PL180812B1

PL180812B1 - Urządzenie do usuwania zanieczyszczeń z płaskich materiałów izolacyjnych, za pomocą wyładowania koronowego

Info

Publication number: PL180812B1
Application number: PL96326319A
Authority: PL
Inventors: Fritz Bloss
Original assignee: Arcotec Oberflaechentech Gmbh
Priority date: 1995-10-13
Filing date: 1996-08-31
Publication date: 2001-04-30
Also published as: US6099810A; ATE190904T1; AU6930796A; PL326319A1; EP0854782B1; JP2000500384A; EP0854782A1; CA2232567A1; DE19538176A1; DE59604797D1; WO1997014546A1

Abstract

1. Urzadzenie do usuwania zanieczyszczen z plaskich materialów izolacyjnych, za pomoca wyladowania koronowego, wyposazone w obudowe z oslona, w której znajduje sie przynajmniej jedna ele- ktroda, polaczona ze zródlem wysokiego napiecia, oraz w jej poblizu przynajmniej jedna walcowa przeciwele ktroda, po powierzchni której przesuwany jest przez obszar wyladowania koronowego plaski material izo- lacyjny, a ponadto przynajmniej w jeden uklad wpro- wadzajacy do wnetrza oslony osrodek gazowy, przy czym skladowa wektora predkosci strumienia osrodka gazowego jest skierowana do przeciwelektrody, oraz przynajmniej w dwa uklady odsysajace osrodek gazowy z wnetrza oslony, znamienne tym, ze jego uklady odsy- sajace (41), odprowadzajace z wnetrza oslony (23) osrodek gazowy, z których jeden znajduje sie po stro- nie wejscia plaskiego materialu izolacyjnego (16) do komory (22) wyladowania koronowego (21) za- chodzacego miedzy elektroda wysokonapieciowa (12) a przeciwelektroda (13), zas drugi - po stronie wyjscia tego materialu izolacyjnego (16) z komory (22) wyladowania koronowego (21), sa osadzone przesuwnie wzgledem oslony (23). Fig. 1 PL PL PL PL PL PL PL

Description

Przedmiotem wynalazku jest urządzenie do usuwania zanieczyszczeń z płaskich materiałów izolacyjnych, za pomocą wyładowania koronowego, wyposażone w obudowę z osłoną, w której znajduje się przynajmniej jedna elektroda, połączona ze źródłem wysokiego napięcia, oraz w jej pobliżu przynajmniej jedna walcowa przeciwelektrodą, po powierzchni której przesuwany jest przez obszar wyładowania koronowego płaski materiał izolacyjny, a ponadto przynajmniej w jeden układ wprowadzający do wnętrza osłony ośrodek gazowy, przy czym składowa wektora prędkości strumienia ośrodka gazowego jest skierowana do przeciwelektrody, oraz przynajmniej w dwa układy odsysające ośrodek gazowy z wnętrza osłony.

Znane urządzenie do usuwania zanieczyszczeń z jednej, lub z obydwu płaskich powierzchni materiałów izolacyjnych, na przykład z folii, lub z powierzchni tworzyw sztucznych, papieru i podobnych materiałów izolacyjnych, są zazwyczaj wyposażone w komorę wyładowania koronowego, w której znajduje się przynajmniej jedna elektroda wysokonapięciowa, oraz przynajmniej jedna uziemiona przeciwelektrodą, przy czym oczyszczany materiał izolacyjny jest przesuwany przez obszar wyładowania koronowego, najczęściej przylegając do przeciwelektrody.

Elektrody wysokonapięciowe, elektryczne kable zasilające, oraz izolatory urządzenia znajdują się w obudowie urządzenia, zabezpieczając je przed uszkodzeniami, zaś użytkowników przed działaniem wysokiego napięcia, przy czym obudowa ta, ma najczęściej kształt prostopadłościanu, na którego jednej ściance są osadzone elektrody wysokonapięciowe, zaś na przeciwległej, lub przyległej ściance - wysokonapięciowe elementy przyłączeniowe. Znane urządzenia są ponadto wyposażone w układ do wytwarzania strumienia ośrodka gazowego, na przykład powietrza, lub innej mieszanki gazów i doprowadzenia go do elektrod (w celu ochładzania elektrod, których temperatura znacznie wzrasta podczas wyładowania) i obszaru wyładowania koronowego. W celu usunięcia ozonu, oraz innych produktów gazowych powstających podczas wyładowania, stosuje się odpowiedni układ zasysający.

