PL185590B1 - Sposób czyszczenia powierzchni filtracyjnej i urządzenie do czyszczenia powierzchni filtracyjnej - Google Patents

Sposób czyszczenia powierzchni filtracyjnej i urządzenie do czyszczenia powierzchni filtracyjnej

Info

Publication number
PL185590B1
PL185590B1 PL97332852A PL33285297A PL185590B1 PL 185590 B1 PL185590 B1 PL 185590B1 PL 97332852 A PL97332852 A PL 97332852A PL 33285297 A PL33285297 A PL 33285297A PL 185590 B1 PL185590 B1 PL 185590B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
cleaning
cleaned
filter
ultrasound
sludge
Prior art date
Application number
PL97332852A
Other languages
English (en)
Other versions
PL332852A1 (en
Inventor
Timo Tuori
Hannu Sekki
Jorma Ihalainen
Pentti Pirkonen
Hannu Mursunen
Original Assignee
Outokumpu Oy
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Outokumpu Oy filed Critical Outokumpu Oy
Publication of PL332852A1 publication Critical patent/PL332852A1/xx
Publication of PL185590B1 publication Critical patent/PL185590B1/pl

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D29/00Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor
    • B01D29/11Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor with bag, cage, hose, tube, sleeve or like filtering elements
    • B01D29/114Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor with bag, cage, hose, tube, sleeve or like filtering elements arranged for inward flow filtration
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D33/00Filters with filtering elements which move during the filtering operation
    • B01D33/44Regenerating the filter material in the filter
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D29/00Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor
    • B01D29/62Regenerating the filter material in the filter
    • B01D29/64Regenerating the filter material in the filter by scrapers, brushes, nozzles, or the like, acting on the cake side of the filtering element
    • B01D29/6438Regenerating the filter material in the filter by scrapers, brushes, nozzles, or the like, acting on the cake side of the filtering element nozzles
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D29/00Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor
    • B01D29/62Regenerating the filter material in the filter
    • B01D29/70Regenerating the filter material in the filter by forces created by movement of the filter element
    • B01D29/72Regenerating the filter material in the filter by forces created by movement of the filter element involving vibrations
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D33/00Filters with filtering elements which move during the filtering operation
    • B01D33/15Filters with filtering elements which move during the filtering operation with rotary plane filtering surfaces
    • B01D33/21Filters with filtering elements which move during the filtering operation with rotary plane filtering surfaces with hollow filtering discs transversely mounted on a hollow rotary shaft
    • B01D33/23Construction of discs or component sectors thereof
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D33/00Filters with filtering elements which move during the filtering operation
    • B01D33/44Regenerating the filter material in the filter
    • B01D33/46Regenerating the filter material in the filter by scrapers, brushes nozzles or the like acting on the cake-side of the filtering element
    • B01D33/466Regenerating the filter material in the filter by scrapers, brushes nozzles or the like acting on the cake-side of the filtering element scrapers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D33/00Filters with filtering elements which move during the filtering operation
    • B01D33/44Regenerating the filter material in the filter
    • B01D33/52Regenerating the filter material in the filter by forces created by movement of the filter element
    • B01D33/54Regenerating the filter material in the filter by forces created by movement of the filter element involving vibrations
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2201/00Details relating to filtering apparatus
    • B01D2201/28Position of the filtering element
    • B01D2201/282Filtering elements with a horizontal rotation or symmetry axis

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Filtration Of Liquid (AREA)
  • Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)
  • Treatment Of Sludge (AREA)
  • Drying Of Solid Materials (AREA)
  • Cleaning In General (AREA)

Abstract

1 . Sposób czyszczenia powierzchni filtracyjnej materialu filtracyjnego w suszarce ssacej, sluzacej do suszenia szlamu, które przeprowadza sie w zamknietej przestrzeni czyszczenia za pomoca ultradzwieków wytwa- rzanych w jednostce czyszczacej, których wiazki skupia sie na czyszczonej powierzchni, znamienny tym, ze jednostke czyszczaca (7) przemieszcza sie za pomoca srodków przemieszczajacych (10) stykajac jej czyszczaca powierzchnie uszczelniajaca (4) z czyszczona powierzch- nia filtracyjna (2, 3), zas do zamknietej przestrzeni czysz- czenia, która jest odseparowana od przestrzeni wypelnio- nej szlamem, wprowadza sie plyn czyszczacy. 2. Urzadzenie do czyszczenia powierzchni filtra- cyjnej materialu filtracyjnego w suszarce ssacej sluzacej do suszenia szlamu, zaopatrzone w jednostke czyszczaca zawierajaca przynajmniej jedno zródlo ultradzwieków, znamienne tym, ze jednostka czyszczaca (7), zaopatrzona w otwory (8, 9) doprowadzajace i odprowadzajace plyn czyszczacy, posiada srodki przemieszczajace (10) umoz- liwiajace umieszczenie jednostki czyszczacej (7) na czyszczonej powierzchni filtracyjnej (2, 3) tak, ze ograni- cza ona zamknieta przestrzen, odseparowana od przestrze- ni wypelnionej szlamem. FIG 1 PL PL PL

