PL152931B2 - Electrolytic copper bath with sheen - Google Patents

Electrolytic copper bath with sheen

Info

Publication number
PL152931B2
PL152931B2 PL27765089A PL27765089A PL152931B2 PL 152931 B2 PL152931 B2 PL 152931B2 PL 27765089 A PL27765089 A PL 27765089A PL 27765089 A PL27765089 A PL 27765089A PL 152931 B2 PL152931 B2 PL 152931B2
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
compounds
bath
copper
sodium
electrolytic copper
Prior art date
Application number
PL27765089A
Other languages
Polish (pl)
Other versions
PL277650A2 (en
Inventor
Stanislaw Szczepaniak
Original Assignee
Stanislaw Szczepaniak
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Stanislaw Szczepaniak filed Critical Stanislaw Szczepaniak
Priority to PL27765089A priority Critical patent/PL152931B2/en
Publication of PL277650A2 publication Critical patent/PL277650A2/en
Publication of PL152931B2 publication Critical patent/PL152931B2/en

Links

Landscapes

  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Description

OPIS PATENTOWYPATENT DESCRIPTION

RZECZPOSPOLITA POLSKATHE REPUBLIC OF POLAND

URZĄD PATENTOWY RPPATENT OFFICE OF THE RP

Patent dodatkowy do patentu nr-----Zgłoszono: 89 02 09 (P. 277650)Additional patent to patent no. ----- Pending: 89 02 09 (P. 277650)

Pierwszeństwo ----Zgłoszenie ogłoszono: 89 11 13Priority ---- Application announced: 89 11 13

Opis patentowy opublikowano: 1991 12 31Patent description published: 1991 12 31

152 931152 931

Int. Cl.· C2SD 3/38Int. Cl. C2SD 3/38

HlTtllll ntdlHHlTtllll ntdlH

Twórca wynalazku: Stanisław SzczepaniakInventor of the invention: Stanisław Szczepaniak

Uprawniony z patentu : The holder of the patent: Szczepaniak Stanisław, Kielce (Polska) Szczepaniak Stanisław, Kielce (Poland)

KĄPIEL 00 ELEKTROLITYCZNEGO MIEDZIOWANIA Z POŁYSKIEMBATH 00 ELECTROLYTIC COPPER GLOSSY

Przedmiotem wynalazku jest alkaliczna kąpiel do elektrolitycznego miedziowania z połyskiem. Kąpiel przeznaczona jest do nakładania błyszczących i plastycznych powłok miedzianych bezpośrednio na detalach stalowych i żeliwnych bez konieczności stosowania toksycznych cyjanków lub podwarstwy niklu.The present invention relates to an alkaline electrolytic copper plating bath with a gloss. The bath is designed to apply shiny and plastic copper coatings directly on steel and cast iron details without the need to use toxic cyanides or nickel sublayers.

Elektrolityczne nakładanie powłok miedzianych w jednostopniowym procesie, bezpośrednio na detalach stalowych lub żeliwnych jest dotychczas znane z kilku rodzajów kąpieli przeważnie z cyjankowych, pirofosforanowych, fosfoniowych i wersenianowych.The electrolytic application of copper coatings in a one-step process directly on steel or cast iron workpieces is so far known from several types of baths, mainly cyanide, pyrophosphate, phosphonium and edetate.

W galwanotechnice najczęściej stosowane są kąpiele cyjankowe zawierające cyjanek miedziawy, cyjanek metalu alkalicznego, wodorotlenek metalu alkalicznego i wybłyszczacze. Ze względu na dużą ilość silnie toksycznych cyjanków zawartych w tych kąpielach nie można ich popłuczyn czy zużytej kąpieli wylać do ścieków, gdyż grozi to skażeniem naturalnego środowiska i biologicznym wyniszczeniem żywych organizmów.In electroplating, cyanide baths containing cuprous cyanide, alkali metal cyanide, alkali metal hydroxide and brighteners are the most commonly used. Due to the large amount of highly toxic cyanides contained in these baths, their washings or used baths cannot be poured into sewage, as this may contaminate the natural environment and biological destruction of living organisms.

Znane z opisu patentowego Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 3 704 454 i polskiego opisu patentowego nr 120 200 kąpiele pirofosforanowe, z których otrzymuje się błyszczące powłoki miedziane o wysokim połysku, mają znikomą przyczepność do stali.The pyrophosphate baths, known from US patent No. 3,704,454 and Polish patent No. 120,200, which are used to obtain shiny copper coatings with a high gloss, have little adhesion to steel.