180 812

Niedogodnością tych znanych urządzeń do oczyszczania płaskich materiałów izolacyjnych za pomocą wyładowania koronowego są częste usterki i uszkodzenia i zwarcia ich części składowych, zwłaszcza izolatorów, elektrod i elementów przyłączeniowych, spowodowane osadzaniem się na tych częściach zanieczyszczeń pochodzących z oczyszczanego materiału, a także z rozpuszczalników, kurzu, włókien i substancji klejących, i wprowadzanych do komory wyładowania wraz z tym gazem. Występujące usterki i uszkodzenia urządzeń zależą przy tym w znacznej mierze od obciążenia elektrycznego, oraz od ilości zanieczyszczeń.

W celu ograniczenia występowania tych usterek i uszkodzeń stosuje się układy odsysające zanieczyszczenia z komory wyładowania, jednakże mimo stosowania takich układów nie uzyskano dotychczas w znanych urządzeniach zadawalających wyników niezawodności ich działania.

Z europejskiego opisu patentowego nr EP 0 524 415 znane jest urządzenie do usuwania zanieczyszczeń z taśmy materiału izolacyjnego, wyposażone w dwie równoległe elektrody w postaci prętów przyłączonych do przeciwnych biegunów wysokiego potencjału elektrycznego, między którymi przesuwana jest taśma oczyszczanego materiału. Po obydwu stronach elektrod znajdują się w obszarze wyładowania koronowego kanały odsysające, służące do odprowadzenia na zewnątrz cząsteczek kurzu oddzielonych od naładowanej taśmy.

Niedogodnością tego urządzenia jest niedostateczne i nierównomierne odsysanie zanieczyszczeń z taśmy materiału izolacyjnego, spowodowane drganiami taśmy, prowadzonej bez podparcia między elektrodami i poddanej działaniu strumieniami powietrza.

Z niemieckiego opisu patentowego nr DE 42 12 549 znane jest urządzenie do oczyszczania płaskich materiałów izolacyjnych, na przykład folii, za pomocą wyładowania koronowego, wyposażone w sztywną obudowę, ze znajdującymi się w niej elektrodami wysokonapięciowymi, oraz przeciwelektrodą, a ponadto wyposażoną w wewnętrzną osłonę, w której znajdują się dysze do nadmuchu gorącego ośrodka gazowego, zwłaszcza powietrza, w obszar wyładowania koronowego w kierunku powierzchni obrabianego materiału. Urządzenie jest ponadto wyposażone w trwale przymocowany do obudowy układ odsysający, zaopatrzony w kanały, utworzone w przeciwległych ściankach obudowy i służące do odprowadzenia na zewnątrz produktów gazowych wyładowania koronowego, zwłaszcza ozonu. Sztywna obudowa jest swym kształtem dopasowana do kształtu i średnicy przeciwelektrody, co ogranicza możliwość zastosowania w komorze wyładowania koronowego innego rodzaju przeciwelektrod.

Ośrodek gazowy odsysany z obszaru wyładowania koronowego przechodzi przez obszar elektrod, powodując osadzanie się na nich cząsteczek zanieczyszczeń pochodzących z oczyszczanego materiału. Wskutek tego występuje zjawisko przegrzania, a w rezultacie obniżenie wydajności elektrod.

Z europejskiego opisu patentowego nr EP 0 253 145 znane jest urządzenie przeznaczone do usuwania zanieczyszczeń z płaskich materiałów izolacyjnych, za pomocą wyładowania koronowego, złożone z obudowy, z elektrody wysokonapięciowej, oraz z walcowej przeciwelektrody, a także z układu otworów w obudowie, oraz z przewodów doprowadzających i odprowadzających z wnętrza obudowy ośrodek gazowy (powietrze, lub gaz szlachetny). Elektroda wysokonapięciowa jest zaopatrzona w kanały wlotowe, służące do doprowadzenia w obszar wyładowania koronowego ośrodka gazowego, i wylotowe, oddzielone od poprzednich pionową przegrodą i służące do odprowadzenia tego ośrodka. Zassany z obudowy ośrodek gazowy jest po uprzednim oczyszczeniu go w filtrze, oraz podgrzaniu, ponownie wprowadzany w obszar wyładowania koronowego.

