PL187003B1

PL187003B1 - Urządzenie do obróbki gazu spalinowego

Info

Publication number: PL187003B1
Application number: PL96317700A
Authority: PL
Inventors: Kyozo Suyama; Hiroshi Suzumura; Yasuyuki Ogushi; Naohiko Ukawa; Masao Hino; Koosoo Tao; Nobuo Kojima; Kiyoshi Okazoe
Original assignee: Mitsubishi Heavy Ind Ltd; Mitsubishi Jukogyo Kk
Priority date: 1995-12-26
Filing date: 1996-12-23
Publication date: 2004-04-30
Also published as: PL317700A1; US5756052A; JPH09173767A; EP0786281A1; JP3263586B2

Abstract

1. Urzadzenie do obróbki gazu spalinowego, zawierajacego dwutlenek siarki, pyl i Se, wyposa- zone w zespól odsiarczajacy w postaci wiezy od- siarczajacej zawierajacej zbiomik szlamu absorben- tu, przy czym w górnej czesci wiezy odsiarczajacej znajduje sie wlot gazu spalinowego i wylot obro- bionego gazu spalinowego, a w dolnej czesci zbiornika szlamu absorbentu znajduje sie wylot szlamu, znamienne tym, ze przed wieza odsiarcza- jaca (21) znajduje sie zespól wytracania pylu (5) typu suchego, do którego wylotu jest podlaczony zespól odciagajacy (13), przy czym wylot zespolu odciagajacego (13) jest polaczony z wlotem mie- szalnika (14), do którego dodatkowo jest przyla- czony wylot zródla (16) srodka (A) powodujacego nierozpuszczalnosc przynajmniej czterowartoscio- wego Se, zas wylot mieszalnika (14) jest polaczony z wlotem drugiego mieszalnika (101), do którego dodatkowo jest przylaczony wylot zródla (100) adsorbentu przynajmniej szesciowartosciowego Se stanowiacego material, przy czym wylot drugiego mieszalnika (101) jest polaczony z separatorem fazy stalej-cieklej (15). FIG. 1 PL

Description

Przedmiotem wynalazku jest urządzenie do obróbki gazu spalinowego.

Dotychczas, znane urządzenia do obróbki gazu spalinowego, zainstalowane w stacjach mocy cieplnej i podobnych, zawierały: urządzenie do odsiarczania na mokro gazu spalinowego, które kontaktuje gaz spalinowy i szlam zawierający związek wapnia (szlam absorbentu) ze

187 003 sobą w wieży absorbcyjnej tak, aby absorbować dwutlenek siarki zawarty w gazie spalinowym i dla odbierania gipsu ze szlamu w wieży absorbcyjnej jako produkt pośredni, oraz urządzenie wytrącające pył typu suchego (które zwykle stanowi elektryczne urządzenie wytrącające pył) do usuwania pyłu takiego jak popiół lotny z gazu spalinowego wprowadzanego do urządzenia do odsiarczania na mokro gazu spalinowego. Obecnie częstokroć występuje problem dotyczący obróbki szkodliwych zanieczyszczeń poza tlenkami siarki zawartymi w gazie spalinowym. W szczególności, problemy takie występowały w urządzeniach do obróbki gazu spalinowego z kotłów do spalania węgla, przy czym problemy te dotyczyły szkodliwego selenu Se zawartego w węglu o zawartości w przybliżeniu nie więcej 10 mg/kg. Tak więc, pożądane było usuwanie selenu z gazu odlotowego lub z odcieku.

Należy zauważyć, że Se występuje jako czterowartościowy Se (główna postać: kwas selenawy SeO3²'), który łatwo staje się nierozpuszczalny za pomocą środka powodującego nierozpuszczalność, lub jako sześciowartościowy Se (główna postać: kwas selenowy SeO₄ ²’), który nie łatwo poddaje się obróbce powodującej nierozpuszczalność. W szczególności, łatwo może być wymywany wysoce rozpuszczalny sześciowartościowy Se (rozpuszczalność: 95% przy 20°C). Ponieważ Se ma toksyczność podobną do toksyczności związków arsenu, i ponieważ występowały przypadki zachorowań, zatem w rozmaitych krajach świata wprowadzono ustalone normy odnośnie odcieku, w których nową pozycją od lutego 1994 r. stała się obecność Se, przy czym normy środowiskowe określają ją na wartość rzędu 0,01 mg/l, normy wody ściekowej na 0,1 mg/l i normy dotyczące odcieku wprowadzanego do osadnika ziemnego wynoszące 0,3 mg/l.

Na fig. 10 pokazano konwencjonalne rozwiązanie urządzenia do obróbki gazu spalinowego (przykład urządzenia do obróbki gazu spalinowego z kotła do spalania węgla).

Jak pokazano na fig. 10, gaz spalinowy 10 odprowadzany z kotła 1 do spalania węgla jest doprowadzany do urządzenia odazotowywującego 2 przyłączonego do kotła 1 tak, że usuwane są tlenki azotu (NOx) z gazu spalinowego 10. Następnie, gaz spalinowy 10 przechodzi przez ogrzewacz powietrza 3 i podzespół odzyskiwania ciepła 4 ogrzewacza gaz-gaz (GGH), a następnie jest wprowadzany do elektrycznego zespołu wytrącającego pył 5 (EP) tak, że usuwa się pył taki jak lotny popiół. Następnie, gaz spalinowy jest wprowadzany do urządzenia do odsiarczania na mokro 6 gazu spalinowego, gdzie usuwany jest dwutlenek siarki. Po przepuszczeniu gazu spalinowego poprzez podzespół do ponownego podgrzewania 7 ogrzewacza gaz-gaz (GGH), gaz spalinowy zostaje wprowadzony do komina dymowego (nie pokazanego) dla odprowadzenia do atmosfery. Pył taki jak popiół lotny, usuwany przez elektryczny zespół do wytrącania pyłu 5 jest poddawany obróbce popiołu tak, że część tego pyłu jest ponownie wykorzystywana jako materiał do produkcji cementu, zaś reszta jest składowana na miejsce odkładcze 8 popiołu.

W opisanym powyżej konwencjonalnym urządzeniu do obróbki gazu spalinowego, prawie całość Se zawartego w węglu (Se w gazie spalinowym) ulega aglomeracji w strumieniu wychodzącym z ogrzewacza powietrza 3, a następnie jest on usuwany poprzez elektryczny zespół wytrącania pyłu 5 w stanie, w którym Se jest zawarty w pyle gazu spalinowego. W konsekwencji jest on zawarty w odpadzie znajdującym się na miejscu odkładczym popiołu 8 lub w materiale cementu. Tak więc, jeżeli zostanie spełniona norma odnośnie odcieku dla zapewnienia jego nieszkodliwości pod względem Se, wówczas występuje problem polegający na konieczności stosowania skomplikowanego i kosztownego procesu końcowego, w którym popiół usuwany przez elektryczny zespół do wytrącania pyłu 5 zostaje rozpuszczony, przykładowo w dużej ilości wody.

Celem wynalazku jest opracowanie urządzenia do obróbki gazu spalinowego, które nadaje się do łatwej obróbki Se zawartego w gazie spalinowym.

Pierwsza postać wykonania urządzenia do obróbki gazu spalinowego, zawierającego dwutlenek siarki, pył i Se, wyposażone w zespół odsiarczający w postaci wieży odsiarczającej zawierającej zbiomik szlamu absorbentu, przy czym w górnej części wieży odsiarczającej znajduje się wlot gazu spalinowego i wylot obrobionego gazu spalinowego, a w dolnej części zbiornika szlamu absorbentu znajduje się wylot szlamu, według wynalazku charakteryzuje się tym, że przed wieżą odsiarczającą znajduje się zespół wytrącania pyłu typu suchego, do które6

187 003 go wylotu jest podłączony zespół odciągający, przy czym wylot zespołu odciągającego jest połączony z wlotem mieszalnika, do którego dodatkowo jest przyłączony wylot źródła środka powodującego nierozpuszczalność przynajmniej czterowartościowego Se, zaś wylot mieszalnika jest połączony z wlotem drugiego mieszalnika, do którego dodatkowo jest przyłączony wylot źródła adsorbentu przynajmniej sześciowartościowego Se stanowiącego materiał, przy czym wylot drugiego mieszalnika jest połączony z separatorem fazy stałej-ciekłej.

Pomiędzy wieżą odsiarczającą a zespołem odciągającym znajduje się rura łącznikowa, przyłączona do wylotu zbiornika szlamu absorbentu w wieży odsiarczającej, zaś pomiędzy wieżą odsiarczającą a separatorem fazy stałej-ciekłej znajduje się rura łącznikowa, połączona z wylotem zbiornika filtratu oddzielonego przez separator fazy stałej-ciekłej i z wlotem zbiornika szlamu absorbentu w wieży odsiarczającej.

Z wlotem mieszalnika szlamu pyłowego jest połączony wylot źródła filtracyjnego środka pomocniczego.

Wieża odsiarczająca jest wyposażona w regulator reakcji utleniania-redukcji, zawierający czujnik i zawór regulacyjny, połączone poprzez regulator, dla regulowania reakcji utleniania-redukcji pod względem uzyskiwania minimalnego utleniania potrzebnego do całkowitego utlenienia dwutlenku siarki w szlamie zawartym w wieży odsiarczającej.

Wieża odsiarczająca jest wyposażona w zespół obróbczy do obróbki odcieku, zawierający źródło środka powodującego nierozpuszczalność przynajmniej czterowartościowego Se, mające wylot połączony z wlotem mieszalnika odcieku, oraz źródło adsorbentu przynajmniej sześciowartościowego Se, stanowiącego materiał organiczny, mające wylot połączony z wlotem drugiego mieszalnika.

Wieża odsiarczająca jest wyposażona w zespół obróbczy do obróbki odcieku, zawierający źródło środka powodującego nierozpuszczalność przynajmniej czterowartościowego Se, i wieżę z ustaloną podłogą, wypełnioną upakowanym w stanie stałym wypełniaczem zawierającym adsorbent przynajmniej sześciowartościowego Se, stanowiący materiał organiczny, z którą to wieżą jest połączony wylot przewodu prowadzącego odciek.

Druga postać wykonania urządzenia do obróbki gazu spalinowego, zawierającego dwutlenek siarki, pył i Se, wyposażone w zespół odsiarczający w postaci wieży odsiarczającej zawierającej zbiomik szlamu absorbentu, przy czym w górnej części wieży odsiarczającej znajduje się wlot gazu spalinowego i wylot obrobionego gazu spalinowego, a w dolnej części zbiornika szlamu absorbentu znajduje się wylot szlamu, według wynalazku charakteryzuje się tym, że przed wieżą odsiarczającą znajduje się zespół wytrącający pył typu suchego, którego wylot jest połączony z przewodem wprowadzającym pył, którego wylot jest podłączony do zbiornika szlamu absorbentu w wieży odsiarczającej, zaś wylot zbiornika szlamu absorbentu jest połączony z wlotem mieszalnika, do którego dodatkowo jest podłączony wylot źródła środka powodującego nierozpuszczalność przynajmniej czterowartościowego Se, natomiast z wlotem drugiego mieszalnika jest połączony wylot mieszalnika i wylot źródła adsorbentu adsorbującego przynajmniej sześciowartościowy Se, który to adsorbent stanowi materiał organiczny.

Wieża odsiarczająca jest wyposażona w regulator reakcji utleniania-redukcji, zawierający czujnik i zawór regulacyjny, połączone poprzez regulator dla regulowania reakcji utleniania-redukcji pod względem uzyskiwania minimalnego utleniania potrzebnego do całkowitego utlenienia dwutlenku siarki w szlamie zawartym w wieży odsiarczającej.

Wieża odsiarczająca jest wyposażona w zespół obróbczy do obróbki odcieku, zawierający źródło środka powodującego nierozpuszczalność przynajmniej czterowartościowego Se, mające wylot połączony z wlotem mieszalnika, oraz źródło adsorbentu przynajmniej sześciowartościowego Se, stanowiącego materiał organiczny, mające wylot połączony z wlotem drugiego mieszalnika.