W opisach patentowych: Wielkiej Brytanii nr 1 370 307 i nr 1 419 613, Francji nr 2 276 395, Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 3 475 293 i polskich nr 122 017, 133 515, 117 002 opisano kąpiele do miedziowania, które zawierają sole kwasów fosfoniowych i wersenianowych, znanych jako związki silnie kompleksujące miedź i inne metale. Otrzymywane z nich powłoki miedziane są gładkie, dobrze przyczepne do podłoża stalowego. Jednak same kąpiele są bardzo drogie i kłopotliwe w obróbce ścieków, których neutralizacja wymaga odpowiednich technologii i instalacji specjalistycznych oraz drogich reagentów.The following patents: Great Britain No. 1,370,307 and No. 1,419,613, France No. 2,276,395, United States No. 3,475,293 and Polish No. 122,017, 133 515, 117,002 describe copper plating baths containing phosphonium acid salts and edetate compounds known as highly complexing compounds for copper and other metals. The copper coatings obtained from them are smooth and adhere well to the steel substrate. However, the baths themselves are very expensive and troublesome in the treatment of sewage, the neutralization of which requires appropriate technologies and specialized installations as well as expensive reagents.

152 931152 931

152 931152 931

W opisie patentowym Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 4 389 286 zastosowano glukoheptoniany do kompleksowania miedzi, cyny i ołowiu. Jako środków wyrównujących i wybłyszczających użyto organicznych związków siarki i śladowych ilości jonów cynku, telluru, bizmutu, antymonu, indu, złota, srebra i innych. Osadzone z tej kąpieli powłoki stopowe miedzi z cyną i/lub ołowiem były błyszczące i dobrze przyczepne do podłoża stalowego. Maksymalna katodowa gęstość prądu nie przekraczała 1 A/dm , co w praktyce wyklucza przemysłowe jej zastosowanie.In U.S. Patent No. 4,389,286, glucoheptonates are used to complex copper, tin, and lead. Organic sulfur compounds and trace amounts of zinc, tellurium, bismuth, antimony, indium, gold, silver and other ions were used as leveling and polishing agents. The copper-tin and / or lead alloy coatings deposited from this bath were shiny and well adhered to the steel substrate. The maximum cathodic current density did not exceed 1 A / dm, which in practice excludes its industrial application.

Celem wynalazku jest opracowanie alkalicznej kąpieli do miedziowania z połyskiem, która umożliwiałaby nakładanie powłok miedzianych na detalach o złożonym kształcie, a osadzane powłoki byłyby błyszczące, nieporowate i dobrze przyczepne, do żelaza i stali. Związki kompleksujące łatwo ulegające neutralizacji lub biodegradacji byłyby tanie i dostępne. Cel ten osiągnięto poprzez opracowanie kąpieli alkalicznej do miedziowania z połyskiem, która zawiera rozpuszczalne związki miedzi dwuwartościowej, związki kompleksujące, jakimi są sole sodowe i/lub potasowe alifatycznych kwasów hydroksykarboksylowych, związki buforujące, słaboredukujące i wybłyszczające.The object of the invention is to provide an alkaline gloss copper bath that would allow copper coatings to be applied to details of complex shape, and the deposited coatings would be shiny, non-porous and well adherent to iron and steel. Readily neutralizable or biodegradable complexing compounds would be cheap and available. This goal was achieved by developing an alkaline bright copper plating bath that contains soluble divalent copper compounds, complexing compounds such as sodium and / or potassium salts of aliphatic hydroxycarboxylic acids, buffering, weak reductive and brightening compounds.

Jako związki kompleksujące można stosować pojedyńczo lub w zestawie sole sodowe i/lub potasowe alifatycznych kwasów hydroksykarboksylowych takich jak: cytrynowy, glukonowy, glukoheptonowy, jabłkowy, tartronowy, winowy. Związkami buforującymi mogą być borany, fosforany, pirofosforany, alkanoloaminy alifatyczne i/lub aromatyczne i inne.As complexing compounds, sodium and / or potassium salts of aliphatic hydroxycarboxylic acids such as citric, gluconic, glucoheptonic, malic, tartronic and tartaric acids can be used individually or in combination. The buffering compounds can be borates, phosphates, pyrophosphates, aliphatic and / or aromatic alkanolamines, and others.