Również i w tym urządzeniu ośrodek gazowy odsysany z obszaru wyładowania koronowego przepływa wokół elektrody, powodując jej zabrudzenie cząsteczkami kurzu pochodzącego z oczyszczanego materiału, i w konsekwencji obniżenie jej wydajności, oraz uszkodzenia.

Celem wynalazku jest opracowanie takiej konstrukcji urządzenia do usuwania zanieczyszczeń z płaskich materiałów izolacyjnych, za pomocą wyładowania koronowego, która umożliwi zastosowanie różnych rodzajów elektrod, oraz przeciwelektrod i zapewni skuteczne usuwanie zanieczyszczeń z materiału izolacyjnego, a także z komory wyładowania koronowego, a tym samym wyeliminuje niedogodności znanych dotychczas podobnych urządzeń.

180 812

Cel ten, zrealizowano w urządzeniu do usuwania zanieczyszczeń z płaskich materiałów izolacyjnych, za pomocą wyładowania koronowego według wynalazku, które charakteryzuje się tym, że jego układy odsysające, odprowadzające z wnętrza osłony ośrodek gazowy, z których jedno znajduje się po stronie wejścia płaskiego materiału izolacyjnego do komory wyładowania koronowego zachodzącego między elektrodą wysokonapięciową a przeciwelektrodą zaś drugie - po stronie wyjścia tego materiału izolacyjnego z komory wyładowania koronowego, sąosadzone przesuwnie względem osłony.

Ciśnienie ośrodka gazowego w obszarze wyładowania koronowego między elektrodą wysokonapięciową a przeciwelektrodąjest niższe korzystnie od jego ciśnienia w otworze wejściowym układu wprowadzającego ten ośrodek do wnętrza osłony, w obszarze którego znajdują się elementy połączeniowe.

Przynajmniej jeden układ odsysający ośrodek gazowy z wnętrza osłony jest zaopatrzony w szczelinę wlotową znajdującą się z boku obszaru wyładowania koronowego. Podłużna oś szczeliny wlotowej układu odsysającego jest, korzystnie, równoległa do podłużnej osi elektrody wysokonapięciowej. Długość szczeliny wlotowej układu odsysającego jest, korzystnie, przynajmniej równa długość elektrody wysokonapięciowej, oraz szerokości oczyszczanego płaskiego materiału izolacyjnego. Kierunek strumienia ośrodka gazowego na wejściu szczeliny wlotowej układu odsysającego jest, korzystnie, w przybliżeniu prostopadły do kierunku strumienia ośrodka gazowego na wyjściu otworu wylotowego tego układu odsysającego. Położenie i wymiary szczeliny wlotowej przynajmniej jednego układu odsysającego są korzystnie, nastawne.

Obydwa układy odsysające urządzenia, usuwające z wnętrza osłony ośrodek gazowy są korzystnie, zwieciadlanie symetryczne.

Osłona urządzenia jest, korzystnie, na swej tylnej ściance wyposażona w układ wprowadzający do jej wnętrza ośrodek gazowy, zaopatrzony w otwór wejściowy. Układ wprowadzający do wnętrza osłony ośrodek gazowy jest, korzystnie, wyposażony w filtr, osadzony w otworze wejściowym tego układu. Otwór wejściowy układu wprowadzającego do wnętrza osłony ośrodek gazowy jest, korzystnie, zaopatrzony w zespół nastawny do zmiany jego wymiarów. Układ wprowadzający do wnętrza osłony ośrodek gazowy jest, korzystnie, wyposażony w przewód wejściowy, osadzony w otworze wejściowym tego układu.

Urządzenie jest, korzystnie, wyposażone w elementy w postaci prowadnic kierujących strumień ośrodka gazowego na elektrodę wysokonapięciową! znajdujące się wewnątrz osłony.

Urządzenie jest, korzystnie, wyposażone w elementy w postaci przegród kierujących strumień ośrodka gazowego z wnętrza osłony i znajdujących się wewnątrz układów odsysających.