Description

Przedmiotem wynalazku jest sposób i urządzenie do czyszczenia powierzchni filtracyjnej materiału filtracyjnego w suszarce ssącej, w procesie zasadniczo ciągłym.
W opisie patentowym FI 61739 opisano sposób i urządzenie do suszenia materiału, który może być tkaniną, może być w postaci sproszkowanej, bądź też w postaci stałej, ewentualnie może być porowaty. Zgodnie z tym sposobem materiał, który ma zostać osuszony, kontaktuje się hydraulicznie za pośrednictwem powierzchni ssącej o drobnych porach, nasyconej cieczą, z płynem, w którym w porównaniu z osuszanym materiałem panuje podciśnienie. Urządzenie wykorzystywane w tym rozwiązaniu zawiera powierzchnię ssącą o drobnych porach, których promienie mieszczą się zwykle w przedziale 0,5-2 mikrometrów.
Powierzchnia ssąca o drobnych porach tworzy powierzchnię filtracyjną materiału filtracyjnego w suszarce ssącej. Powierzchnia ta styka się z suszonym materiałem, takim jak szlam. Jeśli powierzchnia filtracyjna jest płaszczyzną, zaś na przeciwległej powierzchni materiału filtracyjnego wytwarzane jest podciśnienie, w wyniku ssania na powierzchni filtracyjnej tworzy się zbita warstwa materiału poddawanego suszeniu, którą to warstwę należy następnie zeskrobać z powierzchni filtracyjnej. Jednakże powierzchnia filtracyjna może utracić drożność ze względu na to, że porowata struktura tej powierzchni, a przez to i całego materiału filtracyjnego zapełnia się stopniowo suszonym materiałem.
Ze stanu techniki znany jest sposób, zgodnie z którym powierzchnię filtracyjną materiału filtracyjnego w suszarce ssącej czyści się z pomocą ultradźwięków. Sposób ten został ujawniony w opisie patentowym FI 76705. W trakcie procesu czyszczenia ultradźwiękami
185 590 powierzchnia filtracyjna styka się z płynem czyszczącym, którym np. jest woda. W tym przypadku, ponieważ powierzchnia filtracyjna otoczona jest przez wodę, wymagane natężenie ultradźwięków nie jest zbyt wysokie, a ponadto wyeliminowane jest ryzyko wystąpienia korozji spowodowanej przez kawitację. Jednakże zmiana ośrodka otaczającego powierzchnię filtrac^yjn^ zmniejsza wydajność suszarki ssącej, zwiększając przy tym koszty instalacji i użytkowania takiej suszarki.
W opisie patentowym FI 82388 opisano sposób czyszczenia materiału filtracyjnego w suszarce ssącej, zgodnie z którym czyszczenie za pomocą oscylatora ultradźwięków odbywa się zasadniczo bezpośrednio po oskrobaniu materiału filtracyjnego. Zgodnie z tym sposobem oscylator taki umieszczony jest w pojemniku ze szlamem, który ma zostać poddany filtracji, pod powierzchnią cieczy, co pozwala na przeprowadzenie czyszczenia materiału filtracyjnego w trakcie działania suszarki. Wyższa zawartość substancji stałych w szlamie wymaga wykorzystania ultradźwięków o wyższym natężeniu. Szlam taki powoduje występowanie korozji na powierzchni oscylatora ze względu na intensywną kawitację. Wzrost natężenia ultradźwięków, jak również zmiana powłoki oscylatora wiąże się ze wzrostem kosztów eksploatacji suszarki ssącej tego rodzaju.
W dokumencie US 3707230 opisano sposób i urządzenie do usuwania substancji stałej z filtra. W tym przypadku ultrasonograficzny przetwornik umieszcza się w zamkniętej przestrzeni, która styka się z filtrowanym medium wyznaczając obszar czyszczenia. Energia ultradźwięków skupiona jest na czyszczonej powierzchni. Płyn czyszczący, którym jest sam płyn czyszczony, wprowadzany jest do zamkniętej przestrzeni.
Celem niniejszego wynalazku jest wyeliminowanie niekorzystnych cech rozwiązań znanych ze stanu techniki oraz przedstawienie udoskonalonego i mniej skomplikowanego w realizacji sposobu i urządzenia do czyszczenia powierzchni filtracyjnej materiału filtracyjnego w suszarce ssącej.