Istota wynalazku polega na tym, że kąpiel zawiera: 0,5 - 60 g/dm^ nieorganicznych związków siarki czterowartościowej, 0,001 - 10 g/dm^ heterocyklicznych związków mających przynajmniej jeden atom azotu i/lub ich oligomerów otrzymanych w reakcji z epihalogenohydryną w stosunku molowym 2 : 1 do 1 : 2 i 0,001 - 5 g/dm^ rozpuszczalnych związków metali dwuwartościowych takich jak: cynk i/lub cyna i/lub nikiel i/lub kobalt i/lub kadm i/lub ołów.The essence of the invention consists in the fact that the bath contains: 0.5-60 g / dm3 of inorganic compounds of tetravalent sulfur, 0.001-10 g / dm3 of heterocyclic compounds having at least one nitrogen atom and / or their oligomers obtained by reaction with epihalohydrin in the ratio molar 2: 1 to 1: 2 and 0.001 - 5 g / dm3 of soluble divalent metal compounds such as zinc and / or tin and / or nickel and / or cobalt and / or cadmium and / or lead.

Jako nieorganiczne związki siarki czterowartościowej można stosować rozpuszczalne sole litowców kwasu siarkawego i/lub pirosiarkawego. Korzystnie jest dodawać takie sole sodowe jak: siarczyn sodowy, kwaśny siarczyn sodowy, pirosiarczyn sodowy, kwaśny pirosiarczyn sodowy. Siarczyny i/lub pirosiarczyny dodawane są do kąpieli w celu ułatwienia katodowej redukcji jonów miedzi dwuwartościowej do metalicznej. Ponadto siarczyny i/lub pirosiarczyny wpływają korzystnie na rozdrobnienie ziarna osadzanej miedzi, rozjaśnianie powłoki szczególnie w zakresie niskich gęstości prądu.As inorganic tetravalent sulfur compounds, soluble alkali metal salts of sulfurous and / or metabisulfuric acid can be used. It is preferable to add sodium salts such as sodium sulfite, sodium bisulfite, sodium metabisulfite, sodium bisulfite. Sulfites and / or metabisulfites are added to the bath to facilitate the cathodic reduction of divalent copper ions to metallic. Moreover, the sulphites and / or metabisulphites have a positive effect on the grain refinement of the deposited copper, lightening the coating, especially in the low current densities range.

Do związków heterocyklicznych stosowanych według wynalazku, mających korzystny wpływ na pracę kąpieli miedziowej zaliczamy: pirol, pirolidynę, pirydynę, piperydynę, piperazynę, pirazynę, pirydazynę, pirymidynę, chinolinę, izochinolinę, indol, imidazol, triazynę, oksazol, izooksazol, morfolinę, 1,2,4-triazol i ich pochodne.The heterocyclic compounds used according to the invention that have a beneficial effect on the operation of the copper bath include: pyrrole, pyrrolidine, pyridine, piperidine, piperazine, pyrazine, pyridazine, pyrimidine, quinoline, isoquinoline, indole, imidazole, triazine, oxazole, isoxazole, 1, morpholino 2,4-triazole and their derivatives.

Jako epihalogenohydrynę korzystnie jest stosować: l-chloro-2,3-epoksypropan, 1-fluoro-2,3-epoksypropan, l-bromo-2,3-epoksypropan, 1-jodo-2, 3-epoksypropan, 1-chloro-2,3-epoksybutan, l-chloro-2,3-epoksypentan, l-chloro-3,4-epoksypentan.As epihalohydrin it is preferred to use: 1-chloro-2,3-epoxypropane, 1-fluoro-2,3-epoxypropane, 1-bromo-2,3-epoxypropane, 1-iodo-2,3-epoxypropane, 1-chloro- 2,3-epoxybutane, 1-chloro-2,3-epoxypentane, 1-chloro-3,4-epoxypentane.