Źródło wysokiego napięcia zasilającego elektrodę wysokonapięciową ma korzystnie, potencjał o wartości wynoszącej przynajmniej 2 kV.

Minimalna odległość między elektrodą wysokonapięciową a przeciwelektrodą wynosi, korzystnie, nie więcej niż 5 mm.

Układy odsysające są na wyjściu połączone, korzystnie, z wejściem układu wprowadzającego do wnętrza osłony ośrodek gazowy, tworząc zamknięty obieg ośrodka gazowego, w który włączony jest, korzystnie, filtr i układ chłodzący.

Urządzenie jest wyposażone przynajmniej w dwie, a korzystnie w pięć elektrod wysokonapięciowych.

Walcowa przeciwelektrodą urządzenia jest, korzystnie, obrotowa.

Zewnętrzna powierzchnia przeciwelektrody jest gładka i, korzystnie, równoległa do powierzchni zewnętrznej elektrody wysokonapięciowej.

Zaletą urządzenia do usuwania zanieczyszczeń z płaskich materiałów izolacyjnych, za pomocą wyładowania koronowego według wynalazku, jest duża czystość wprowadzanego do jego wnętrza ośrodka gazowego, zapewniającego efektywne chłodzenie elektrod, skuteczne i równomierne usuwanie zanieczyszczeń i innych produktów gazowych powstających w czasie wyładowania koronowego, zwłaszcza ozonu, bez stosowania dodatkowych, najczęściej złożonych konstrukcyjnie, a więc i kosztownych układów, a także możliwość zainstalowania w nim różnego rodzaju elektrod i przeciwelektrod.

180 812

Urządzenie do usuwania zanieczyszczeń z płaskich materiałów izolacyjnych, za pomocą wyładowania koronowego według wynalazku jest w przykładzie rozwiązania konstrukcyjnego uwidocznione na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia urządzenie w widoku perspektywicznym, fig. 2 - urządzenie według fig. 1 z uwidocznionąprzeciwelektrodą, w widoku z góry, fig. 3 część urządzenia według fig. 2 z uwidocznionym rozkładem strumieni ośrodka gazowego w komorze wyładowania koronowego, w widoku z góry, a fig. 4 - wariant urządzenia według wynalazku.

Przedstawione przykładowo na fig. 1, 2 i 3 urządzenie 11 do usuwania zanieczyszczeń z płaskich materiałów izolacyjnych, za pomocą wyładowania koronowego, jest wyposażone w pięć elektrod wysokonapięciowych 12, połączonych za pomocą elementów połączeniowych 24 ze źródłem wysokiego napięcia (mającego potencjał o wartości wynoszącej przynajmniej 2 kV), orazwprzeciwelektrodę 13 (fig. 2), mającąpostać walca osadzonego obrotowo na osi 14 w pobliżu elektrod 12. Zewnętrzna powierzchnia przeciwelektrody 13 jest gładka i równoległa do powierzchni zewnętrznej elektrod wysokonapięciowych 12. Po zewnętrznej powierzchni 19 obracającej się przeciwelektrody 13 jest przesuwany w kierunku 17 i 18 podlegający oczyszczeniu płaski materiał izolacyjny 16.

W przestrzeni zawartej między znajdującymi się w komorze 22 elektrodami wysokonapięciowymi 12, a przeciwelektrodą 13, zachodzi wyładowanie koronowe 21 (fig. 3), przy czym minimalna odległość 54 powierzchni 19 przeciwelektrody 13 od powierzchni 20 elektrod 12 wynosi od 2 mm do 5 mm.

Elektrody wysokonapięciowe 12 sąumieszczone wewnątrz osłony 23 mającej kształt prostopadłościanu, otwartego od strony wyładowania koronowego 21, i rozmieszczone wzdłuż łuku o promieniu krzywizny, której środek pokrywa się z osią walcowej przeciwelektrody 13.

Tylna ścianka 26 osłony 23, znajdująca się po przeciwnej stronie elektrod wysokonapięciowych 12 niż przeciwelektrodą 13 (fig. 2), jest zaopatrzona w otwór wejściowy 27, służący do doprowadzania do wnętrza osłony 23 ośrodka gazowego, na przykład powietrza, azotu, helu, względnie mieszanin tych gazów. Wokół otworu wejściowego 27 są umieszczone przyłącza wysokonapięciowe 25 (fig. 2).