187 003

Trzecia postać wykonania urządzenia do obróbki gazu spalinowego, zawierającego dwutlenek siarki, pył i Se, wyposażone w zespół odsiarczający w postaci wieży odsiarczającej zawierającej zbiomik szlamu absorbentu, przy czym w górnej części wieży odsiarczającej znajduje się wlot gazu spalinowego i wylot obrobionego gazu spalinowego, a w dolnej części zbiornika szlamu absorbentu znajduje się wylot szlamu, według wynalazku charakteryzuje się tym, że przed wieżą odsiarczającą znajduje się przewód wprowadzający gaz spalinowy zawierający pył, taki jak nieusunięty popiół lotny, połączony bezpośrednio z wlotem do wieży odsiarczającej, zaś wylot zbiornika szlamu absorbentu jest połączony z wlotem mieszalnika, do którego jest podłączony dodatkowo wylot źródła środka powodującego nierozpuszczalność przynajmniej czterowartościowego Se, zaś wylot mieszalnika jest połączony z wlotem drugiego mieszalnika, do którego jest podłączony dodatkowo wylot źródła adsorbentu adsorbującego przynajmniej sześciowartościowy Se, stanowiącego materiał organiczny.

Wieża odsiarczająca jest wyposażona w zespół obróbczy do obróbki odcieku, zawierający źródło środka powodującego nierozpuszczalność przynajmniej czterowartościowego Se, i wieżę z ustaloną podłogą, wypełnioną upakowanym w stanie stałym wypełniaczem zawierającym adsorbent przynajmniej sześciowartościowego Se, stanowiący materiał organiczny, przy czym z wieżąjest połączony wylot przewodu prowadzącego odciek.

Czwarta postać wykonania urządzenia do obróbki gazu spalinowego, zawierającego dwutlenek siarki, pył i Se, wyposażone w zespół odsiarczający w postaci wieży odsiarczającej zawierającej zbiomik szlamu absorbentu, przy czym w górnej części wieży odsiarczającej znajduje się wlot gazu spalinowego i wylot obrobionego gazu spalinowego, a w dolnej części zbiornika szlamu absorbentu znajduje się wylot szlamu, według wynalazku charakteryzuje się tym, że przed wieżą odsiarczającą znajduje się zespół wytrącania pyłu typu suchego oraz wieża chłodząca i usuwająca pył, przy czym z wylotem zespołu wytrącania pyłu jest połączony przewód wprowadzający pył, mający wylot połączony ze zbiornikiem szlamu pyłu w wieży chłodzącej i usuwającej pył, którego wylot jest połączony z wlotem mieszalnika, do którego dodatkowo jest podłączony wylot źródła środka powodującego nierozpuszczalność przynajmniej czterowartościowego Se, zaś wylot mieszalnika jest połączony z wlotem drugiego mieszalnika, do którego dodatkowo jest podłączony wylot źródła adsorbentu adsorbującego przynajmniej sześciowartościowy Se, stanowiącego materiał organiczny, zaś wylot mieszalnika jest połączony z wlotem separatora fazy stałej-ciekłej.

Wieża odsiarczająca jest wyposażona w zespół obróbczy do obróbki odcieku, zawierający źródło środka powodującego nierozpuszczalność przynajmniej czterowartościowego Se i wieżę z ustaloną podłogą, wypełnioną upakowanym w stanie stałym wypełniaczem zawierającym adsorbent przynajmniej sześciowartościowego Se, stanowiący materiał organiczny, z którą to wieżąjest połączony wylot przewodu prowadzącego odciek.

187 003

Piąta postać wykonania urządzenia do obróbki gazu spalinowego, zawierającego dwutlenek siarki, pył i Se, wyposażone w zespół odsiarczający w postaci wieży odsiarczającej zawierającej zbiomik szlamu absorbentu, przy czym w górnej części wieży odsiarczającej znajduje się wlot gazu spalinowego i wylot obrobionego gazu spalinowego, a w dolnej części zbiornika szlamu absorbentu znajduje się wylot szlamu, według wynalazku charakteryzuje się tym, że przed wieżą odsiarczającą znajduje się wieża chłodząca i usuwająca pył, wyposażona w przewód wprowadzający gaz spalinowy, zawierający pył taki jak nieusunięty popiół lotny, przy czym wylot zbiornika szlamu w wieży chłodzącej i usuwającej pył jest połączony z wlotem mieszalnika, z którym dodatkowo jest połączony wylot źródła środka powodującego nierozpuszczalność przynajmniej czterowartościowego Se, zaś wylot mieszalnika jest połączony z wlotem drugiego mieszalnika, do którego jest dodatkowo podłączony wylot źródła adsorbentu adsorbującego przynajmniej sześciowartościowy Se, stanowiącego materiał organiczny, zaś do wylotu drugiego mieszalnika jest podłączony separator fazy stałej-ciekłej.

Wieża odsiarczająca jest wyposażona w zespół obróbczy do obróbki odcieku, zawierający źródło środka powodującego nierozpuszczalność przynajmniej czterowartościowego Se i wieżę z ustaloną podłogą wypełnioną upakowanym w stanie stałym wypełniaczem zawierającym adsorbent przynajmniej sześciowartościowego Se, stanowiący materiał organiczny, z którą to wieżą jest połączony wylot przewodu prowadzącego odciek.

W urządzeniu do obróbki gazu spalinowego według wynalazku, prawie całość Se zawartego w gazie spalinowym może być usunięta do pyłu za pomocą zespołu wytrącającego pył typu suchego, powodując otrzymywanie pyłu zawierającego Se. Gdy rozpuszczalny składnik pyłu zostanie odciągnięty do wody w zespole odciągającym, wówczas Se ulega rozpuszczeniu w płynie szlamu pyłowego. Zawarty w szlamie pył przynajmniej czterowartościowy Se zostaje przekształcony do postaci nierozpuszczalnej za pomocą środka powodującego nierozpuszczalność, podawanego poprzez wsad środka powodującego nierozpuszczalność, zaś przynajmniej sześciowartościowy Se podlega adsorbowaniu poprzez adsorbent dostarczany jako wsad adsorbentu. Tak więc, separator powoduje wyprowadzenie prawie całego zarówno czterowartościowego jak i sześciowartościowego Se do fazy stałej.

Ponieważ sześciowartościowy Se adsorbowany przez adsorbent nie łatwo jest desorbowany w środowisku naturalnym, i ponieważ czterowartościowy Se jest również przekształcany do postaci nierozpuszczalnej za pomocą środka powodującego nierozpuszczalność, zatem można uzyskać wspomnianą powyżej regulację wymywania Se, nawet jeżeli materiał stały zostanie wyładowany bez dalszej obróbki.

Można w ten sposób wyeliminować kłopotliwy i kosztowny proces, w którym pył rozpuszcza się w dużej ilości wody i odprowadza jako ściek. Tak więc, tego rodzaju układ do obróbki gazu spalinowego może pracować w sposób łatwy przy zredukowanych kosztach, i jednocześnie spełniając nałożone normy odnośnie Se. Ponieważ duża ilość pyłu (zanieczyszczenia takie jak Se) nie wchodzi do szlamu w wieży absorpcyjnej urządzenia odsiarczającego, zatem, w urządzeniu odsiarczającym można w sposób zadowalający prowadzić odsiarczanie i podobne procesy.

W opisanym następnym urządzeniu do obróbki gazu spalinowego, część płynu tworzącego szlam absorbentu urządzenia odsiarczającego jest stosowana jako rozpuszczalnik dla zespołu odciągającego, a przez to ilość użytkowanej (ilość do cyrkulacji) i pobór wody mogą być zredukowane w porównaniu z rozwiązaniem, w którym woda jest dostarczana indywidualnie.

187 003

Według następnego urządzenia do obróbki gazu spalinowego, do mieszalnika lub separatora jest podawany pomocniczy środek filtracyjny. Tym samym, wzmożone odwodnienie za pomocą separatora może spowodować wytwarzanie materiału trwałego (to jest ciasta pyłowego), mającego małą zawartość wody, przez co nadaje się on do łatwej obsługi.

W następnym urządzeniu do obróbki gazu spalinowego, prawie cała część Se w gazie spalinowym może być usunięta za pomocą zespołu wytrącającego pył typu suchego za pomocą pyłu. Następnie, ten pył zawierający Se jest wprowadzany bezpośrednio do szlamu w urządzeniu odsiarczającym tak, aby był odciągnięty w urządzeniu odsiarczającym, gdzie zostanie dodany środek powodujący nierozpuszczalność i adsorbent. Tak więc, przynajmniej czterowartościowy Se zawarty w gazie spalinowym zostaje przekształcony do postaci nierozpuszczalnej w urządzeniu odsiarczającym, a również sześciowartościowy Se jest adsorbowany przez adsorbent w urządzeniu odsiarczającym. W konsekwencji, Se jest wyładowywany razem z materiałem stałym (gips lub podobny materiał), który jest oddzielony ze szlamu w urządzeniu odsiarczającym, lub łatwo oddzielony jako materiał stały w urządzeniu do obróbki odcieku do wyładowywania płynu krążącego z urządzenia odsiarczającego.

Tak więc w łatwy sposób można spełnić uregulowania dotyczące wymywania Se i podobne. Ponieważ urządzenie odsiarczające służy również jako zespół odciągający dla pyłu, zatem można dodatkowo uprościć konstrukcję układu w porównaniu z konstrukcją, w której indywidualnie jest zastosowana wieża reakcyjna do redukowania Se i zespół odciągający, itd.

W następnym urządzeniu do obróbki gazu spalinowego, prawie całość Se w gazie spalinowym w postaci zawartej w pyle, jest sprowadzana bezpośrednio do urządzenia odsiarczającego wraz z gazem spalinowym tak, że ulega mieszaniu ze szlamem absorbentu dla odciągnięcia, przykładowo, w wieży absorbcyjnej urządzenia odsiarczającego. Następnie dodaje się środek powodujący nierozpuszczalność i adsorbent. Później, przekształca się przynajmniej czterowartościowy Se zawarty w gazie spalinowym do postaci nierozpuszczalnej w urządzeniu odsiarczającym, jak również adsorbuje się sześciowartościowy Se przez adsorbent w urządzeniu odsiarczającym. Tak więc, Se zostaje wyprowadzony razem z materiałem stałym (gips lub podobny), który jest oddzielony ze szlamu w urządzeniu odsiarczającym lub też łatwo oddzielony jako materiał stały w urządzeniu do obróbki odcieku do wyładowywania krążącego płynu z urządzenia odsiarczającego.

Tak więc łatwo można spełnić uregulowania odnośnie wymywania Se. Ponieważ urządzenie odsiarczające służy również jako zespół wytrącający pył i zespół odciągający dla pyłu, zatem można dodatkowo uprościć konstrukcję układu w porównaniu z konstrukcją, w której zastosowane są indywidualnie zespół wytrącający i zespół odciągający.

W następnym urządzeniu do obróbki gazu spalinowego, prawie całość Se zawartego w gazie spalinowym jest usuwana poprzez zespół wytrącający pył typu suchego za pomocą pyłu, i jest wprowadzana bezpośrednio, jako zawarta w pyle, do cieczy dla odciągnięcia w wieży do chłodzenia i usuwania pyłu, znajdującej się w urządzeniu odsiarczającym. Szlam pyłu otrzymany przez wprowadzanie pyłu do płynu dla odciągnięcia w wieży do chłodzenia i usuwania pyłu pobiera środek do powodowania nierozpuszczalności ze wsadu środka powodującego nierozpuszczalność tak, aby przekształcić przynajmniej czterowartościowy Se do postaci nierozpuszczalnej, jak również doprowadza się do niego adsorbent ze wsadu adsorbentu. Tym samym, przynajmniej czterowartościowy Se zawarty w gazie spalinowym jest przekształcony do postaci nierozpuszczalnej poprzez środek powodujący nierozpuszczalność w urządzeniu odsiarczającym, zaś sześciowartościowy Se podlega adsorbowaniu przez adsorbent w urządzeniu odsiarczającym. Następnie, oddziela się Se za pomocą separatora do fazy stałej (to jest do ciasta pyłowego) dla wyprowadzenia, lub też łatwo się oddziela poprzez następną obróbkę oddzielonej wody do postaci trwałej dla pozbycia się w miejscu odkładczym lub podobnie.

