suszacym w temperaturze wzrastajacej od 60 do 90°C.Pr z y k l a d III. 5 kg proszku Cr203 dysper¬ guje sie w mlynie kulowym w czasie 5 godz. w roztworze o skladzie 4 kg kopolimeru, zawiera¬ jacego 85°/o wagowych chlorku winylu, 8% wa¬ gowych octanu winylu i 7% wagowych alkoholu winylowego, 0,4 kg nienasyconego, rozgalezionego, maloczesteczkowego poliestru, otrzymanego przez kondensacje kwasu adypinowego, bezwodnika fta¬ lowego i maleinowego z butamdiolem 1,3 i heksan- triolem, 6 kg octanu etylu, 7 kg octanu butylu.Po 5 godz. dodaje sie 0,04 kg dwuizocyjanianu tolilenu o zawartosci 12% grup NCO i dysper¬ guje 0,5 godz.Wykonany lakier wylewa sie z mlyna i nano¬ si dowolna metoda na podloze z folii poliestro¬ wej. Zestalenie i usieciowienie warstwy nastepuje w kanale suszacym w temperaturze wzrastajacej od 60 do 120°C. 5 Przyklad IV. 2 kg proszku Cr203 dysper¬ guje sie w mieszalniku 7 godz. w roztworze o skladzie: 2,0 kg kopolimeru zawierajacego 90% wagowych chlorku winylu, 5% wagowych octa¬ nu winylu i 5% wagowych alkoholu winylowego, 10 0,05 kg lecytyny, 0,06 kg trójoleiny, 1,0 kg octanu etylu, 2,0 kg octanu butylu, 0,1 kg elastromeru, powstalego w wyniku reakcji toluilenodwuizo- cyjanianu z poliestrem kwasu adypinowego i gli¬ kolu dwuetylenowego. Po 7 godz. dodaje sie 0,01 15 kg dwuizocyjanianu 4,4 dwufenylometanu o za¬ wartosci 12% grup NCO i dysperguje 0,5 godz.Wykonany lakier wylewa sie z mieszalnika i nanosi dowolna metoda na podloze z folii polie¬ strowej. Zestalenie i usieciowanie warstwy na- 20 stepuje w kanale suszacym w temperaturze wzra¬ stajacej od 60 do 120°C.Zastrzezenia patentowe 25 1. Tasma czyszczaca skladajaca sie z elastycz¬ nego podloza syntetycznego i tasmy sciernej, zna¬ mienna tym, ze masa scierna w fazie stanu plyn¬ nego sklada sie z kopolimeru chlorku winylu i octanu winylu o zawartosci chlorku winylu 30 80—92% wagowych i octanu winylu 1—15% wa¬ gowych w ilosci 2,41—39,86%, izocyjanianiu alifa¬ tycznego o zawartosci 2—25% wagowych grup NCO w ilosci 0,10—12,72% wagowych, polureta- nu stanowiacego produkt reakcji toluilenodwu- 35 izocyjanianu z poliestrem w ilosci 0,18—6,36%, proszku sciernego w ilosci 6,05—42,40% i rozpu¬ szczalnika typu estru kwasu octowego w ilosci 30,50—74,20%. 2. Tasma czyszczaca wedlug zastrz. 1 znamienna 40 tym, ze masa scierna w fazie stanu plynnego za¬ wiera ester kwasu fosforowego i oksylowanego alkilofenolu lub lecytyne w ilosci 0,01—0,80% oraz kwas oleinowy lub jego pochodne typu gli¬ cerydów w ilosci 0,16—1,50% w stosunku do ca- 45 lej masy sciernej.Druk: Opolskie Zaklady Graficzne im. J. Langowskiego w Opolu.Zam. 1099/82 105+22 egz.Cena 100 zl PL

Claims (2)

1. Zastrzezenia patentowe 25 1. Tasma czyszczaca skladajaca sie z elastycz¬ nego podloza syntetycznego i tasmy sciernej, zna¬ mienna tym, ze masa scierna w fazie stanu plyn¬ nego sklada sie z kopolimeru chlorku winylu i octanu winylu o zawartosci chlorku winylu 30 80—92% wagowych i octanu winylu 1—15% wa¬ gowych w ilosci 2,41—39,86%, izocyjanianiu alifa¬ tycznego o zawartosci 2—25% wagowych grup 1. NCO w ilosci 0,10—12,72% wagowych, polureta- nu stanowiacego produkt reakcji toluilenodwu- 35 izocyjanianu z poliestrem w ilosci 0,18—6,36%, proszku sciernego w ilosci 6,05—42,40% i rozpu¬ szczalnika typu estru kwasu octowego w ilosci 30,50—74,20%.
2. 2. Tasma czyszczaca wedlug zastrz. 1 znamienna 40 tym, ze masa scierna w fazie stanu plynnego za¬ wiera ester kwasu fosforowego i oksylowanego alkilofenolu lub lecytyne w ilosci 0,01—0,80% oraz kwas oleinowy lub jego pochodne typu gli¬ cerydów w ilosci 0,16—1,50% w stosunku do ca- 45 lej masy sciernej. Druk: Opolskie Zaklady Graficzne im. J. Langowskiego w Opolu. Zam. 1099/82 105+22 egz. Cena 100 zl PL