Do obydwu ścianek bocznych 42 osłony 23 są przymocowane układy odsysające 41 ze szczeliną wlotową 3 9, przez którą odprowadzany jest z wnętrza osłony 23 wytwarzany w trakcie wyładowania koronowego ośrodek gazowy. Podłużna oś 40 szczeliny wlotowej 39 (fig. 1) jest równoległa do osi elektrod wysokonapięciowych 12, a jej długość mierzona wzdłuż osi z, jest większa od długości tych elektrod 12, i jest przynajmniej równa szerokości oczyszczanego materiału izolacyjnego 16. Dzięki temu następuje skuteczne odsysanie wytwarzanego ośrodka gazowego, zawierającego na przykład ozon, oraz zanieczyszczenia w postaci pyłu.

Ośrodek gazowy jest doprowadzany do wnętrza osłony 23 za pomocą układu wprowadzającego, wyposażonego w przewód wejściowy 29 osadzony w otworze wejściowym 27 (fig. 2) o prześwicie regulowanym za pomocą przesuwanego wzdłuż osi y zespołu nastawnego 31, oraz w filtr 28, do filtrowania powietrza atmosferycznego służącego do schładzania elektrod wysokonapięciowych 12 i przepłukiwania komory 22 wyładowania koronowego 21. Filtr 28 wykonany z papieru, albo z węgla aktywowanego, jest wymienialny.

Ośrodek gazowy może być doprowadzony do wnętrza osłony 23 dzięki różnicy ciśnień ośrodka gazowego panujących w otworze wejściowym 27 (ciśnienie wyższe), i we wnętrzu tej osłony 23 (ciśnienie niższe). W tym przypadku, zamiast przewodu wejściowego 29 może być zastosowany króciec wyposażony w filtr 28.

Z obydwu stron otworu wejściowego 27 osłony 23 znajdują się prowadnice 33 ograniczające strumień 32 ośrodka gazowego, i kierującego go do elektrod wysokonapięciowych 12 i szczelin wlotowych 39 układów odsysających 41. Zapewnia to skuteczne i równomierne ochładzanie elektrod wysokonapięciowych 12, oraz efektywne usuwanie zanieczyszczeń. Strumień 32 ośrodka gazowego opływa elektrody 12, przy czym przepływ ten jest w zależności od potrzeb laminamy, albo turbulentny. Wektor prędkości v strumienia 32 ośrodka gazowego (fig. 3) ma składową xl skierowaną do środka przeciwelektrody 13, oraz drugą składową, prostopadłą do składowej xl i skierowaną do szczelin wlotowych 39, przez które ośrodek gazowy jest odprowa

180 812 dzany do układów odsysających 41. Układy odsysające 41 są osadzone przesuwnie w kierunku 35 osi x (fig. 3), dzięki czemu, możliwe jest jego optymalne ustawienie zapewniające najbardziej skuteczne odsysanie ośrodka gazowego z komory wyładowania koronowego urządzenia 11, w zależności od parametrów procesu i rodzaju oczyszczanego materiału izolacyjnego.

Układy odsysające 41 służą również do usuwania z komory wyładowania koronowego 21 zanieczyszczeń 43 (fig. 3), znajdujących się na oczyszczanym materiale izolacyjnym 16, gdyż skierowany na oś przeciwelektrody 13 strumień 32 ośrodka gazowego zapewnia efektywne odrywanie cząsteczek zanieczyszczeń od materiału izolacyjnego 16, i zapobiega osadzaniu się ich na elementach urządzenia (ze względu na laminamy przepływ ośrodka gazowego w pobliżu oczyszczanego materiału 16), zwłaszcza zaś na znajdujących się w obudowie elementach połączeniowych, oraz przyłączach wysokonapięciowych.

Wymiary i kształt szczelin wlotowych 39 każdego układu odsysającego 41 sąnastawiane w zależności od grubości i rodzaju oczyszczanego materiału izolacyjnego 16, a także od stopnia jego zanieczyszczenia, oraz od rodzaju zastosowanych elektrod wysokonapięciowych 12, odległości między elektrodami 12, a przeciwelektrodą 13, oraz od stężenia ozonu powstającego w czasie wyładowania koronowego.