Tak więc, układ taki w łatwy sposób spełnia uregulowania dotyczące wymywania Se i podobne. Ponieważ wieża do chłodzenia i usuwania pyłu w tym przypadku służy również jako zespół odciągający lub podobny, zatem można dodatkowo uprościć konstrukcję układu w porównaniu z konstrukccą w której będzie zastosowany indywidualnie zespół odciągający itd. Ponieważ duża ilość pyłu (to jest zanieczyszczeń takich jak Se) nie jest zmieszana ze szla10

187 003 szlamem w wieży absorbcyjnej urządzenia odsiarczającego, zatem można utrzymać działanie urządzenia odsiarczającego tak jak odsiarczanie.

W następnym urządzeniu do obróbki gazu spalinowego, prawie całość Se zawartego w gazie spalinowym, w postaci zawartej w pyle, jest wprowadzana bezpośrednio do wieży do chłodzenia i usuwania pyłu wraz z pyłem dla odciągnięcia. Szlam pyłowy odciągnięty przez wprowadzenie pyłu do cieczy w wieży chłodzenia i usuwania pyłu jest zasilany środkiem powodującym nierozpuszczalność za pomocą wsadu środka powodującego nierozpuszczalność dla przekształcania przynajmniej czterowartościowego Se do postaci nierozpuszczalnej, i jest zasilany adsorbentem ze źródła adsorbentu. Następnie, przynajmniej czterowartościowy Se zawarty w gazie spalinowym jest przekształcony do postaci nierozpuszczalnej poprzez środek powodujący nierozpuszczalność w urządzeniu odsiarczającym, jak również sześciowartościowy Se jest adsorbowany przez adsorbent w urządzeniu odsiarczającym. Następnie oddziela się Se przez separator do fazy stałej (to jest do ciasta pyłowego) dla wyprowadzenia, lub łatwo się oddziela poprzez następną obróbkę oddzielonej wody do materiału stałego dla odprowadzenia jak odpad lub podobnie.

Tak więc, układ ten łatwo spełnia uregulowania dotyczące wymywania Se i tym podobne. Ponieważ urządzenie odsiarczające służy jako zespół do wytrącania pyłu i zespół odciągający dla pyłu, zatem można dodatkowo uprościć konstrukcję układu w porównaniu z konstrukcją, w której zespół wytrącający pył i zespół odciągający, itd. są zastosowane indywidualnie. Ponieważ duża ilość pyłu (to jest zanieczyszczeń takich jak Se) nie jest zmieszana ze szlamem w wieży absorbcyjnej urządzenia odsiarczającego, zatem można utrzymać korzystne odsiarczanie i tym podobne, prowadzone w urządzeniu odsiarczającym.

W następnym urządzeniu do obróbki gazu spalinowego, regulator reakcji utleniania-redukcji kontroluje reakcję utleniania-redukcji szlamu w urządzeniu odsiarczającym dla prowadzenia reakcji minimalnego utleniania, potrzebnego do całkowitego utlenienia dwutlenku siarki w szlamie urządzenia odsiarczającego. W wyniku tego można ograniczyć wytwarzanie sześciowartościowego Se przez utlenianie czterowartościowego Se w szlamie urządzenia odsiarczającego. Ponadto, sześciowartościowy Se zostaje zredukowany do czterowartościowego Se. Tak więc, można zredukować źródła adsorbentu do adsorbowania sześciowartościowego Se, które jest umieszczone w przewodzie wyprowadzającym urządzenia odsiarczającego, lub w układzie do obróbki odcieku z urządzenia odsiarczającego. Ponadto, można zredukować żądaną ilość adsorbentu. Tak więc, uzyskuje się korzyści ekonomiczne.

W następnym urządzeniu do obróbki gazu spalinowego, odciek z urządzenia odsiarczającego jest zasilany środkiem powodującym nierozpuszczalność dla przekształcania przynajmniej czterowartościowego Se do postaci nierozpuszczalnej w urządzeniu do obróbki odcieku. Ponadto, dostarcza się adsorbent składający się z materiału organicznego do adsorbowania przynajmniej sześciowartościowego Se. W konsekwencji, pozostawiony w odcieku Se może być przekształcany do postaci nierozpuszczalnej lub też adsorbowany w urządzeniu do obróbki odcieku. Zgodnie z tym, rozdzielanie fazy stałej-ciekłej w urządzeniu do obróbki odcieków powoduje usunięcie zarówno sześciowartościowego Se jak i czterowartościowego Se, oraz pozwala na wyprowadzenie odpadów bez dalszej obróbki.

Tak więc, można spełnić uregulowania dotyczące wyładowania Se ze znacznym marginesem bezpieczeństwa.

W następnym urządzeniu do obróbki gazu spalinowego, odciek z urządzenia odsiarczającego jest zasilany środkiem powodującym nierozpuszczalność dla przekształcania przynajmniej czterowartościowego Se do postaci nierozpuszczalnej w urządzeniu do obróbki odcieku, zaś odciek z urządzenia odsiarczającego przechodzi przez bieżnię do obróbki kontaktowej ze stalą podłogą, w której adsorbent składający się z materiału organicznego do adsorbowania przynajmniej sześciowartościowego Se zostaje upakowany w stanie ustalonym. Następnie, oddzielanie fazy stałej-ciekłej w urządzeniu do obróbki odcieku powoduje oddzielanie czterowartościowego Se z Se pozostawionego w odcieku. Ponadto, adsorbent zawarty w wieży do obróbki kontaktowej powoduje adsorbowanie sześciowartościowego Se dla oddzielenia.

187 003

Tak więc, ze znacznym marginesem bezpieczeństwa można spełnić uregulowania dotyczące usuwania Se.

Przedmiot wynalazku jest uwidoczniony w przykładzie wykonania na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia konstrukcję urządzenia do obróbki gazu spalinowego według pierwszego wykonania wynalazku, fig. 2 - konstrukcję urządzenia do obróbki gazu spalinowego według drugiego wykonania wynalazku, fig. 3 - konstrukcję urządzenia do obróbki gazu spalinowego według trzeciego wykonania wynalazku, fig. 4 - konstrukcję urządzenia do obróbki gazu spalinowego według czwartego wykonania wynalazku, fig. 5 - konstrukcję urządzenia do obróbki gazu spalinowego według piątego wykonania wynalazku, fig. 6 - przykład instalacji przeznaczonej dla zespołu obróbczego do obróbki odcieku w urządzeniu według wynalazku, fig. 7 - następny przykład instalacji przeznaczonej dla zespołu obróbczego do obróbki odcieku w urządzeniu według wynalazku, fig. 8 - charakterystyczną część innego przykładu urządzenia do obróbki odcieku według wynalazku, fig. 9 - wykres przedstawiający rezultaty eksperymentu 3 dla potwierdzenia skuteczności usuwania Se w sposobie według wynalazku, a fig. 10 - konstrukcję konwencjonalnego urządzenia do obróbki gazu spalinowego.

Na fig. 1 pokazano pierwsze przykładowe wykonanie urządzenia według wynalazku.

Jako adsorbent X użyty w urządzeniu do obróbki gazu spalinowego według wynalazku zastosowano materiał organiczny tworzący adsorbent X pokazany na fig. 1, w postaci skorup, piór lub wełny, stosowanych wyłącznie lub połączonych z dwoma lub więcej innymi rodzajami. Jakkolwiek materiał organiczny może być stosowany w naturalnej postaci stałej (łącznie z błonami skorup) dla zredukowania ilości etapów, jednakże może on też być zmielony na proszek lub wprowadzony w stan płynny dla wygody obsługi w takich przypadkach jak magazynowanie, transport i wprowadzanie do urządzenia.

Przykładowo, w przemyśle spożywczym stosowane są duże ilości jajek, a otrzymywane skorupy jaj (mające błony) są w dużych ilościach wyrzucane. Tym samym, można niskim kosztem uzyskać błony skorupowe w dużych ilościach, pochodzące ze skorup jaj zużywanych w zakładzie wytwórczym majonezu. Skorupy jaj kurzych, które są zbudowane głównie z węglanu wapnia, są najpierw zanurzane w 5% wag. roztworze kwasu chlorowodorowego przez około 10 godzin dla rozpuszczenia. Pozostające błony skorupowe zostają przemyte destylowaną wodą dla usunięcia pyłu i podobnych, a następnie osuszone i przemyte 0,1 N roztworem wodorotlenku sodowego dla usunięcia białek jaj. W konsekwencji otrzymuje się czyste błony skorupowe, które bardzo skutecznie adsorbują Se.

Należy zauważyć, że błony skorupowe można stosować jako adsorbent bez oddzielania od skorup jaj. W tym przypadku, można pominąć wstępną obróbkę kwasem chlorowodorowym. Skorupy jaj (z błonami) stosowane w zakładzie wytwórczym majonezu lub podobnym, mogą być przemywane destylowaną wodą bez usuwania skorup i następnie suszone i przemywane roztworem wodorotlenku sodowego.

W obróbce wstępnej piór lub wełny, materiały te są przemywane przykładowo za pomocą 0,1 N do 0,5 N roztworu wodorotlenku sodowego, dla usunięcia składnika oleistego, a następnie przemywane destylowaną wodą. W rezultacie otrzymuje się czyste pióra lub wełnę o dużej zdolności adsorbcji jak opisano poniżej.

Należy zauważyć, że można stosować pióra rozmaitych ptaków (przykładowo, pióra kur).

Adsorbent taki może być stosowany w rozmaitych postaciach, takich jak postać stała (włącznie z błonami), postać proszku i cieczy. Przykładowo, błony skorupowe mogą być stosowane bez jakiejkolwiek obróbki lub w postaci proszku po zmieleniu. Błony skorupowe ze skorupami mogą być stosowane w postaci stałej lub proszku po pokruszeniu. Pióra lub wełna mogą być stosowane w postaci stałej bez jakiejkolwiek obróbki, lub w postaci proszku otrzymywanego przez siekanie.

Błony skorupowe, pióra lub wełna mogą być wprowadzane w stan ciekły przez rozpuszczanie w roztworze alkalicznym. Przykładowo, potwierdzono to poprzez eksperyment: po zanurzeniu błon skorupowych, piór lub wełny, poddanych powyższej obróbce wstępnej, w 30% wag. roztworze wodorotlenku sodowego w temperaturze pokojowej przez około 20 godzin, uzyskano łatwe ich rozpuszczenie. Należy zauważyć, że ilość rozpuszczanego

187 003 w tym eksperymencie materiału organicznego wynosiła około 5 g na 50 cm³ roztworu wodorotlenku sodowego.

W urządzeniu do obróbki gazu spalinowego jak pokazano na fig. 1, pył zawierający Se jest gromadzony dla usuwania przez elektryczny zespół wytrącania pyłu 5 lub podobny, a następnie ten pył (popiół) zawierający Se jest odciągany za pomocą zespołu odciągającego 13 z wykorzystaniem płynu dostarczanego z urządzenia do odsiarczania na mokro gazu spalinowego (poniżej określanego urządzeniem odsiarczającym 20) tak, aby przeszedł w postać szlamu. Następnie dodaje się środek A powodujący nierozpuszczalność w mieszalniku 14 ze źródła 16 środka powodującego nierozpuszczalność, a następnie do mieszalnika 101 dodaje się adsorbent X w postaci opisanego powyżej materiału organicznego ze źródła 100 adsorbentu. Następnie materiał ten jest rozdzielony przez separator fazy stałej-ciekłej 15 na materiał stały i ciekły tak, że do fazy stałej zostaje oddzielony sześciowartościowy Se i czterowartościowy Se. W tym przypadku, zastosowano przewód odprowadzający urządzenia odsiarczającego 20 i zespołu obróbczego 50 do obróbki odcieku o podobnej konstrukcji (mieszalnik 14, źródło 16 środka powodującego nierozpuszczalność, mieszalnik 101 i źródło 100 adsorbentu) dla obróbki Se. W tym przypadku, w urządzeniu odsiarczającym 20 przeprowadzane jest minimalne żądane utlenienie za pomocą tak zwanego zespołu regulacyjnego ORP (regulacja potencjału utleniania i redukcji) dla ograniczenia utleniania czterowartościowego Se w szlamie do sześciowartościowego Se tak, aby ułatwić obróbkę Se w zespole obróbczym 50 do obróbki odcieku i podobnych.