Sposób czyszczenia powierzchni filtracyjnej materiału filtracyjnego w suszarce ssącej, służącej do suszenia szlamu, które przeprowadza się w zamkniętej przestrzeni czyszczenia za pomocą ultradźwięków wytwarzanych w jednostce czyszczącej, których wiązki skupia się na czyszczonej powierzchni, według wynalazku charakteryzuje się tym, że jednostkę czyszczącą przemieszcza się za pomocą środków przemieszczających stykając jej powierzchnię czyszczącą z czyszczoną powierzchnią filtracyjną, zaś do zamkniętej przestrzeni czyszczenia, która jest odseparowana od przestrzeni wypełnionej szlamem, wprowadza się płyn czyszczący.
Urządzenie do czyszczenia powierzchni filtracyjnej materiału filtracyjnego w suszarce ssącej służącej do suszenia szlamu, zaopatrzone w jednostkę czyszczącą zawierającą przynajmniej jedno źródło ultradźwięków, według wynalazku charakteryzuje się tym, że jednostka czyszcząca, zaopatrzona w otwory doprowadzające i odprowadzające płyn czyszczący, posiada środki przemieszczające, które umożliwiają umieszczenie jednostki czyszczącej na czyszczonej powierzchni filtracyjnej tak, że ogranicza ona zamkniętą przestrzeń, odseparowaną od przestrzeni wypełnionej szlamem.
Korzystnie, przynajmniej powierzchnia czyszcząca jednostki czyszczącej, stykająca się czyszczoną powierzchnią filtracyjną, wykonana jest ze sprężystego materiału.
Źródło ultradźwięków korzystnie zainstalowane jest tak, że wiązki ultradźwięków skierowane są na czyszczoną powierzchnię.
Odległość źródła ultradźwięków od czyszczonej powierzchni może być regulowana.
Zaletą urządzenia według wynalazku jest to, że umożliwia ono nieprzerwane działanie a jednostka czyszcząca wykorzystująca ultradźwięki umieszczona jest nad powierzchnią szlamu. Upraszcza to konstrukcję urządzenia i ułatwia jego konserwację.
W trakcie cyklu czyszczenia do przestrzeni czyszczenia wprowadza się płyn czyszczący, którym, w zależności od rodzaju oczyszczonej powierzchni i od zgromadzonego na niej materiału, jest przykładowo woda, kwas, ciecz używana zazwyczaj do czyszczenia, czynnik pomocniczy wpływający wspomagająco na efekt czyszczenia lub też mieszanina powyższych cieczy. Po zakończeniu cyklu czyszczenia, jednostka czyszcząca, która jest ruchomą, może być utrzymywana w pewnej odległości od powierzchni filtracyjnej poddawanej czyszczeniu.
185 590
Źródło ultradźwięków obejmuje jeden lub więcej nadajników ultradźwięków, które można umieścić równolegle do siebie lub też w taki sposób, by promieniowanie ultradźwiękowe było skupione. Skupienie wiązki ultradźwięków możliwe jest także w przypadku zastosowania jednego nadajnika.
W celu wyznaczenia przestrzeni czyszczenia korzystne jest umieszczenie wokół źródła ultradźwięków powierzchni uszczelniającej wykonanej na przykład z materiału sprężystego, która to powierzchnia uszczelniająca może się stykać z czyszczoną powierzchnią. Powierzchnia uszczelniająca może być zaprojektowana w taki sposób, by wyznaczała właściwy obszar do przeprowadzenia procesu czyszczenia powierzchni, lub też w taki sposób, by jednocześnie wyznaczała całkowitą powierzchnię, która ma zostać oczyszczona. Co więcej, za pomocą powierzchni uszczelniającej wykonanej ze sprężystego materiału można regulować odległość między źródłem ultradźwięków a czyszczoną powierzchnią. Urządzenie będące przedmiotem niniejszego wynalazku wykorzystywać też można bez źródła ultradźwięków, w którym to przypadku element do wyznaczania całkowitej przestrzeni czyszczenia może być wykonany przykładowo z materiału sprężystego.
Korzystne jest, by w trakcie cyklu czyszczenia przestrzeń czyszczenia ograniczona była powierzchnią ochronną, której jedna ścianka umieszczona jest przed źródłem ultradźwięków, i by powierzchnia czyszczona umieszczona była naprzeciw owej ścianki. Te dwie ścianki przestrzeni czyszczenia łączą się ze sobą za pośrednictwem powierzchni uszczelniającej wykonanej z materiału sprężystego, a ponadto przymocowane są do powierzchni ochronnej źródła ultradźwięków lub też wokół tej powierzchni.