Układy odsysające 41 sąw swej górnej części zaopatrzone w otwory wylotowe 46 (fig. 1) z gwintem 48, łączone nieuwidocznionymi na rysunku przewodami z przewodem wej ściowym 29, umożliwiając ponowne wprowadzenie do obiegu, po uprzednim przejściu przez filtr, adsorbery, absorbery i układy chłodzące ośrodka gazowego odprowadzanego z otworu wylotowego 46.

Kierunek 56 strumienia ośrodka gazowego na wejściu do otworu wlotowego 39 każdego z układów odsysających 41 (fig. 1) jest prostopadły do kierunku 57 strumienia ośrodka gazowego na wyjściu z otworu wylotowego 46, dzięki czemu, uzyskuje się równomierne odsysanie zanieczyszczeń na całej długości szczeliny wlotowej 39.

Urządzenie 11 według wynalazku może być wyposażone w kilka układów odsysających 41, umieszczonych po bokach komory 22 wyładowania koronowego 21, przy czym szczeliny wlotowe 39 mogą się znajdować zarówno poniżej, jak i powyżej obszaru wyładowania koronowego 21.

Zastosowanie przynajmniej dwóch układów odsysających 41, znajdujących się po przeciwnych stronach z boku komory 22 wyładowania koronowego 21, i zaopatrzonych w nastawne szczeliny wlotowe 39 ma tę zaletę, że jedna z tych szczelin, znajdująca się od strony wejścia do urządzenia 11 materiału izolacyjnego 16, jest wykorzystana do usuwania ozonu, natomiast druga - na wyjściu tego materiału 16 - do odprowadzania zanieczyszczeń.

Przedstawione na fig. 4 urządzenie 11 do usuwania zanieczyszczeń z płaskich materiałów izolacyjnych, za pomocą wyładowania koronowego, jest wyposażone w pięć elektrod wysokonapięciowych 12, w przeciwelektrodę 13 w postaci walca, w osłonę 23, w układ wprowadzający do jej wnętrza ośrodek gazowy z otworem wejściowym 27, i nasadzonym na niego filtrem 28. Ośrodek gazowy jest wprowadzany do wnętrza osłony 23 w obszarze przyłącza wysokonapięciowego 25 (na wejściu filtra 28), przy czym strumień ośrodka gazowego obejmuje elementy połączeniowe 24 i połączone z nimi elektrody wysokonapięciowe 12. Przestrzeń 34 przez którą przechodzą elementy połączeniowe 24 jest ograniczone prowadnicami 33 strumienia ośrodka gazowego. Ośrodek gazowy doprowadzony do przestrzeni 34 przez filtr 28 opływa elektrody wysokonapięciowe 12 (fig. 2 i 3) powodując ich chłodzenie.

Urządzenie to jest ponadto wyposażone w dwa układy odsysające 41, przymocowane do osłony 23, oraz oddzielone od jej wnętrza przez przegrody 49, stanowiące również prowadnice kierujące strumień ośrodka gazowego. Obydwa układy odsysające 41 są zaopatrzone w szczeliny wlotowe 39, znajdujące się z obydwu boków komory 22 wyładowania koronowego, przez które wprowadzany jest do nich ośrodek gazowy i zanieczyszczenia, odprowadzane następnie otworami wylotowymi 46, w taki sam sposób jak w urządzeniu według fig. 1, 2 i 3.

Urządzenie 11 według wynalazku jest wyposażone w obudowę 47 (fig. 2 i 4) zakrywającą osłonę 23, i stanowiącą jego konstrukcję nośną.

Odległość między elektrodami 12, a przeciwelektrodą 13 może być w tym urządzeniu odpowiednio zmieniona, przez przesunięcie osłony 23 łącznie z umieszczonymi w niej elektrodami

180 812 wysokonapięciowymi, elementami połączeniowymi, i układem wprowadzania i odsysania ośrodka gazowego względem przeciwelektrody 13.

Urządzenie 11 według wynalazku jest ponadto wyposażone w nieuwidocznione na rysunku wałki prowadzące taśmę oczyszczanego materiału izolacyjnego 16, w celu uzyskania stosunkowo małej odległości między przeciwelektrodą 13, a szczelinami wlotowymi 39 układów odsysających 41, oraz zapewnienia odpowiednio dużego natężenia przepływu ośrodka gazowego przez te szczeliny 39.