Jakkolwiek na fig. 1 pokazano konstrukcję, w której mieszalnik 14 jest umieszczony przed mieszalnikiem 101, to jednak można zastosować konstrukcję odwrotną, w której mieszalnik 101 jest umieszczony przed mieszalnikiem 14.

Zespół odciągający 13 zawiera kadź, do której jest doprowadzany pył, i mieszadło do mieszania szlamu w kadzi. Jak pokazano na fig. 1, płyn w zbiorniku filtratu 33 jest dostarczany za pomocą pompy 34 urządzenia do odsiarczania 20. Płyn ten zamienia szlam w pył wprowadzany z elektrycznego zespołu wytrącania pyłu 5.

Mieszalnik 14 zawiera zbiomik i mieszadło do mieszania płynu w zbiorniku. Do mieszalnika 14 zostaje doprowadzony szlam pyłowy utworzony przez zespół odciągający 13, środek A powodujący nierozpuszczalność i płynny środek pomocniczy Y regulujący pH, dostarczany przez źródło 16 środka powodującego nierozpuszczalność i filtracyjny środek pomocnuczy B dostarczany przez źródło 17 filtracyjnego środka pomocniczego, gdzie zostają zmieszane tak, aby można je było wprowadzać do dolnego mieszalnika 101.

Środek A powodujący nierozpuszczalność musi stanowić środek, który reaguje przynajmniej z czterowartościowym Se (główna postać: kwas selenawy SeO3²') dla powodowania jego nierozpuszczalności. Przykładowo, można zastosować FeCl·, lub Fe2(SO^3. Filtracyjny środek pomocniczy B stanowi korzystnie środek mający duży rozmiar cząsteczek i stąd pełniący fdnkcję wspomagania oddzielania fazy stałej-ciekłej. Przykładowo, można stosować gips C wytworzony w urządzeniu odsiarczającym 20. Jako płynny środek pomocniczy Y regulujący pH można przykładowo zastosować wodny roztwór odsiarczający taki jak kwas i wodny roztwór sody kaustycznej taki jak roztwór alkaliczny. Ilość płynnego środka pomocniczego Y regulującego wartość pH jest tak dobierana, aby wartość pH w mieszalniku 14 stanowiła wartość wzmagającą nierozpuszczalność czterowartościowego Se, wyrażoną przez wzory reakcyjne (2) do (5) poniżej, to jest pH powinno być rzędu 5 do 9, a korzystnie 6 do 8. Jako elementy układu regulacyjnego, nie pokazane na rysunku, można zastosować czujnik do wykrywania pH w mieszalniku 14 i regulator do automatycznego ustawiania pH we wspomnianym powyżej wstępnie określonym zakresie, przez kontrolowanie stopnia otwarcia zaworu regulującego szybkość przepływu, który jest umieszczony w przewodzie zasilania płynu regulującego pH, przyłączonym do mieszalnika 14, odpowiednio do wartości stwierdzanej poprzez czujnik. Źródło 16 środka powodującego nierozpuszczalność stanowi silos lub zbiomik magazynujący środek A powodujący nierozpuszczalność, oraz rura do wprowadzania środka A powodującego nierozpuszczalność z silosu lub zbiornika do mieszalnika 14. Podobnie, źródło 17 filtracyjnego środka pomocniczego zawiera silos lub zbiornik magazynujący filtracyjny śro187 003 dek pomocniczy B oraz rurę do wprowadzania filtracyjnego środka pomocniczego B z silosu lub zbiornika do mieszalnika 14.

Mieszalnik 101 zawiera zbiomik mieszający i mieszadło do mieszania płynu, do którego są dodawane i mieszane szlam pyłowy wprowadzany z mieszalnika 14, adsorbent X jak powyżej, dostarczany ze źródła 100 adsorbentu i płynny środek pomocniczy Y regulujący pH, które po zmieszaniu są podawane do separatora fazy stałej-ciekłej 15 po wystarczająco długim okresie czasu.

Źródło 100 adsorbentu zawiera silos lub zbiomik, w którym jest zgromadzony adsorbent stanowiący materiał organiczny X oraz rurę do wprowadzania adsorbentu z silosu lub zbiornika do mieszalnika 101. Przeznaczona do dodawania ilość płynnego środka pomocniczego Y regulującego pH jest tak ustawiana, że pH zawartości mieszalnika 101 ma wartość powodującą wzmaganie adsorbcji sześciowartościowego Se przez materiał organiczny X, to jest pH rzędu około 2 do 8, a korzystnie od 4 do 6.

Separator fazy stałej-ciekłej 15 stanowi przykładowo separator odśrodkowy, z którego filtrat jest podawany do zbiornika filtratu 35 urządzenia odsiarczającego 20.

Urządzenie odsiarczające 20 zastosowane w tym przykładzie wykonania wynalazku stanowi urządzenie odsiarczające typu utleniania na miejscu, które zawiera wieżę odsiarczającą 21 mającą zbiomik szlamu absorbentu 22 umieszczony na jej spodzie, do którego jest podawany szlam absorbentu (w tym przypadku zawierający kamień wapienny), pompę cyrkulacyjną 23 do podawania szlamu absorbentu ze zbiornika szlamu absorbentu 22 do górnej części 21a (część wprowadzająca gaz spalinowy) wieży odsiarczającej 21 tak, aby skontaktować szlam absorbentu z gazem spalinowym, zespół rozpraszający powietrze typu ramienia obrotowego 24, podparty w zbiorniku absorbentu 22, obracany poziomo za pomocą silnika (nie pokazanego) dla mieszania szlamu w zbiorniku szlamu absorbentu 22 i dla wydajnego wdmuchiwania dostarczanego powietrza do zbiornika w postaci małych pęcherzyków powietrza, oraz rurę 25 do doprowadzania powietrza do ramienia obrotowego 24. Tak więc, szlam absorbentu który zaabsorbował dwutlenek siarki i powietrze są wydajnie ze sobą kontaktowane dla spowodowania pełnego utlenienia do otrzymania gipsu.

Do zbiornika szlamu absorbentu 22 jest przyłączona pompa szlamowa 31 dla odsysania szlamu ze zbiornika szlamu absorbentu 22. Szlam odessany przez pompę szlamową 31 jest początkowo wprowadzany do mieszalnika 14, gdzie jest dodawany środek A powodujący nierozpuszczalność ze źródła 16 środka powodującego nierozpuszczalność, a następnie jest wprowadzany do mieszalnika 101, gdzie jest dodawany materiał organiczny X ze źródła 100 adsorbentu. Należy zauważyć, że do mieszalników 14 i 101 w razie potrzeby można dodać płynny środek pomocniczy Y regulujący wartość pH. Następnie, szlam jest podawany do separatora fazy stałej-ciekłej 32 dla filtracji, a stamtąd są pobierane składniki stałe zawierające gips C w szlamie w postaci ciastopodobnego materiału stałego (zwykle zawierającego wodę w ilości około 10%). Filtrat (zawierający głównie wodę) z separatora fazy stałej-ciekłej 32 jest doprowadzany do zbiornika filtratu 33, gdzie w razie potrzeby jest dodawana uzupełniająca woda T. Następnie, część filtratu jest podawana do zbiornika 35 filtratu za pomocą pompy cyrkulacyjnej 34, gdzie podlega zmieszaniu z kamieniem wapiennym F (CaCCb), podawanym z silosa (nie pokazanego) a następnie z powrotem jest podawany do zbiornika szlamu absorbentu 22 za pomocą pompy 36.

Urządzenie odsiarczające 20 jest wyposażone w regulator reakcji utlenienia-redukcji 40 do kontrolowania utleniania i redukcji w wieży odsiarczającej 21. Regulator reakcji utleniania-redukcji 40 według tego przykładu wykonania wynalazku zawiera czujnik 41 umieszczony na stronie odbiorczej pompy cyrkulacyjnej 23 i stwierdzający potencjał utlenienia i redukcji w zbiorniku 22, oraz zawór regulacyjny 42 umieszczony w położeniu pośrednim w rurze zasilania powietrzem 25 i regulujący wielkość przepływu powietrza podawanego do ramienia obrotowego 24, połączone poprzez zawór regulacyjny 42 odpowiednio do sygnału wyjściowego z czujnika 41. Czujnik 41 jest ustawiany przez zanurzanie elektrody, wykonanej przykładowo z platyny, w szlamie. Regulator 43 w sposób ciągły kontroluje stopień otwarcia zaworu regulacyjnego 42 do regulacji wielkości przepływu powietrza tak, aby ilość powietrza podawana do ramienia obrotowego 24 stanowiła minimalną ilość potrzebną do poboru po14

187 003 przez utlenianie dwutlenku siarki rozpuszczonego w szlamie. W szczególności, gdy stężenie dwutlenku siarki wynosi zasadniczo zero, wówczas jako potencjał odnośny jest wykorzystywany potencjał redukcji-utleniania odpowiednio do korelacji pomiędzy stężeniem dwutlenku siarki i potencjału redukcji-utleniania. Następnie jest dokonywana następująca regulacja proporcjonalna. Jeżeli stwierdzony przez czujnik 41 potencjał redukcji-utleniania jest niższy niż potencjał odniesienia, wówczas proporcjonalnie do tej odchyłki zostaje zwiększona ilość doprowadzanego powietrza. Jeżeli stwierdzony przez czujnik 41 potencjał redukcji-utlenienia jest wyższy niż potencjał odniesienia, wówczas proporcjonalnie do tej odchyłki zostaje zredukowana ilość dostarczanego powietrza.

Ponieważ regulator reakcji redukcji-utleniania 40 zapewnia dostarczanie minimalnej ilości powietrza potrzebnego do utlenienia całkowitego dwutlenku siarki, zatem jest ograniczona ilość sześciowartościowego Se wytwarzanego przez utlenianie czterowartościowego Se w szlamie. Ponadto, sześciowartościowy Se w szlamie jest zasadniczo redukowany za pomocą dwutlenku siarki.

Jeżeli sześciowartościowy Se lub czterowartościowy Se jest zawarty w niewielkiej ilości w szlamie, dostarczanym ze zbiornika 35 filtratu do zbiornika szlamu absorbentu 22 jako pozostawiony w filtracie z separatora fazy stałej-ciekłej 15, lub jeżeli sześciowartościowy Se łub czterowartościowy Se zostanie rozpuszczony w szlamie w wieży odsiarczającej 21, jako pozostawiony w gazie spalinowym i wprowadzany z elektrycznego zespołu wytrącania pyłu 5 do wieży odsiarczającej 21, zatem jest ograniczone utlenianie czterowartościowego Se do postaci sześciowartościowego Se. Ponadto, w wieży odsiarczającej 21, sześciowartościowy Se ulega zredukowaniu za pomocą dwutlenku siarki, absorbowanego z gazu spalinowego dla otrzymania czterowartościowego Se. Powyższa reakcja jest wyrażona przez następujący wzór (1):

SeO4²' + SO₃ ²'— SeOa²' + SO4²' (1)

Zespół obróbczy 50 do obróbki odcieku powoduje wyprowadzenie odcieku z urządzenia odsiarczającego 20, który to odciek W1 zawiera część płynu ze zbiornika filtratu 33, dostarczanego przez pompę 34, i ulega unieszkodliwieniu, przez co jest możliwe jego wyprowadzenie jako odpad. Jeżeli w krążącym płynie tworzącym szlam absorbentu zgromadzą się nadmierne ilości zanieczyszczeń takich jak chlor rozpuszczony z gazu spalinowego, wówczas pogarsza się jakość odsiarczania urządzenia odsiarczającego 20 i jakość gipsu. Tak więc, część płynu krążącego, podobnie jak odciek Wl, musi być wyprowadzona na zewnątrz urządzenia.

Zespół obróbczy 50 do obróbki odcieku jest wyposażony w znane instalacje (nie pokazane) do prowadzenia tak zwanego udoskonalonego procesu obejmującego obróbkę COD (chemiczne zapotrzebowanie na tlen), obróbkę fluorem i obróbkę azotem. Przedstawiony na fig. 1 przykład wykonania urządzenia według wynalazku charakteryzuje się stosowaniem urządzenia do przeprowadzania obróbki Se jako obróbki wstępnej.