W przypadku zaistnienia potrzeby wyczyszczenia powierzchni filtracyjnej składającej się z powierzchni filtracyjnych znajdujących się po przeciwnych stronach materiału filtracyjnego, przestrzeń czyszczenia według wynalazku powstaje korzystnie dla obu powierzchni jednocześnie, zaś materiał filtracyjny czyszczony jest po obu stronach. Tym samym powierzchnię poddawaną czyszczeniu można zmieniać, a czyszczenie nowej powierzchni filtracyjnej lub obszaru powierzchni filtracyjnej może się rozpocząć po obu stronach jednocześnie.
Ze względu na to, że zgodnie z niniejszym wynalazkiem źródło ultradźwięków znajduje się poza przestrzenią wypełnioną szlamem zawierającym cząsteczki stałe, które są odfiltrowywane, obudowa źródła ultradźwięków być może wykonana z tańszego materiału. Jest to możliwe z uwagi na to, że pozostałe ścianki obudowy źródła ultradźwięków - oprócz powierzchni ochronnej umieszczonej najbliżej powierzchni poddawanej czyszczeniu - winny być jedynie zabezpieczone przed pyłem i opryskaniem. Prosta konstrukcja takiej obudowy również ułatwia konserwację i naprawę źródła ultradźwięków.
Zaletą sposobu według wynalazku jest również możliwość dopasowywania wielkości obszaru poddawanego czyszczeniu. Istnieje też możliwość efektywnego wykorzystania pojemności przestrzeni czyszczenia, jako że płyn czyszczący doprowadzany jest bezpośrednio do owej przestrzeni, zaś po oczyszczeniu powierzchni filtracyjnej odprowadzany jest do zbiornika, w którym zostanie oczyszczony i powtórnie wprowadzony do obiegu. Dzięki temu zapotrzebowanie na odpowiedni płyn czyszczący jest stosunkowo niewielkie. Proces czyszczenia odbywać się przy tym może w czasie ciągłego procesu. Istnieje możliwość niezakłócania procesu produkcji, jako że czyszczenie odbywa się całkowicie niezależnie od tworzenia się zbitej masy na filtrze suszarki ssącej, usuwania wody i masy zbitej na powierzchni filtracyjnej.
Przedmiot wynalazku został przedstawiony w przykładzie wykonania na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia schematycznie urządzenie według wynalazku w trakcie trwania cyklu czyszczenia powierzchni filtracyjnej; fig. 2 przedstawia schematyczny przekrój poprzeczny przez urządzenie z fig. 1 zainstalowane w suszarce ssącej.
Jak widać na fig. 1, po przeciwnych stronach A i B materiału filtracyjnego 1 znajdują się czyszczone powierzchnie filtracyjne 2 i 3, z którymi stykają się czyszczące powierzchnie uszczelniające 4, które wyznaczają przestrzeń czyszczenia i wykonane są z materiału sprężystego. Powierzchnie uszczelniające 4 wchodzą w skład elementów uszczelniających 5, które umocowane są wokół źródeł ultradźwięków 6. Element uszczelniający 5 i źródło ultradźwięków 6 tworzą wspólnie jednostkę czyszczącą 7 wykorzystywaną do czyszczenia. W elemen185 590 tach uszczelniających 5 po ich przeciwnych stronach znajdują, się otwory 8 i 9 do napełniania i usuwania płynu czyszczącego. W jednostce czyszczącej 7 zainstalowano środki 10 przemieszczające jednostkę czyszczącą 7 między pozycją czyszczenia a pozycją spoczynku. Za pomocą środków 10 można ustawić odległość między źródłami ultradźwięków 6 a czyszczonymi powierzchniami filtracyjnymi 2 i 3.
Na figurze 2 suszarka ssąca 11 obejmuje pojemnik 12 na szlam, tarczę 14 obracaną wokół osi 13, do której to tarczy przymocowane są materiał filtracyjny 15 i jego powierzchnia filtracyjna 2, element do zdrapywania 16 zbitej warstwy na powierzchni filtracyjnej 2. Umieszczona wewnątrz jednostka czyszcząca 7 i źródła ultradźwięków 6 znajdują się powyżej powierzchni szlamu 19, w pewnej odległości od przestrzeni 18 wypełnionej szlamem.
185 590
Departament Wydawnictw UP RP. Nakład 50 egz.
Cena 2,00 zł.