Wykaz oznaczeń urządzenie do usuwania zanieczyszczeń z płaskich materiałów izolacyjnych, za pomocą wyładowania koronowego elektrody wysokonapięciowe urządzenia 11 przeciwelektrodą urządzenia 11 oś przeciwelektrody 13 oczyszczany płaski materiał izolacyjny , 18 kierunek przesuwu płaskiego materiału izolacyjnego 16 zewnętrzna powierzchnia przeciwelektrody 13 powierzchnia elektrod 12 wyładowanie koronowe komora wyładowania koronowego 21 osłona urządzenia 11 elementy połączeniowe urządzenia 11, łączące elektrody 12 ze źródłem wysokiego napięcia przyłącza wysokonapięciowe urządzenia 11 tylna ścianka osłony 23 otwór wejściowy układu wprowadzającego do wnętrza osłony 23 ośrodek gazowy filtr układu wprowadzającego do wnętrza osłony 23 ośrodek gazowy przewód wejściowy układu wprowadzającego do wnętrza osłony 23 ośrodek gazowy układ nastawny otworu wejściowego 27 strumień ośrodka gazowego prowadnice ośrodka gazowego przestrzeń ograniczona prowadnicami 33 kierunek przesuwu układów odsysających szczeliny wlotowe układów odsysających podłużna oś szczeliny wlotowej 39 układy odsysające ośrodek gazowy urządzenia 11 ścianki boczne osłony 23 zanieczyszczenia otwory wylotowe układów odsysających 41 obudowa urządzenia 11 gwint otworów wylotowych 46 przegrody oddzielające układy odsysające od wnętrza osłony 23 odległość między elektrodami 12, a przeciwelektrodą 13 kierunek strumienia ośrodka gazowego na wejściu szczeliny wlotowej 39 kierunek strumienia ośrodka gazowego na wyjściu otworu wylotowego 46 v wektor prędkości strumienia ośrodka gazowego xl składowa wektora prędkości v x, y, z osie kartezjańskiego układu współrzędnych

180 812

25 27 28

Fig.4

180 812 μ-32

180 812

Departament Wydawnictw UP RP. Nakład 70 egz. Cena 4,00 zł.