Kąpiel według wynalazku może pracować w urządzeniach obrotowych i stacjonarnych, w przedziale temperatury od 290 - 350 K, korzystnie 320 - 340 K, z mieszaniem lub bez, filtrowanie ciągłe lub okresowe. Ilość miedzi w kąpieli nie jest decydująca i może wahać się od 5-30 g/dm\ korzystnie dla urządzeń obrotowych 8-12 g/dm\ a w stacjonarnych od 12 - 20 g/dm\ Stężenia kwasów hydroksylowych mogą wynosić od 50 - 200 g/dm\ korzystnie 80 - 120 g/dm\ Anody należy zawieszać w workach anodowych, a ich stosunek do katody musi wynosić przynajmniej 2 : 1, pH kąpieli jest większe od 7, korzystnie 8,8 - 9,5. Neutralizacja kąpieli jest tania, prosta i skuteczna, a przeprowadza się ją nieorganicznymi związkami wapnia i żelaza.The bath according to the invention can be operated in rotary and stationary devices in the temperature range from 290 to 350 K, preferably 320 to 340 K, with or without agitation, continuous or batch filtration. The amount of copper in the bath is not decisive and may vary from 5-30 g / dm \ preferably for rotary devices 8-12 g / dm \ and for stationary devices from 12 - 20 g / dm \ Concentrations of hydroxyl acids can be from 50-200 g / dm \ preferably 80 - 120 g / dm \ The anodes should be suspended in anode bags, and their ratio to the cathode must be at least 2: 1, the pH of the bath is greater than 7, preferably 8.8 - 9.5. Bath neutralization is cheap, simple and effective, and it is carried out with inorganic calcium and iron compounds.

Przedmiot wynalazku został objaśniony w podanych poniżej przykładach.The subject matter of the invention is elucidated in the following examples.

Przykład I.Example I.

Siarczan miedziowy CuSO* · 5 H2o ....................................... 45g/dm^Copper sulphate CuSO * 5 H 2 o ....................................... 45g / dm ^

Kwas cytrynowy ^ΗθΟ? · HjO ............................................ 110g/dm^Citric acid ^ ΗθΟ? HjO ............................................ 110g / dm ^

Wodorotlenek sodowy NaOH ............................................... 75q/dm^Sodium hydroxide NaOH ............................................... 75q / dm ^

152 931152 931

Czteroboran sodowy Na^^O? - 10 H?0 .................................. 30g/dmSodium tetraborate Na ^^ O? - 10 H? 0 .................................. 30g / dm

Siarczyn sodowy Na2S0^ · 7 Η?0 ....................................... 40g/dmSodium sulphite Na 2 S0 ^ · 7 Η? 0 ....................................... 40g / dm

Produkt reakcji pirolu z l-chloro-2,3-epoksypropanem w stosunku molowym 1 : 1 ............................................. 0,3g/dmProduct of the reaction of pyrrole with 1-chloro-2,3-epoxypropane in a molar ratio of 1: 1 ............................... .............. 0.3 g / dm

Imidazol ........... 1,2g/dmImidazole ........... 1.2 g / dm

Octan ołowiu ................ 0,02g/dmLead acetate ................ 0.02 g / dm

Kąpiel przetestowano w komórce Hulla przy użyciu anody z miedzi elektrolitycznej w gatunku Ml-E oraz odtłuszczonej i wytrawionej płytki stalowej. W czasie elektrolizy płynął prąd o natężeniu 0,5 A przez 1500 sekund, a kąpiel była mieszana mieszadłem magnetycznym. Temperatura kąpieli 320 K, a pH = 9,0. W wyniku elektrolizy uzyskano powłokę dobrze przyczepną do podłoża stalowego, błyszczącą w zakresie 0 - 2,5 A/dm natomiast powyżej tej gęstości powłoka była przypalona i mało przyczepna.The bath was tested in a Hull cell using an M1-E grade electrolytic copper anode and a degreased and etched steel plate. During the electrolysis, a current of 0.5 A flowed for 1500 seconds, and the bath was stirred with a magnetic stirrer. Bath temperature 320 K and pH = 9.0. As a result of electrolysis, a coating was obtained which adhered well to the steel substrate, shiny in the range of 0 - 2.5 A / dm, while above this density the coating was burnt and not very adhesive.

Przykład II.Example II.

Siarczan miedziowy CuSO* 5 HjO ..................................... 35g/dmCopper sulphate CuSO * 5 HjO ..................................... 35g / dm

Glukonian sodowy CjH^^O^COONa ................ 60g/dmSodium Gluconate CjH ^^ O ^ COONa ................ 60g / dm

Cytrynian potasowy .......................................... 60 g/dm3 Potassium citrate .......................................... 60 g / dm 3

Czteroboran sodowy NajB^O? · 10 Η?0 ....... 35g/dmSodium tetraborate NajB ^ O? 10 Η? 0 ....... 35g / dm

Pirosiarczyn sodowy Na2S20^ .......................................... 30g/dmSodium metabisulfite Na 2 S 2 0 ^ .......................................... 30g / dm

Węglan sodowy Na2C0} · 10 Η?0 ........................................ 15g/dmSodium carbonate Na 2 C0 } · 10 Η? 0 ....................................... .15g / dm

Produkt reakcji piperazyny z l-chloro-2,3-epoksypropanem w stosunku molowym 1 : 1 .......................................... 0,2g/dmProduct of the reaction of piperazine with l-chloro-2,3-epoxypropane in a molar ratio of 1: 1 ............................... ........... 0.2 g / dm

Siarczan kobaltawy CoSO* · 7 Η?0 ..................................... 0,1g/dmCobalt sulphate CoSO * 7 Η? 0 ..................................... 0.1g / dm

Kąpiel przetestowano w komórce Hulla, w warunkach takich samych jak w przykładzie I.The bath was tested in a Hull cell under the same conditions as in Example I.