Odciek Wl jest początkowo podawany do mieszalnika 14, gdzie jest dodawany środek A powodujący nierozpuszczalność ze źródła 16 środka powodującego nierozpuszczalność, a następnie jest podawany do mieszalnika 101, gdzie jest dodawany materiał organiczny X ze źródła 100 absorbentu. Należy zauważyć, że mieszalniki 14 i 101 są zasilane w razie potrzeby płynnym środkiem pomocniczym Y regulującym pH. Następnie, szlam jest podawany do separatora fazy stałej-ciekłej 15 i odfiltrowywany, a otrzymywany filtrat W2 jest doprowadzany do instalacji do prowadzenia udoskonalonego procesu.

Na fig. 6 pokazano szczegółową konstrukcję instalacji do obróbki Se, przeznaczonej dla zespołu obróbczego 50 do obróbki odcieku w urządzeniu według wynalazku. Instalacja taka zawiera głównie zbiomik 111 do obróbki nierozpuszczającej, zbiomik 112 do obróbki adsorpcyjnej, zbiornik aglomeracyjny 113 i zagęstnik 114. Zbiomik 111 do obróbki nierozpuszczającej odpowiada mieszalnikowi 14 pokazanemu na fig. 1, zbiomik 112 do obróbki adsorpcyjnej odpowiada mieszalnikowi 101 a zbiornik aglomeracyjny 113 i zagęstnik 114 odpowiadają separatorowi fazy stałej-ciekłej 15.

Zbiomik 111 do obróbki nierozpuszczającej jest kolejno zasilany nieobrobionym odciekiem Wl, środkiem A powodującym nierozpuszczalność (przykładowo, FeCl₃ lub Fe2(SO4)₃)

187 003 i płynnym środkiem pomocniczym Y regulującym pH, które następnie ulegają zmieszaniu za pomocą mieszadła 115.

Zbiornik szlamu absorbentu 22 jest wyposażony w czujnik 116 dla stwierdzania wartości pH płynu procesowego w zbiorniku szlamu absorbentu 22 i regulator 117 do regulacji pH, przeznaczony do kontrolowania ilości płynnego środka pomocniczego Y, która ma być dodana do zbiornika szlamu absorbentu 22 odpowiednio do wartości stwierdzonej przez czujnik 116 dla utrzymania wartości pH w zbiorniku we wstępnie określonym zakresie, preferowanym dla promowania reakcji nierozpuszczania czterowartościowego Se.

Zbiornik 112 do obróbki adsorbcyjnej pobiera odciek W1 zmieszany ze środkiem A powodującym nierozpuszczalność dla powodowania nierozpuszczalności czterowartościowego Se ze zbiornika 111 do obróbki nierozpuszczającej. Materiał organiczny X (w postaci stałej, proszku lub cieczy) i płynny środek pomocniczy Y regulujący pH są wprowadzane sukcesywnie do zbiornika 112 i zmieszane za pomocą mieszadła 118. Zbiornik 112 zawiera czujnik 119 do stwierdzania pH obrobionego płynu i regulator 120 do regulowania ilości płynnego środka pomocniczego Y regulującego pH, wprowadzanego do zbiornika odpowiednio do wartości stwierdzonej przez czujnik 119 dla utrzymania wartości pH obrabianego płynu w zbiorniku we wstępnie określonym zakresie, w którym występuje wzmożona adsorbeja sześciowartościowego Se.

Zbiornik aglomeracyjny 113 pobiera odciek zmieszany ze środkiem powodującym nierozpuszczalność i materiałem organicznym X, podawany w sposób ciągły ze zbiornika 112 do obróbki adsorpcyjnej. Do zbiornika aglomeracyjnego 113 jest dodawany w sposób ciągły i mieszany za pomocą mieszadła 121 polimerowy środek kłaczkujący BI. Należy zauważyć, że polimerowy środek kłaczkujący BI jest dodawany dla połączenia drobnych cząstek składników stałych poprzez tak zwane zjawisko usieciowania poprzecznego, aby cząsteczki te łatwo osiadały i oddzielały się w zagęstniku 114.

Zagęstnik 114 według tego przykładu stanowi znane urządzenie posiadające zgarniacz 122 do gromadzenia szlamu przy czym ten szlam (składniki stałe) w odcieku odprowadzanym ze zbiornika aglomeracyjnego 113 jest zagęszczany i wyładowywany ze środkowej części dna zagęstnika 114, zaś oczyszczony płyn (to znaczy, obrobiony odciek W2) jest wyładowywany poprzez przelew z górnej części zagęstnika 114.

W urządzeniu do obróbki gazu spalinowego, zawierającego instalację o powyższej konstrukcji jest początkowo prowadzony proces usuwania pyłu z gazu spalinowego jak opisano poniżej i proces obróbki Se zawartego w dużych ilościach w pyle.

Pył (popiół) usuwany przez elektryczny zespół wytrącania pyłu 5 jest odciągany przez zespół odciągający 13 wraz z płynem dostarczanym ze zbiornika filtratu 33 urządzenia odsiarczającego 20 dla otrzymania szlamu. Następnie, do mieszalnika 14 dodaje się środek A powodujący nierozpuszczalność, środek B wspomagający filtrowanie i w razie potrzeby środek regulujący wartość pH.

W tym czasie, czterowartościowy Se (główna postać: kwas selenawy SeC^²), zawarty w szlamie (poniżej nazywanym „szlamem pyłowym”) w mikserze, wytworzonym przez zespół odciągający 13, reaguje ze środkiem A powodującym nierozpuszczalność w postaci FeCb lub Fe₂(SO4)3, jak pokazano przez następujące wzory reakcji (2) i (3) lub (4) i (5), i zostaje przekształcony do postaci nierozpuszczalnego selenitu żelazowego Fe₂(SeO3)3.

FeCl₃ —> Fe³⁺ + 3CF (2)

2Fe³⁺ + 3SeO3²' -> Fe2(SeO₃)3 (3) lub

Fe₂(SO4)3 — 2Fe³⁺ + 3SO₄ ²' (4)

2Fe³⁺ + 3 SeO3²' — Fe2(SeO₃)3 (5)

Następnie, do mieszalnika 101 wprowadza się szlam pyłowy a potem materiał organiczny X i w razie potrzeby płynny środek pomocniczy Y regulujący pH ze źródła 100 adsorbentu, które są mieszane za pomocą mieszadła. Po upływie wystarczająco długiego okresu czasu mieszanina jest podawana do dolnego separatora fazy stałej-ciekłej 15.

187 003

Gdy separator fazy stałej-ciekłej 15 oddzieli szlam pyłowy na materiał stały i ciekły, wówczas można wyładować pyłowe ciasto G, stanowiące materiał stały zawierający w odcieku większość sześciowartościowego Se i czterowartościowego Se, w postaci nieszkodliwej dla środowiska.

Dzieje się tak dlatego, że prawie całość sześciowartościowego Se jest zaadsorbowana przez adsorbent i tym samym oddzielona jako składnik stały wraz z materiałem organicznym X. Nawet jeżeli zastosowany będzie adsorbent w stanie płynnym, to płynny materiał organiczny X zostanie powiązany z sześciowartościowym Se i tym samym wytrącony jako faza stała. Tak więc, większość sześciowartościowego Se będzie zawarta w pyłowym cieście G i zostanie wyładowana. Ponieważ sześciowartościowy Se adsorbowany do materiału organicznego X nie jest łatwo desorbowany w środowisku naturalnym, i ponieważ czterowartościowy Se istnieje również w postaci nierozpuszczalnego seleninu żelazowego jako rezultat powyższej reakcji, zatem pyłowe ciasto G może być wyprowadzane bez jakiejkolwiek dodatkowej obróbki, ponieważ można uregulować poziom zawartości Se. W rezultacie oddziaływania filtracyjnego środka pomocniczego B dodawanego do mieszalnika 14, można uzyskać skuteczne odwodnienie w separatorze fazy stałej-ciekłej 15 dla otrzymania pyłowego ciasta G o małej zawartości wilgoci.

Jakkolwiek filtrat w separatorze fazy stałej-ciekłej 15 zawiera w małej ilości czterowartościowy i sześciowartościowy Se, który nie został oddzielony do materiału stałego, to filtrat ten jest podawany wraz ze szlamem absorbentu do wieży odsiarczającej 21 urządzenia odsiarczającego 20 za pomocą pompy szlamowej 36 tak, że zasadniczo całość zostaje przekształcona do postaci czterowartościowego Se według reakcji (wyrażonej poprzez wzór reakcyjny (1)).

Poniżej opisano usuwanie dwutlenku siarki zawartego w gazie spalinowym, pośrednie wytwarzanie gipsu w urządzeniu do obróbki gazu spalinowego, i usuwanie Se zmieszanego ze szlamem w urządzeniu odsiarczającym 20.

Gaz spalinowy wprowadzany do wieży odsiarczającej 21 jest kontaktowany poprzez pompę cyrkulacyjną 23 ze szlamem absorbentu wtryskiwanym z rury głowicowej 26 tak, że dwutlenek siarki i Se pozostawione w gazie spalinowym są absorbowane i usuwane, a następnie wyładowywane jako obrobiony gaz spalinowy poprzez otwór wyładowczy 21b gazu spalinowego.

Dwutlenek siarki absorbowany przez szlam absorbentu, wtryskiwany z rury głowicowej 26 przepływa w dół przez wypełniacz 27, kontaktowany z dużą ilością pęcherzyków powietrza, które są wdmuchiwane i mieszane poprzez ramię obrotowe 24 dla utlenienia zawartości zbiorników szlamu absorbentu 22. Następnie zachodzi reakcja zobojętnienia dla otrzymania gipsu. W wieży odsiarczającej 21, powyższa reakcja wyrażona poprzez wzór reakcyjny (1) przekształca zasadniczo całą ilość sześciowartościowego Se (główna postać: kwas selenowy SeO4²') w czterowartościowy Se (główna postać: kwas selenawy SeOŚ²'). Ponadto, jest ograniczone utlenianie czterowartościowego Se do sześciowartościowego Se. Należy zauważyć, że główne reakcje (z wyjątkiem powyższej reakcji według wzoru (1)) są wyrażone poprzez następujące wzory reakcyjne (6) do (8):

(Wprowadzenie gazu spalinowego do wieży odsiarczającej)

SO2 + H2O -> H+ + HSO3' (6) (zbiomik)

H* + HSO3· + 1 /2O2-> 2H+ + SO42· (7)

2H+ + SO42' + CaCO3 + H2 -> CaSO4 · 2H2O + CO2 (8)

Tak więc, w zbiorniku szlamu absorbentu 22 powstaje zawiesina gipsu (CaSO4-2H2O), niewielkiej ilości absorbującego kamienia wapiennego (CaCO3), czterowartościowego Se i niewielkiej ilości sześciowartościowego Se, który nie został zredukowany, a następnie ta zawiesina jest zasysana poprzez pompę szlamową 31. Następnie do mieszalnika 14 lub mieszalnika 101 jest dodawany środek A podowujący nierozpuszczalność lub materiał organiczny X, a ponadto w razie potrzeby płynny środek pomocniczy regulujący pH dla zmieszania. Następnie, ta mieszanina jest podawana do separatora fazy stałej-ciekłej 32, odfiltrowana i pobrana jako

187 003 gipsowe ciasto C (zwykła zawartość wody: około 10%), zawierające niewielką ilość wody. Następnie, po rozdzieleniu szlamu odciągniętego ze zbiornika szlamu absorbentu 22 na fazę stałą i ciekłą za pomocą separatora fazy stałej-ciekłej 32, większość zarówno sześciowartościowego Se i czterowartościowego Se zawartego w szlamie staje się nieszkodliwa i zawarta w gipsie C jako składniki stałe przeznaczone do wyprowadzenia. Ponieważ Se jest zawarty w małej ilości, zatem jakość gipsu C nie będzie pogorszona.

Ponieważ stężenie sześciowartościowego Se w szlamie zasysanym przez pompę szlamową 31 jest nadzwyczaj niskie ze względu na zastosowanie regulatora 40 reakcji utleniania-redukcji, zatem źródło 100 adsorbentu i mieszalnik 101 mogą mieć niewielką pojemność. Ponadto, można zredukować ilość dodawanego materiału organicznego X.

Poniżej zostanie opisana funkcja zespołu obróbczego 50 do obróbki odcieku w opisanym powyżej urządzeniu do obróbki gazu spalinowego.