Claims

Zastrzeżenia patentowe

1. Urządzenie do usuwania zanieczyszczeń z płaskich materiałów izolacyjnych, za pomocą wyładowania koronowego, wyposażone w obudowę z osłoną, w której znajduje się przynajmniej jedna elektroda, połączona ze źródłem wysokiego napięcia, oraz w jej pobliżu przynajmniej jedna walcowa przeciwelektroda, po powierzchni której przesuwany jest przez obszar wyładowania koronowego płaski materiał izolacyjny, a ponadto przynajmniej w jeden układ wprowadzający do wnętrza osłony ośrodek gazowy, przy czym składowa wektora prędkości strumienia ośrodka gazowego jest skierowana do przeciwelektrody, oraz przynajmniej w dwa układy odsysające ośrodek gazowy z wnętrza osłony, znamienne tym, że jego układy odsysające (41), odprowadzające z wnętrza osłony (23) ośrodek gazowy, z których jeden znajduje się po stronie wejścia płaskiego materiału izolacyjnego (16) do komory (22) wyładowania koronowego (21) zachodzącego między elektrodą wysokonapięciową (12) a przeciwelektrodą(13), zaś drugi - po stronie wyjścia tego materiału izolacyjnego (16) z komory (22) wyładowania koronowego (21), są osadzone przesuwnie względem osłony (23).
2. Urządzenie według zastrz. 1, znamienne tym, że ciśnienie ośrodka gazowego w obszarze wyładowania koronowego (21) między elektrodą wysokonapięciową (12), a przeciwelektrodą (13) jest niższe od jego ciśnienia w otworze wejściowym układu wprowadzającego ten ośrodek do wnętrza osłony (23), w obszarze którego znajdują się elementy połączeniowe (24).
3. Urządzenie według zastrz. 1, znamienne tym, że przynajmniej jeden układ odsysający (41) ośrodek gazowy z wnętrza osłony (23) jest zaopatrzony w szczelinę wlotową(39), znajdującąsię z boku obszaru wyładowania koronowego (21).
4. Urządzenie według zastrz. 3, znamienne tym, że podłużna oś (40) szczeliny wlotowej (39) układu odsysającego (41) jest równoległa do podłużnej osi elektrody wysokonapięciowej (12).
5. Urządzenie według zastrz. 3, znamienne tym, że długość szczeliny wlotowej (39) układu odsysającego (41) jest przynajmniej równa długości elektrody wysokonapięciowej (12), oraz szerokości oczyszczanego płaskiego materiału izolacyjnego (16).
6. Urządzenie według zastrz. 3 albo 4, albo 5, znamienne tym, że kierunek (56) strumienia ośrodka gazowego na wejściu szczeliny wlotowej (39) układu odsysającego (41) jest w przybliżeniu prostopadły do kierunku (57) strumienia ośrodka gazowego na wyjściu otworu wylotowego (46) tego układu odsysającego (41).
7. Urządzenie według zastrz. 3, znamienne tym, że położenie i wymiary szczeliny wlotowej (39) przynajmniej jednego układu odsysającego (41) są nastawne.
8. Urządzenie według zastrz. 1, znamienne tym, że jego obydwa układy odsysające (41), usuwające z wnętrza osłony (23) ośrodek gazowy są zwierciadlanie symetryczne.
9. Urządzenie według zastrz. 1, znamienne tym, że jego osłona (23) jest na swej tylnej ściance (26) wyposażona w układ wprowadzający do jej wnętrza ośrodek gazowy, zaopatrzony w otwór wejściowy (27).
10. Urządzenie według zastrz. 9, znamienne tym, że układ wprowadzający do wnętrza osłony (23) ośrodek gazowy jest wyposażony w filtr (28), osadzony w otworze wejściowym (27) tego układu.
11. Urządzenie według zastrz. 9, znamienne tym, że otwór wejściowy (27) układu wprowadzającego do wnętrza osłony (23) ośrodek gazowy jest zaopatrzony w zespół nastawny (31) do zmiany jego wymiarów.

180 812
12. Urządzenie według zastrz. 9, znamienne tym, że układ wprowadzający do wnętrza osłony (23) ośrodek gazowy jest wyposażony w przewód wejściowy (29), osadzony w otworze wejściowym (27) tego układu.
13. Urządzenie według zastrz. 1, znamienne tym, że j est wyposażone w elementy w postaci prowadnic (33) kierujących strumień ośrodka gazowego na elektrodę wysokonapięciową (12) i znajdujące się wewnątrz osłony (23).
14. Urządzenie według zastrz. 1, znamienne tym, że j est wyposażone w elementy w postaci przegród (49) kierujących strumień ośrodka gazowego z wnętrza osłony (23) i znajdujących się wewnątrz układów odsysających (41).
15. Urządzenie według zastrz. 1, znamienne tym, że źródło wysokiego napięcia zasilające elektrodę wysokonapięciową (12) ma potencjał o wartości wynoszącej przynajmniej 2 kV.
16. Urządzenie według zastrz. 1, znamienne tym, że minimalna odległość (54) między elektrodą wysokonapięciową (12), a przeciwelektrodą (13) wynosi nie więcej niż 5 mm.
17. Urządzenie według zastrz. 1, znamienne tym, że jego układy odsysające (41) są na wyjściu połączone z wejściem układu wprowadzającego do wnętrza osłony (23) ośrodek gazowy, tworząc zamknięty obieg ośrodka gazowego.
18. Urządzenie według zastrz. 17, znamienne tym, że w zamknięty obieg ośrodka gazowego jest włączony filtr i układ chłodzący.
19. Urządzenie według zastrz. 1, znamienne tym, że jest wyposażone przynajmniej w dwie, a korzystnie w pięć elektrod wysokonapięciowych (12).
20. Urządzenie według zastrz. 1, znamienne tym, że jego walcowa przeciwelektrodą (13) jest obrotowa.
21. Urządzenie według zastrz. 1, znamienne tym, że zewnętrzna powierzchnia (19) przeciwelektrody (13) jest gładka i równoległa do powierzchni zewnętrznej (20) elektrody wysokonapięciowej (12).

* * *