W wyniku elektrolizy uzyskano plastyczną i dobrze przyczepną do podłoża stalowego powłokę 2 miedzianą, która była błyszcząca w zakresie 0 - 1,5 A/dm i półbłyszcząca w zakresie 1,5 -2,5 A/dm2.As a result of electrolysis, a plastic and well-adherent copper coating 2 was obtained, which was shiny in the range of 0 - 1.5 A / dm 2 and semi-glossy in the range of 1.5-2.5 A / dm 2 .

Przykład III .Example III.

Węglan miedziowy zasadowy CuCOj · Cu(0H)2 ............................ 30 g/dm3 Basic cupric carbonate CuCOj · Cu (0H) 2 ............................ 30 g / dm 3

Kwas cytrynowy C^HgO? · HjO .......................................... 00 g/dm3 Citric acid C ^ HgO? HjO .......................................... 00 g / dm 3

Winian potasowy C^H^O^Kj · 1/2 H20 ................................... 25 g/dm3 Potassium tartrate C ^ H ^ O ^ Kj · 1/2 H 2 0 .................................. .25 g / dm 3

Wodorotlenek potasowy KOH ............................................ 55 g/dm3 Potassium hydroxide KOH ............................................ 55 g / dm 3

Pirosiarczyn sodowy Na^jO^ .......................................... 25 g/dm3 Sodium metabisulfite Na ^ jO ^ .......................................... 25 g / dm 3

Czteroboran sodowy Na^^O? · 10 H20 .................................. 35 g/dm3 Sodium tetraborate Na ^^ O? 10 H 2 0 .................................. 35 g / dm 3

Produkt reakcji imidazolu z l-chloro-2,3-epoksypropanem w stosunku molowym 2 : 3 ............................................. 0,5 g/dm3 Reaction product of imidazole with 1-chloro-2,3-epoxypropane in a molar ratio of 2: 3 ............................... .............. 0.5 g / dm 3

3-Benzolilo-l,2,4-triazol ............................................ 0,1 g/dm3 3-Benzolyl-1,2,4-triazole ....................................... ..... 0.1 g / dm 3

Węglan ołowiu ........................................................ 0,01 g/dm3 Lead carbonate ................................................ ........ 0.01 g / dm 3

Siarczan cynawy ...................................................... 0,05 g/dm3 Stannous sulfate ................................................ ...... 0.05 g / dm 3

Kąpiel testowano w komórce Hulla, gdzie anodą była płytka z miedzi elektrolitycznej, a katodą płytka stalowa. Przez komórkę przepuszczano prąd o natężeniu 1 A, w czasie 900 s, przy mieszaniu sprężonym powietrzem. Temperatura kąpieli 330 K, pH - 9,2. W wyniku elektrolizy uzyskano powłokę plastyczną i nieporowatą oraz dobrze przyczepną do podłoża. Otrzymywa2 ne powłoki miedziane były błyszczące w zakresie 0,1 - 1,8 A/dm i półbłyszczące w zakresie 1,8 - 2,6 A/dm2.The bath was tested in a Hull cell where the anode was an electrolytic copper plate and the cathode was a steel plate. A current of 1 A was passed through the cell for 900 s while agitating with compressed air. Bath temperature 330 K, pH - 9.2. As a result of electrolysis, a plastic, non-porous and well-adherent coating was obtained. The obtained copper coatings were shiny in the range of 0.1 - 1.8 A / dm 2 and semi-glossy in the range of 1.8 - 2.6 A / dm 2 .

Kąpiel do elektrolitycznego miedziowania z połyskiem według wynalazku może pracować przemysłowo w urządzeniach obrotowych i stacjonarnych. Składniki kąpieli muszą być uzupełniane w oparciu o okresowo dokonywane laboratoryjnie analizy i testy. Składniki podstawowe i wybłyszczające mogą być dodawane pojedyńczo lub w zestawie.The electrolytic copper plating bath according to the invention can be operated industrially in rotary and stationary devices. Bath components must be replenished based on periodic laboratory analyzes and tests. The basic and polishing ingredients can be added individually or in a set.