Claims (5)

Zastrzeżenia patentowe
1. Sposób czyszczenia powierzchni filtracyjnej materiału filtracyjnego w suszarce ssącej, służącej do suszenia szlamu, które przeprowadza się w zamkniętej przestrzeni czyszczenia za pomocą ultradźwięków wytwarzanych w jednostce czyszczącej, których wiązki skupia się na czyszczonej powierzchni, znamienny tym, że jednostkę czyszczącą (7) przemieszcza się za pomocą środków przemieszczających (10) stykając jej czyszczącą powierzchnię uszczelniającą (4) z czyszczoną powierzchnią filtracyjną (2,3), zaś do zamkniętej przestrzeni czyszczenia, która jest odseparowana od przestrzeni wypełnionej szlamem, wprowadza się płyn czyszczący.
2. Urządzenie do czyszczenia powierzchni filtracyjnej materiału filtracyjnego w suszarce ssącej służącej do suszenia szlamu, zaopatrzone w jednostkę czyszczącą zawieraj ącą przynajmniej jedno źródło ultradźwięków, znamienne tym, że jednostka czyszcząca (7), zaopatrzona w otwory (8, 9) doprowadzające i odprowadzające płyn czyszczący, posiada środki przemieszczające (10) umożliwiające umieszczenie jednostki czyszczącej (7) na czyszczonej powierzchni filtracyjnej (2, 3) tak, że ogranicza ona zamkniętą przestrzeń, odseparowaną od przestrzeni wypełnionej szlamem.
3. Urządzenie według zastrz. 2, znamienne tym, że przynajmniej czyszcząca powierzchnia uszczelniająca (4) jednostki czyszczącej (7) stykająca się czyszczoną powierzchnią filtracyjną (2, 3), wykonana jest ze sprężystego materiału.
4. Urządzenie według zastrz. 2 lub 3, znamienne tym, że źródło ultradźwięków (6) zainstalowane jest tak, że wiązki ultradźwięków skierowane są na czyszczoną powierzchnię filtracyjną (2, 3).
5. Urządzenie według zastrz. 2 lub 3, znamienne tym, że odległość źródła ultradźwięków (6) od czyszczonej powierzchni filtracyjnej (2,3) jest regulowana.
PL97332852A 1996-10-17 1997-10-09 Sposób czyszczenia powierzchni filtracyjnej i urządzenie do czyszczenia powierzchni filtracyjnej PL185590B1 (pl)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FI964169A FI104412B (fi) 1996-10-17 1996-10-17 Menetelmä ja laitteisto suodinpinnan puhdistamiseksi
PCT/FI1997/000617 WO1998017370A1 (en) 1996-10-17 1997-10-09 Method and apparatus for cleaning a filter surface

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL332852A1 PL332852A1 (en) 1999-10-25
PL185590B1 true PL185590B1 (pl) 2003-06-30

Family

ID=8546891

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL97332852A PL185590B1 (pl) 1996-10-17 1997-10-09 Sposób czyszczenia powierzchni filtracyjnej i urządzenie do czyszczenia powierzchni filtracyjnej

Country Status (18)