W urządzeniu według tego przykładu, prawie całość Se usuwanego z gazu spalinowego jest po obróbce przekształcana głównie w pyłowe ciasto G lub gips C dla wyprowadzenia jako odpad lub dla ponownego wykorzystania jak opisano powyżej. Jeżeli woda oddzielona z separatora fazy stałej-ciekłej 32 zawiera niewielką ilość pozostającego Se, wówczas część wody jest wyładowywana wraz z odciekiem W1. Jednakże w tym przykładzie, nawet jeżeli ilość Se zawartego w odcieku W1, jest nadzwyczaj mała, to prawie całość Se zostaje usunięta w instalacji zespołu obróbczego 50 do obróbki odcieku.

Tak więc, w zespole obróbczym 50 do obróbki odcieku, wprowadzony odciek W1 jest zasilany w mieszalniku 14 lub mieszalniku 101 środkiem A powodującym nierozpuszczalność lub materiałem organicznym X i w razie potrzeby płynnym środkiem pomocniczym Y regulującym pH dla zmieszania. Następnie, mieszanina ta jest podawana do separatora fazy stałej-ciekłej 102 i odfiltrowana, przez co prawie całość Se zostaje przeniesiona do szlamu i wyładowana. Tak więc, można znacznie obniżyć stężenie Se w odcieku W1 doprowadzanym do udoskonalonej instalacji obróbczej.

Jak opisano powyżej, urządzenie do obróbki gazu spalinowego według fig. 1 może nie tylko przeprowadzać konwencjonalne oczyszczanie (usuwanie pyłu i dwutlenku siarki) gazu spalinowego, ale również usuwać Se z gazu spalinowego do pyłowego ciasta G, gipsu C lub szlamu H dla usunięcia po przekształceniu usuniętego Se w postać nierozpuszczalną.

Ponieważ część płynu krążącego w urządzeniu odsiarczającym 20 jest stosowana jako rozpuszczalnik do odciągania pyłu wytrąconego przez elektryczny zespół wytrącania pyłu 5, zatem można zredukować ilość wody potrzebną do wykorzystania (ilość do krążenia) i do pobrania w porównaniu z konstrukcją, w której woda lub podobna ciecz jest podawana indywidualnie do zespołu odciągającego 13. Tak więc, można również zredukować koszty robocze urządzenia, oraz zredukować pojemność zespołu obróbczego 50 do obróbki odcieku, przez co w rezultacie można zredukować koszty całej instalacji.

Ponieważ filtracyjny środek pomocniczy B jest podawany do mieszalnika 14, zatem za pomocą separatora fazy stałej-ciekłej 15 można uzyskać wysoki stopień odwodnienia. Tak więc, pyłowe ciasto G zawiera tak małą ilość wody, że może być z łatwością obsługiwane, przykładowo podczas transportu.

Na fig. 2 pokazano konstrukcję urządzenia do obróbki gazu spalinowego według drugiego przykładu wykonania wynalazku. Urządzenie do obróbki gazu spalinowego według tego przykładu wykonania ma zastosowany przewód wprowadzający pył 11 (zespół wprowadzania pyłu), przeznaczony do bezpośredniego wprowadzania pyłu wytrąconego przez elektryczny zespół wytrącania pyłu 5 do wieży odsiarczającej 21 urządzenia odsiarczającego 20.

W tym przypadku, prawie całość Se zawartego w gazie spalinowym jest wprowadzana do wieży odsiarczającej 21, gdzie prawie całość sześciowartościowego Se zostaje przekształcona do czterowartościowego Se. Se staje się nierozpuszczalny za pomocą środka A powodującego nierozpuszczalność, lub jest adsorbowany przez materiał organiczny X tak, że zostaje przeniesiony do gipsu C lub do szlamu H w zespole obróbczym 50 do obróbki odcieku. W tym przykładzie, wieża odsiarczająca 21 służy jako zespół odciągający 13 urządzenia z fig. 1, zaś separator fazy stałej-ciekłej 32 działa tak jak separator fazy stałej-ciekłej 15 z fig. 1. Tak

187 003 więc, można pominąć stosowanie zespołu odciągającego 13 i separatora fazy stałej-ciekłej 15 z fig. 1, i można dodatkowo zredukować koszt instalacji.

Jakkolwiek koszt urządzenia pokazanego na fig. 2 może być dodatkowo zredukowany w porównaniu z kosztem urządzenia pokazanego na fig. 1, jednakże istnieje ryzyko uzyskania niewystarczającego odsiarczenia i górnej jakości gipsu C w wyniku wpływów pyłu (zanieczyszczeń), które w dużej ilości przedostają się do wieży odsiarczającej. Jeżeli to ryzyko stwarza rzeczywisty problem, wówczas zaleca się aby stosować konstrukcję z fig. 1 lub z fig. 4 lub 5 opisanych poniżej. Dla rozwiązania tego problemu, szczególnie przystosowana jest konstrukcja z fig. 1.

Dodatek środka A powodującego nierozpuszczalność lub materiału organicznego X może być podawany w położeniu innym niż w miejscu pokazanym na fig. 2, jeżeli dokonuje się tego w urządzeniu odsiarczającym 20. Dodatek ten może również być podawany bezpośrednio do wieży odsiarczającej 21.

Na fig. 3 pokazano trzeci przykład wykonania urządzenia do obróbki gazu spalinowego według wynalazku. Urządzenie do obróbki gazu spalinowego według tego przykładu charakteryzuje się tym, że pominięto w nim elektryczny zespół wytrącania pyłu 5, zaś gaz spalinowy jest wprowadzany bezpośrednio razem z popiołem lotnym do wieży odsiarczającej 21 urządzenia odsiarczającego 20.

W tym przypadku prawie całość Se zawartego w gazie spalinowym jest wprowadzana do wieży odsiarczającej 21, gdzie prawie całość sześciowartościowego Se jest przekształcana do czterowartościowego Se, który następnie jest przekształcany do postaci nierozpuszczalne') za pomocą środka A powodującego nierozpuszczalność lub jest adsorbowany poprzez materiał organiczny X tak, że zostaje przeniesiony do gipsu C lub szlamu H zespołu obróbczego 50 do obróbki odcieku. W tym przypadku, wieża odsiarczająca 21 pełni funkcję elektrycznego zespołu wytrącania pyłu 5 i zespołu odciągającego 13 z fig. 1, zaś separator fazy stałej-ciekłej 32 służy jako separator fazy stałej-ciekłej 15 z fig. 1. Tak więc elektryczny zespół wytrącania pyłu 5, zespół odciągający 13 i separator fazy stałej-ciekłej 15 urządzenia z fig. 1 mogą być pominięte i z tego względu dodatkowo można zredukować koszt instalacji.

Jakkolwiek koszt ten może być dodatkowo zredukowany w porównaniu z urządzeniem pokazanym na fig. 1, jednakże istnieje niebezpieczeństwo uzyskania niezadawalającego odsiarczenia gipsu C w wyniku wpływu pyłu (zanieczyszczeń) który w dużej ilości przedostaje się do wieży absorpcyjnej. Jeżeli niebezpieczeństwo to staje się rzeczywistym problemem, wówczas zaleca się stosowanie konstrukcji według fig. 1, fig. 4 albo 5 jak opisano poniżej. Dla rozwiązania tego problemu, szczególnie korzystna jest konstrukcja urządzenia z fig. 1.

Na fig. 4 pokazano czwartą postać wykonania urządzenia do obróbki gazu spalinowego według wynalazku. Urządzenie do obróbki gazu spalinowego według tego przykładu charakteryzuje się konstrukcją, w której zastosowano urządzenie odsiarczające 60 mające wieżę chłodzącą i usuwającą pył 61 do chłodzenia gazu spalinowego i usuwania pyłu z gazu spalinowego, umieszczone przed wieżą odsiarczającą 21, zaś pył wytrącany przez elektryczny zespół wytrącania pyłu 5 jest wprowadzany bezpośrednio do wieży chłodzącej i usuwającej pył 61 urządzenia odsiarczającego 60 przez przewód wprowadzający pył 12 (zespół wprowadzania pyłu) i środek A powodujący nierozpuszczalność lub materiał organiczny X, dodawane do mieszalnika 14 lub mieszalnika 101, do szlamu odciąganego z wieży chłodzącej i usuwającej pył 61, a następnie jest przeprowadzane oddzielanie fazy stałej-ciekłej za pomocą separatora fazy stałej-ciekłej 15.

Wieża chłodząca i usuwająca pył 61 jest zasilana płynem ze zbiornika 33 filtratu za pomocą pompy 34, przy czym płyn jest wtryskiwany z rury głowicowej 63 górnej części za pomocą pompy cyrkulacyjnej 62. Pomiędzy wieżą chłodzącą i usuwającą pył 61 a wieżą odsiarczającą 21 jest zastosowany eliminator mgły (nie pokazany).

W tym przypadku, prawie całość Se zawartego w gazie spalinowym jest najpierw wprowadzana do wieży chłodzącej i usuwającej pył 61, gdzie następuje reakcja według wzoru reakcyjnego (1) tak, że prawie całość sześciowartościowego Se zostaje przekształcona do czterowartościowego Se. Następnie Se zostaje przekształcony do postaci nierozpuszczalnej za pomocą środka A powodującego nierozpuszczalność lub adsorbowany poprzez materiał orga187 003 niczny X tak, że jest przenoszony do pyłowego ciasta G lub szlamu H. W tym przypadku, wieża chłodząca i usuwająca pył 61 służy jako zespół odciągający 13 z fig. 1. Tak więc, można pominąć zespół odciągający 13 urządzenia z fig. 1, co dodatkowo redukuje koszt instalacji.

Ponadto, konstrukcja urządzenia według fig. 4 może zapobiegać przedostawaniu się dużej ilości pyłu do wieży odsiarczającej 21, w porównaniu z fig. 2 i 3. Z tego względu, można nawet dodatkowo zredukować koszt instalacji, wraz z uzyskaniem zadawalającego odsiarczenia i wysokiej jakości gipsu C.

Środek A powodujący nierozpuszczalność, materiał organiczny X lub podobne środki mogą być dodawane bezpośrednio do wieży chłodzącej i usuwającej pył 61.

Podobną konstrukcję można zastosować do obróbki Se w przewodzie wyprowadzania szlamu (przed separatorem fazy stałej-ciekłej 32) urządzenia odsiarczającego 20 (mieszalnik 14, źródło 16 środka powodującego nierozpuszczalność, mieszalnik 101 i źródło 100 adsorbentu) dla dalszego usuwania Se.

Na fig. 5 pokazano piąty przykład wykonania urządzenia do obróbki gazu spalinowego według wynalazku. Urządzenie do obróbki gazu spalinowego według tego przykładu charakteryzuje się tym, że urządzenie odsiarczające 60 posiada wieżę chłodzącą i usuwającą pył 61 do chłodzenia gazu spalinowego i usuwania pyłu, umieszczoną przed wieżą odsiarczającą 21, zaś gaz spalinowy, z którego nie został usunięty pył jest wprowadzany bezpośrednio do wieży chłodzącej i usuwającej pył 61 urządzenia odsiarczającego 60, środek A powodujący nierozpuszczalnośc lub materiał organiczny X są dodawane do mieszalnika 14 lub mieszalnika 101 i do szlamu odciąganego z wieży chłodzącej i usuwającej pył 61, a następnie za pomocą separatora fazy stałej-ciekłej 15 dokonuje się oddzielenia fazy stałej-ciekłej.

W tym przypadku, prawie całość Se zawartego w gazie spalinowym jest wprowadzana do wieży chłodzącej i usuwającej pył 61, gdzie następuje reakcja według wzoru reakcyjnego (1) tak, że prawie całość sześciowartościowego Se zostaje przekształcona w cztero wartościowy Se. Następnie, poprzez dodanie środka A powodującego nierozpuszczalność czterowartościowy Se staje się nierozpuszczalny lub adsorbowany przez materiał organiczny X tak, że zostaje przeniesiony do pyłowego ciasta G lub szlamu H. W tym przypadku, wieża odsiarczająca 61 służy jako elektryczny zespół wytrącania pyłu 5 i zespół odciągający 13 z fig. 1. Tak więc elektryczny zespół wytrącania pyłu 5 i zespół odciągający 13 z urządzenia z fig. 1 mogą być pominięte, co dodatkowo redukuje koszt instalacji.