152 931152 931

Claims (1)

Zastrzeżenie patentowePatent claim Kąpiel do elektrolitycznego miedziowania z połyskiem składająca się z rozpuszczalnych związków miedzi dwuwartościowej, soli sodowych i/lub potasowych alifatycznych kwasów hydroksykarboksylowych i związków buforujących, znamienna tym, że zawiera 0,5 - 60 g/dm^ nieorganicznych związków siarki czterowartościowej, 0,001 - 10 g/dm’ heterocyklicznych związków mających przynajmniej jeden atom azotu i/lub ich oligomerów otrzymanych w reakcji z epihalogenohydryną w stosunku molowym 2 : 1 do 1 : 2 i 0,001 - 5 g/dm^ rozpuszczalnych związków metali dwuwartościowych takich jak: cynk i/lub cyna i/lub nikiel i/lub kobalt i/lub kadm i/lub ołów.Electrolytic copper plating bath consisting of soluble divalent copper compounds, sodium and / or potassium salts of aliphatic hydroxycarboxylic acids and buffering compounds, characterized in that it contains 0.5 - 60 g / dm3 of inorganic compounds of tetravalent sulfur, 0.001 - 10 g / dm 'of heterocyclic compounds having at least one nitrogen atom and / or their oligomers obtained by reaction with epihalohydrin in a molar ratio of 2: 1 to 1: 2 and 0.001 - 5 g / dm3 of soluble divalent metal compounds such as zinc and / or tin and / or nickel and / or cobalt and / or cadmium and / or lead. Zakład Wydawnictw UF RP. Nakład 100UF RP Publishing House. Mintage 100 Cena 3000 złPrice: PLN 3,000
PL27765089A 1989-02-09 1989-02-09 Electrolytic copper bath with sheen PL152931B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL27765089A PL152931B2 (en) 1989-02-09 1989-02-09 Electrolytic copper bath with sheen

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL27765089A PL152931B2 (en) 1989-02-09 1989-02-09 Electrolytic copper bath with sheen

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL277650A2 PL277650A2 (en) 1989-11-13
PL152931B2 true PL152931B2 (en) 1991-02-28

Family

ID=20046332

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL27765089A PL152931B2 (en) 1989-02-09 1989-02-09 Electrolytic copper bath with sheen

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL152931B2 (en)

Also Published As

Publication number Publication date
PL277650A2 (en) 1989-11-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6165342A (en) Cyanide-free electroplating bath for the deposition of gold and gold alloys
JP2859316B2 (en) Platinum or platinum alloy electroplating bath and electroplating method
EP1009869B1 (en) Cyanide-free monovalent copper electroplating solutions
EP0611840B1 (en) Cyanide-free plating solutions for monovalent metals
EP0770711B1 (en) Sn-Bi alloy-plating bath and method for forming plated Sn-Bi alloy film
CN102016130B (en) Modified copper-tin electrolyte and method of depositing bronze layers
US5674374A (en) Sn-Bi alloy-plating bath and plating method using the same
US4075066A (en) Electroplating zinc, ammonia-free acid zinc plating bath therefor and additive composition therefor
US4904354A (en) Akaline cyanide-free Cu-Zu strike baths and electrodepositing processes for the use thereof
EP0663460B1 (en) Tin-zinc alloy electroplating bath and method for electroplating using the same
US4356067A (en) Alkaline plating baths and electroplating process
US4417956A (en) Alkaline plating baths and electroplating process
EP0397663B1 (en) Electrodeposition of tin-bismuth alloys
US4270990A (en) Acidic electroplating baths with novel surfactants
EP0546654B1 (en) Electroplating composition and process
WO2006016603A1 (en) Tin-zinc alloy electroplating method
PL152931B2 (en) Electrolytic copper bath with sheen
US3617451A (en) Thiosulfate copper plating
US4253920A (en) Composition and method for gold plating
US3186926A (en) Electroplating solution containing a diester of selenious acid
JP3324844B2 (en) Sn-Bi alloy plating bath and plating method using the plating bath
JPS6219519B2 (en)
CN85103672B (en) Alkaline cyanide-free electrolytic copper plating solution
GB2109789A (en) Benzaldehyde ether derivatives and their use in zn-electroplating
AU632464B2 (en) A method, bath and cell for the electrodeposition of tin-bismuth alloys