Country Link
US (2) US6217782B1 (pl)
EP (1) EP0951330B1 (pl)
JP (1) JP2001502235A (pl)
KR (1) KR100466913B1 (pl)
CN (1) CN1117598C (pl)
AR (1) AR011255A1 (pl)
AT (1) ATE262368T1 (pl)
AU (1) AU729416B2 (pl)
BR (1) BR9711950A (pl)
CA (1) CA2268714A1 (pl)
DE (1) DE69728291T2 (pl)
ES (1) ES2217430T3 (pl)
FI (1) FI104412B (pl)
PE (1) PE5099A1 (pl)
PL (1) PL185590B1 (pl)
RU (1) RU2189270C2 (pl)
WO (1) WO1998017370A1 (pl)
ZA (1) ZA979129B (pl)

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6843914B2 (en) * 2001-12-13 2005-01-18 Julius James Jablonsky Filtration apparatus and process
RU2223136C1 (ru) * 2003-03-06 2004-02-10 Общество с ограниченной ответственностью "Фирма ИНСТЭКО" Установка для получения фильтрованного осадка из суспензии, способ регенерации поверхности ее фильтрующего элемента и устройство для его осуществления
BRPI0807930A2 (pt) * 2007-02-14 2014-07-01 Dxv Water Technologies Llc Sistemas de filtração, de tratamento de água, de passagem dupla para a dessalinização da água e métodos de tratamento de água, de fabrico de módulo de tratamento de água e de transporte de água
PL1961475T3 (pl) * 2007-02-21 2020-11-16 Veolia Water Solutions & Technologies Support Urządzenie do czyszczenia wysokociśnieniowego
DE102009056726B4 (de) * 2009-12-04 2012-02-02 Khs Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Aufbereitung von im Zuge einer Behälterreinigung anfallender Prozessflüssigkeit
WO2011097403A1 (en) 2010-02-04 2011-08-11 Dxv Water Technologies, Llc Water treatment systems and methods
CN101810961A (zh) * 2010-03-11 2010-08-25 云南大红山管道有限公司 一种陶瓷过滤机的清洗方法
SG190715A1 (en) 2010-12-02 2013-07-31 Amiad Water Systems Ltd Self cleaning filter system
US8911552B2 (en) * 2011-08-12 2014-12-16 Wafertech, Llc Use of acoustic waves for purging filters in semiconductor manufacturing equipment
FI123557B (fi) * 2012-02-06 2013-07-15 Andritz Oy Menetelmä ja laite kiekkosuotimen esipäällystekerroksen ohentamiseksi
FI124273B (fi) * 2012-02-06 2014-05-30 Andritz Oy Menetelmä ja laite pyörivän suotimen esipäällystekerroksen poistamiseksi
US8679335B1 (en) * 2012-12-21 2014-03-25 Saniprotex Inc. Vehicle-mounted vacuum system and method of separating liquid and solids fractions of a sludge-like mixture inside a container
CN103394486B (zh) * 2013-07-30 2015-12-02 广州甘蔗糖业研究所 一种聚焦超声波在线防垢除垢装置
US10513446B2 (en) 2014-10-10 2019-12-24 EcoDesal, LLC Depth exposed membrane for water extraction
CN104524843B (zh) * 2015-01-01 2016-02-03 湖南东祥油脂有限公司 一种脱色过滤机滤网洗涤方法
US10729994B2 (en) * 2015-12-03 2020-08-04 Veolia Water Solutions & Technologies Support Rotary disc filter
CN108201776B (zh) * 2018-02-10 2024-04-05 张孝亮 一种超声波防粘结装置
FI127838B (en) * 2018-03-08 2019-03-29 Sofi Filtration Oy A method of cleaning a filter element and a filtering device
JP7033248B2 (ja) * 2018-11-05 2022-03-10 株式会社石垣 フィルタープレスのろ布洗浄方法
US11000791B2 (en) * 2019-03-06 2021-05-11 Veolia Water Solutions & Technologies Support Rotary disc filter having backwash guides
KR102183820B1 (ko) * 2020-03-10 2020-11-30 주식회사 그레넥스 섬유상 여과기의 역세정 흡입장치
CN115108659B (zh) * 2022-06-30 2024-05-28 浦华控股有限公司 过滤及反洗装置
CN116809518A (zh) * 2023-06-08 2023-09-29 国网河北省电力有限公司保定供电分公司 一种变压器套管线夹的超声清洁装置