Ponadto, konstrukcja urządzenia według fig. 5 może zapobiegać wchodzeniu dużej ilości pyłu do wieży odsiarczającej 21, w porównaniu z urządzeniem według fig. 2 i 3. Odpowiednio do tego, można dodatkowo zredukować koszt instalacji i uzyskiwać zadawalające odsiarczenie i wysokąjakość gipsu C.

Podobną konstrukcję można zastosować do obróbki Se w przewodzie odciągania szlamu (przed separatorem fazy stałej-ciekłej 32) urządzenia odsiarczającego 20 (mieszalnik 14, źródło 16 środka powodującego nierozpuszczalność, mieszalnik 101 i źródło 100 adsorbentu) dla dalszego usuwania Se.

Na fig. 7 pokazano zespół obróbczy do obróbki odcieku odmienny od zespołu do obróbki odcieku z fig. 6, w którym są wzajemnie wymienione położenia zbiornika 111 do obróbki nierozpuszczającej i zbiornika 112 do obróbki adsorpcyjnej. Ponieważ reakcje przekształcania czterowartościowego Se do postaci nierozpuszczalnej za pomocą środka A powodującego nierozpuszczalność i adsorbowania sześciowartościowego Se poprzez materiał organiczny X mogą być prowadzone w kolejności odwrotnej, zatem można skutecznie usunąć całość czterowartościowego Se i sześciowartościowego Se, przekształconego w postać nieszkodliwą dla otoczenia, podobnie do zespołu do obróbki odcieku pokazanego na fig. 6.

Na fig. 8 pokazano zespół obróbczy do obróbki odcieku podobny do zespołu do obróbki odcieku pokazanego na fig. 6 z tym wyjątkiem, że dodatkowo ma instalację typu stałej podłogi dla adsorbowania sześciowartościowego Se jak pokazano na fig. 8, umieszczoną za zagęstnikiem 114 w zbiorniku 112.

Instalacja ta zawiera zbiomik 202 do regulacji pH, do którego jest wprowadzany przez przewód 201 odciek W2 (sklarowany płyn w zagęstniku 114) zawierający sześciowartościowy Se, zaś za zbiornikiem 202 znajdują się dwie upakowane wieże 204 i 205, do których przez przewód 203

187 003 jest wprowadzany odciek o uregulowanym pH, przewód 206 odprowadzania obrobionego odcieku odprowadza obrobiony odciek W3 z upakowanych wież 204 i 205, przewód 207 zasilania płynem podaje płynny środek pomocniczy Y regulujący pH do zbiornika 202 regulującego pH, przewody 208, 209 zasilania płynem odtwarzającym podają płyn odtwarzający do upakowanej wieży 204 i 205, zaś przewód 210 odprowadzania płynu odtwarzającego wyładowywuje płyn odtwarzający z upakowanych wież 204 i 205.

Jako elementy układu kontrolnego można zastosować czujnik do stwierdzania wartości pH w zbiorniku 202 do regulacji pH i regulator do regulowania stopnia otwarcia zaworu regulacji wielkości przepływu, który jest zastosowany w przewodzie 207 zasilania płynu regulującego pH dla utrzymania wartości pH w zbiorniku we wstępnie określonym zakresie, w którym występuje wzmożona adsorpcja. Ponadto można zastosować regulator, który automatycznie reguluje wybór upakowanej wieży 204 i 205, do której ma być podawany płyn odtwarzający przez regulowanie zaworów otwierająco/zamykających lub zaworów przełączających przepływ, które są umieszczone w każdym z przewodów 203, 206, 208, 209 i 210.

Upakowane wieże 204 i 205 stanowią wieże do obróbki kontaktowej typu ustalonej podłogi, wypełnione wypełniaczami 204a i 205a, zawierającymi stały materiał organiczny X.

Jako płynny środek pomocniczy Y regulujący pH można przykładowo zastosować wodny roztwór kwasu siarkowego (H2SO4) jako kwas oraz wodny roztwór sody kaustycznej (NaOH) jako związek alkaliczny. Zaleca się, aby zastosować dwa rodzaje przewodów 207 zasilania płynu regulującego pH, to jest przewód kwasowy i przewód alkaliczny. Wartość pH w zbiorniku 202 do regulacji pH jest kontrolowana tak, aby wynosiła około 2 do 8, a korzystnie 4 do 6. Jako płyn odtwarzający Z można zastosować wodny 1 do 2N roztwór kwasu chlorowodorowego.

W zespole do obróbki odcieku pokazanym na fig. 8, jest regulowane pH odcieku Wl w zbiorniku 202, a następnie odciek Wl jest wprowadzany do upakowanej wieży 204 i/lub upakowanej wieży 205, w której jest adsorbowany i usuwany sześciowartościowy Se, a następnie obrobiony odciek jest odprowadzany przewodem 206. Upakowana wieża 204 lub upakowana wieża 205 są korzystnie zasilane płynem odtwarzającym Z tak, że Se adsorbowany przez materiał organiczny X wypełniaczy 204a i 205a jest wymywany do płynu odtwarzającego. Płyn odtwarzający zawierający desorbowany Se jest odprowadzany przewodem 210.

Wynalazek obecny nie jest ograniczony do rozwiązań powyższych, ponieważ dopuszcza rozmaitość odmian. Przykładowo, konstrukcja urządzenia odsiarczającego nie jest ograniczona do urządzenia typu utleniania na miejscu, pokazanego w powyższych przykładach. Przykładowo, można zastosować inną konstrukcję, w której jest indywidualnie zastosowana wieża utleniająca, do której jest wprowadzany szlam odciągany z wieży odsiarczającej, zaś powietrze jest wdmuchiwane do wieży utleniającej dla przeprowadzania końcowych reakcji utleniania-redukcji. Również w tym przypadku, sześciowartościowy Se zostaje przekształcony do czterowartościowego Se w wieży absorbcyjnej lub wieży utleniającej.

Zespół odciągający i mieszalnik nie muszą zawsze stanowić indywidualnych zbiorników. Przykładowo, można zastosować konstrukcję w której odciąganie pyłu i mieszanie środka powodującego nierozpuszczalność są przeprowadzane w pojedynczym zbiorniku.

Odnośnie przykładów wykonania urządzenia pokazanych na fig. 1 do 3, można pominąć konstrukcję, w skład której wchodzi mieszalnik 14, źródło 16 środka powodującego nierozpuszczalność, mieszalnik 101, źródło 100 adsorbentu zastosowaną w przewodzie odprowadzania szlamu (przed separatorem fazy stałej-ciekłej 32) tak, że środek A powodujący nierozpuszczalność lub inne mogą być dodawane w jednym miejscu w zespole obróbczym 50 do obróbki odcieku. Ponieważ płynny szlam w wieży absorpcyjnej i wieży chłodzenia i usuwania pyłu w urządzeniu odsiarczającym jest na koniec obrabiany za pomocą zespołu obróbczego 50 do obróbki odcieku, zatem obróbka usuwająca całość Se może być przeprowadzona nawet wówczas, jeżeli środek A powodujący nierozpuszczalność lub podobny jest dostarczany jedynie do zespołu do obróbki odcieku.

Woda oddzielona przez separator fazy stałej-ciekłej 15 może być wprowadzana bezpośrednio do zespołu obróbczego 50 do obróbki odcieku w urządzeniu z fig. 1 lub podobnym.

Jako zespół obróbczy do obróbki odcieku można zastosować tak zwane urządzenie bezodciekowe. Mianowicie, płyn krążący odprowadzany z urządzenia odsiarczającego, po usu187 003 nięciu Se i innych zanieczyszczeń, powraca ponownie do urządzenia odsiarczającego (przykładowo, do zbiornika 35 filtratu) bez wytwarzania odcieku.

Poniższe przykłady potwierdzają wydajność adsorbowania materiału organicznego X.

Przykład 1

W przykładzie tym przeprowadzono test usuwania Se przez zastosowanie czynnika chelatyzującego.

Dostępny w handlu czynnik chelatyzujący (grupa chelatyzująca: -NH-CS2H, -SH) dodano do odcieku zawierającego czterowartościowy Se i sześciowartościowy Se w ilości 50 mg/l. Następnie dodano NaOH dla wyregulowania wartości pH na około 7 i zbadano efekt usuwania czterowartościowego Se i sześciowartościowego Se. Rezultaty podano w tabeli 1. Jakkolwiek czterowartościowy Se mógł być usunięty przez czynnik chelatyzujący, to jednak sześciowartościowy Se zasadniczo nie mógł być usunięty. Tak więc należy uznać, że czynnik chelatyzujący nie jest skuteczny do usuwania sześciowartościowego Se.

Tabela 1

Rezultaty testu usuwania Se z zastosowaniem czynnika chelatyzującego

Pozycje	Przed badaniem	Po badaniu
Stężenie czterowartościowego Se w odcieku (mg/l)	1,61	0,090
Stężenie sześciowartościowego Se w odcieku (mg/l)	0,472	0,471

Przykład 2

W przykładzie tym przeprowadzono test usuwania Se z zastosowaniem FeCl.3.

Do odcieku zawierającego czterowartościowy Se i sześciowartościowy Se dodano FeCl3 w ilości Fe^:’⁺ wynoszącej 110 mg/l. Następnie dodano NaOH dla uregulowania pH na około 7 i zbadano efekt usuwania czterowartościowego Se i sześciowartościowego Se. Stwierdzono, że FeCl3 skutecznie usuwa czterowartościowy Se, jednakże jest zasadniczo nieskuteczny do usuwania sześciowartościowego Se.

Tabela 2

Rezultaty testu usuwania Se z zastosowaniem FeCl₃

Pozycje	Przed badaniem	Po badaniu
Stężenie czterowartościowego Se w odcieku (mg/l)	1,61	0,042
Stężenie sześciowartościowego Se w odcieku (mg/l)	0,472	0,470

Przykład 3

W przykładzie tym do testu usuwania poprzez adsorbowanie czterowartościowego Se i sześciowartościowego Se z odcieku z procesu odsiarczania zastosowano błony skorupek jaj, które stanowią materiały organiczne. Skorupki jaj zanurzono w 5% HCl dla wymywania jonów wapnia, które stanowią jony metalu stanowiące skorupkę jaja, dla uzyskania błon skorupkowych. Następnie te błony skorupkowe przemyto 0,5 N NaOH i wodą destylowaną dla otrzymania błon skorupkowych do potrzeb testu. Otrzymane błony skorupkowe zastosowano w testach usuwania poprzez adsorbowanie czterowartościowego Se i sześciowartościowego Se w warunkach przedstawionych w tabeli 3. Badania te przeprowadzono w ten sposób, że zanurzono błony skorupkowe w odsiarczonym odcieku w kadzi przy każdej wartości pH, z mieszaniem przez wstępnie określony czas, a następnie zanalizowano stężenia czterowartościowego Se i sześciowartościowego Se w płynie.

187 003

Tabela 3

Warunki testu usuwania Se poprzez adsorbcję

Pozycje	Warunki
Początkowe stężenie Se Se⁴⁺ w odsiarczonym odcieku	4,06 mg/l
Początkowe stężenie Se Se⁶⁺ w odsiarczonym odcieku	4,25 mg/l
Ilość skorupek jaj	0,03 g
Ilość odsiarczonego odcieku	20 ml
Temperatura	25°C
Czas	3 godz
Mieszanie	Dokonywane
Regulacja pH	Regulowane przez dodatek H2SO4 lub NaOH

Na fig. 9 przedstawiono wykres przedstawiający rezultaty testu (stężenie Se po obróbce przy każdym pH), to jest wpływ pH na wydajność błon skorupkowych pod względem adsorbowania czterowartościowego Se i sześciowartościowego Se dla ich usunięcia. Jak można zauważyć na podstawie tych rezultatów, błony skorupkowe mają taką właściwość że mogąadsorbować Se (czterowartościowy Se i sześciowartościowy Se) dla jego usunięcia w zakresie pH od około 2 do 8, a korzystnie 4 do 6. W szczególności, otrzymano znaczącą wydajność usuwania Se przez adsorbowanie sześciowartościowego Se. Jakkolwiek sześciowartościowy Se nie łatwo może być usunięty poprzez zwykły czynnik chelatyzujący lub FeCh, to jednak poprzez błony skorupkowe można uzyskać selektywną obróbkę sześciowartościowego Se. Ponieważ obróbka czterowartościowego Se może być łatwo dokonana przez zastosowanie FeCl; lub czynnika chelatyzującego, zatem kombinacja powyższych materiałów umożliwia znaczne obniżenie całkowitego stężenia Se. W konsekwencji, można łatwo uzyskać zadowalające uregulowanie odcieku na wartość 0,1 mg/l.