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3707230A (en) * 1970-08-20 1972-12-26 Fmc Corp Method and apparatus for ultrasonically clarifying liquid
DE2605384C3 (de) * 1976-02-26 1981-04-30 Penzenskij zavod chimičeskogo mašinostroenija, Penza Flüssigkeitsfilter
FI61739C (fi) 1980-07-01 1982-09-10 Valmet Oy Torkningsfoerfarande och anordning
US4388938A (en) * 1981-05-11 1983-06-21 Ingersoll-Rand Company Filter cleaning apparatus
FI76705C (fi) * 1987-04-16 1988-12-12 Valmet Paper Machinery Inc Foerfarande foer rengoering av filterplattor foer sugtorkanordning.
FI82388C (fi) * 1989-06-29 1991-03-11 Outokumpu Oy Foerfarande foer rening av filterplattorna i en sugtorkningsanordning.
US5151186A (en) * 1990-05-21 1992-09-29 Skc Limited Method for cleaning filter disks and system therefor
ES2077309T3 (es) * 1991-07-31 1995-11-16 Tonne Hansjochen E Dipl Ing Dispositivo y procedimiento para el filtrado de particulas solidas a partir de liquidos.
FI95781C (fi) * 1994-04-19 1996-03-25 Outokumpu Mintec Oy Menetelmä ja laitteisto imukuivainlaitteen suodatinväliaineen puhdistamiseksi

Also Published As

Publication number Publication date
ZA979129B (en) 1998-05-11
ATE262368T1 (de) 2004-04-15
WO1998017370A1 (en) 1998-04-30
AR011255A1 (es) 2000-08-16
US6217782B1 (en) 2001-04-17
PL332852A1 (en) 1999-10-25
JP2001502235A (ja) 2001-02-20
EP0951330A1 (en) 1999-10-27
CN1233970A (zh) 1999-11-03
CN1117598C (zh) 2003-08-13
KR100466913B1 (ko) 2005-01-24
FI104412B (fi) 2000-01-31
FI964169A0 (fi) 1996-10-17
DE69728291D1 (de) 2004-04-29
AU4558597A (en) 1998-05-15
PE5099A1 (es) 1999-02-12
RU2189270C2 (ru) 2002-09-20
EP0951330B1 (en) 2004-03-24
FI964169L (fi) 1998-04-18
AU729416B2 (en) 2001-02-01
DE69728291T2 (de) 2004-08-26
ES2217430T3 (es) 2004-11-01
BR9711950A (pt) 1999-09-21
CA2268714A1 (en) 1998-04-30
US6284136B1 (en) 2001-09-04
KR20000049193A (ko) 2000-07-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
PL185590B1 (pl) Sposób czyszczenia powierzchni filtracyjnej i urządzenie do czyszczenia powierzchni filtracyjnej
AU603880B2 (en) Method for the cleaning of the filter plates in a suction dryer
CA2019113A1 (en) Method for cleaning the filter plates of a suction drier
FI90500C (fi) Ennaltamäärättyä suurikokoisemman hienojakoisen aineen poistoon tarkoitettu vedenselkeytyslaitteisto
KR100338863B1 (ko) 흡입건조기의필터매체청정방법및장치
RU99110383A (ru) Способ и устройство для очистки фильтрующей поверхности
CA2769731A1 (en) Liquid extraction filter and method for cleaning it
RU2160147C2 (ru) Вращающийся водоотделитель барабанного типа и устройство для создания вакуума
RU2221203C2 (ru) Способ сушки материалов
JP2795581B2 (ja) クーラント濾過装置
MXPA99003599A (en) Method and apparatus for cleaning a filter surface
RU2155628C2 (ru) Всасывающая сушилка
RU2215955C2 (ru) Способ сушки материалов
KR100437552B1 (ko) 매체를고체함유성분과액체성분으로분리하기위한방법및장치
RU2077921C1 (ru) Патронный фильтр
SU1110473A1 (ru) Фильтр дл очистки воды
SU1595978A1 (ru) Устройство дл обработки волокнистой суспензии жидким реагентом
SU731238A1 (ru) Вибросушилка дл мелкодисперсных материалов
RU97120925A (ru) Способ и устройство для разделения среды на содержащую твердое вещество и на жидкую составляющую
JPH0615119A (ja) 濾過機及びそれを用いた濾別方法
JPH0824811B2 (ja) 超音波濾過装置

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Decisions on the lapse of the protection rights

Effective date: 20051009