Przykład 4

W przykładzie tym dla przeprowadzenia badań usuwania sześciowartościowego Se z odsiarczonego odcieku zastosowano stałe lub ciekłe materiały organiczne takie jak błony skorupkowe, pióra i wełnę w zbiorniku reakcyjnym typu przepływowego.

Stały materiał organiczny otrzymano następująco. Skorupki jaj kurzych zanurzono początkowo w 5% wag. roztworu kwasu chlorowodorowego przez około 10 godzin tak, że rozpuszczono te skorupki jaj, głównie zbudowane z węglanu wapnia, jak opisano powyżej. Następnie, pozostałe błony skorupkowe przepłukano destylowaną wodą dla usunięcia pyłu i podobnych, a następnie osuszono i przemyto 0,1 N wodorotlenkiem sodowym tak, aby usunąć białko jaj, otrzymując błony skorupek jaj dla potrzeb testu.

Pióra (w tym przypadku pióra kurze) lub wełnę przepłukano 0,1 N do 0,5 N wodorotlenkiem sodowym dla usunięcia składników oleistych a następnie przemyto destylowaną wodą, otrzymując pióra lub wełnę dla potrzeb testu.

Ciekłą postać materiałów organicznych otrzymano przez zanurzenie błon skorupkowych, piór lub wełny poddanych powyższym procesom w 30% wag. roztworze wodorotlenku sodowego przez około 20 godzin, w zwykłej temperaturze tak, aby uległy rozpuszczeniu. Ilość przeznaczona do rozpuszczenia wynosiła około 5 g materiału organicznego na 50 cm³ roztworu wodorotlenku sodowego.

W przykładzie tym, odsiarczony odciek zawierający sześciowartościowy Se w stężeniu 1,020 mg/l i w temperaturze 25°C wprowadzono w sposób ciągły do zbiornika reakcyjnego mającego skuteczną pojemność 20 l z szybkością przepływu 20 l/godz z zastosowaniem prędkości 200 obr./min.

Materiał organiczny dodawano w takiej ilości, że stężenie materiału organicznego (stałego lub ciekłego) w zbiorniku reakcyjnym wyniosło 2g/l pod względem materiału stałego,

187 003 a następnie dodano H2SO4 lub NaOH dla uregulowania pH w zbiorniku reakcyjnym do wstępnie określonej wartości. Wówczas przeprowadzono testy na usuwanie sześciowartościowego Se.

Pobrano próbki odcieku wyładowywanego ze zbiornika reakcyjnego i odfiltrowano je za pomocą filtra szklanego 1 pm, a następnie zanalizowano sześciowartościowy Se w filtracie. Rezultaty przedstawiono w tabeli 4. Sześciowartościowy Se w odcieku, którego usunięcie było poprzednio bardzo utrudnione, został w znaczącym stopniu usunięty w zakresie pH od 4 do 6 poprzez każdy ze wspomnianych materiałów organicznych.

Tabela 4

Rezultaty usuwania sześciowartościowego Se z zastosowaniem materiału organicznego

Materiały organiczne Stężenia sześciowartościowego Se	Błony skorupek	Pióra	Wełna
Mat. stały	Mat. ciekły	Mat. stały	Mat. ciekły	Mat. stały	Mat. ciekły
Stężenie sześciowar- tościowego S w filtra- cie z odcieku przy wylocie ze zbiornika reakcyjnego (mg/l)	pH=2	0,792	0,715	1,020	0,990	1,011	1,003
pH=3	0,729	0,708	0,810	0,792	0,833	0,809
pH=4	0,014	0,012	0,087	0,092	0,206	0,201
pH=5	0,015	0,013	0,095	0,098	0,236	0,218
pH=6	0,153	0,150	0,304	0,297	0,372	0,381
pH=7	0,742	0,738	0,795	0,803	0,851	0,842
pH=8	0,840	0,829	0,873	0,904	0,911	0,895

Jakkolwiek nie została wyjaśniona zasada według której adsorbent w postaci materiału organicznego może adsorbować Se, to jednak można zastosować następujące rozważanie. Proteiny tworzące błony skorupkowe, pióra lub wełnę mają molekuły o budowie poprzecznie usieciowanej, i mają wysoką stabilność chemiczną. Ponadto, ponieważ proteiny są zbudowane z włókien siatkowych, zatem proteiny takie mają nadzwyczaj dużą powierzchnię właściwą Ponieważ proteiny powyższego rodzaju zawierają grupy NH i grupy C=O szkieletu peptydowego i grupę NH3, grupę COOH i grupę OH oraz grupę SH odgałęzionych łańcuchów, zatem ich wzajemne oddziaływania powodują zdolność adsorbowania rozmaitych jonów, przy odpowiednim poziomie pH. Tak więc, materiał organiczny nie jest ograniczony do błon skorupkowych, piór albo wełny, bowiem równie dobrze można zastosować jako adsorbent według obecnego wynalazku inne materiały organiczne mające podobną strukturę.

187 003

FIG.2

OJ

187 003

F 1 G.4

187 003

F I G.6

F IG.7

Y Y

187 003

F I G.8

210

187 003

F I G.9

pH (-)

187 003

FIG.

Departament Wydawnictw UP RP. Nakład 70 egz. Cena 6,00 zł.

Claims

Zastrzeżenia patentowe

1. Urządzenie do obróbki gazu spalinowego, zawierającego dwutlenek siarki, pył i Se, wyposażone w zespół odsiarczający w postaci wieży odsiarczającej zawierającej zbiomik szlamu absorbentu, przy czym w górnej części wieży odsiarczającej znajduje się wlot gazu spalinowego i wylot obrobionego gazu spalinowego, a w dolnej części zbiornika szlamu absorbentu znajduje się wylot szlamu, znamienne tym, że przed wieżą odsiarczaj ącą (21) znajduje się zespół wytrącania pyłu (5) typu suchego, do którego wylotu jest podłączony zespół odciągający (13), przy czym wylot zespołu odciągającego (13) jest połączony z wlotem mieszalnika (14), do którego dodatkowo jest przyłączony wylot źródła (16) środka (A) powodującego nierozpuszczalność przynajmniej czterowartościowego Se, zaś wylot mieszalnika (14) jest połączony z wlotem drugiego mieszalnika (101), do którego dodatkowo jest przyłączony wylot źródła (100) adsorbentu przynajmniej sześciowartościowego Se stanowiącego materiał, przy czym wylot drugiego mieszalnika (101) jest połączony z separatorem fazy stałej-ciekłej (15).
2. Urządzenie według zastrz. 1, znamienne tym, że pomiędzy wieżą odsiarczającą (21) a zespołem odciągającym (13) znajduje się rura łącznikowa, przyłączona do wylotu zbiornika szlamu absorbentu (22) w wieży odsiarczającej (21), zaś pomiędzy wieżą odsiarczającą (21) a separatorem fazy stałej-ciekłej (15) znajduje się rura łącznikowa, połączona z wylotem zbiornika (35) filtratu oddzielonego przez separator fazy stałej-ciekłej (15) i z wlotem zbiornika szlamu absorbentu (22) w wieży odsiarczającej (21).
3. Urządzenie według zastrz. 1, znamienne tym, że z wlotem mieszalnika (14) szlamu pyłowego jest połączony wylot źródła (17) filtracyjnego środka pomocniczego (Y).
4. Urządzenie według zastrz. 1 albo 2, znamienne tym, że wieża odsiarczająca (21) jest wyposażona w regulator reakcji utleniania-redukcji (40), zawierający czujnik (41) i zawór regulacyjny (42), połączone poprzez regulator (43).
5. Urządzenie według zastrz. 1 albo 2, znamienne tym, że wieża odsiarczająca (21) jest wyposażona w zespół obróbczy (50) do obróbki odcieku (W1), zawierający źródło (16) środka (A) powodującego nierozpuszczalność przynajmniej czterowartościowego Se, mające wylot połączony z wlotem mieszalnika (14) odcieku, oraz źródło (100) adsorbentu przynajmniej sześciowartościowego Se, stanowiącego materiał organiczny (X), mające wylot połączony z wlotem drugiego mieszalnika (101).
6. Urządzenie według zastrz. 1 albo 2, znamienne tym, że wieża odsiarczająca (21) jest wyposażona w zespół obróbczy (50) do obróbki odcieku (W1), zawierający źródło (16) środka (A) powodującego nierozpuszczalność przynajmniej czterowartościowego Se, i wieżę (204, 205) z ustaloną podłogrą wypełnioną upakowanym w stanie stałym wypełniaczem (204a, 205a) zawierającym adsorbent przynajmniej sześciowartościowego Se, stanowiący materiał organiczny (X), z którą to wieżą (204, 205) jest połączony wylot przewodu (203) prowadzącego odciek (W2).
7. Urządzenie do obróbki gazu spalinowego, zawierającego dwutlenek siarki, pył i Se, wyposażone w zespół odsiarczający w postaci wieży odsiarczającej zawierającej zbiomik szlamu absorbentu, przy czym w górnej części wieży odsiarczającej znajduje się wlot gazu spalinowego i wylot obrobionego gazu spalinowego, a w dolnej części zbiornika szlamu absorbentu znajduje się wylot szlamu, znamienne tym, że przed wieżą odsiarczającą (21) znajduje się zespół wytrącający pył (5) typu suchego, którego wylot jest połączony z przewodem wprowadzającym pył (11), którego wylot jest podłączony do zbiornika szlamu absorbentu (22) w wieży odsiarczającej (21), zaś wylot zbiornika szlamu absorbentu (22) jest połączony z wlotem mieszalnika (14), do którego dodatkowo jest podłączony wylot źródła (16) środka (A) powodującego nierozpuszczalność przynajmniej czterowartościowego Se, natomiast z wlotem drugiego mieszalnika (101) jest połączony wylot mieszalnika (14) i wylot źródła (100) adsorbentu adsorbującego przynajmniej sześciowartościowy Se, który to adsorbent stanowi materiał organiczny (X).

187 003
8. Urządzenie według zastrz. 7, znamienne tym, że wieża odsiarczająca (21) jest wyposażona w regulator reakcji utleniania-redukcji (40), zawierający czujnik (41) i zawór regulacyjny (42), połączone poprzez regulator (43).
9. Urządzenie według zastrz. 7, znamienne tym, że wieża odsiarczająca (21) jest wyposażona w zespół obróbczy (50) do obróbki odcieku (W1), zawierający źródło (16) środka (A) powodującego nierozpuszczalność przynajmniej czterowartościowego Se, mające wylot połączony z wlotem mieszalnika (14), oraz źródło (100) adsorbentu przynajmniej sześciowartościowego Se, stanowiącego materiał organiczny (X), mające wylot połączony z wlotem drugiego mieszalnika (101).
10. Urządzenie według zastrz. 7, znamienne tym, że wieża odsiarczająca (21) jest wyposażona w zespół obróbczy (50) do obróbki odcieku (W1), zawierający źródło (16) środka (A) powodującego nierozpuszczalność przynajmniej czterowartościowego Se, i wieżę (204, 205) z ustaloną podłogą, wypełnioną upakowanym w stanie stałym wypełniaczem (204a, 205a) zawierającym adsorbent przynajmniej sześciowartościowego Se, stanowiący materiał organiczny (X), z którą to wieżą (204,205) jest połączony wylot przewodu (203) prowadzącego odciek (W2).
11. Urządzenie do obróbki gazu spalinowego, zawierającego dwutlenek siarki, pył i Se, wyposażone w zespół odsiarczający w postaci wieży odsiarczającej zawierającej zbiornik szlamu absorbentu, przy czym w górnej części wieży odsiarczającej znajduje się wlot gazu spalinowego i wylot obrobionego gazu spalinowego, a w dolnej części zbiornika szlamu absorbentu znajduje się wylot szlamu, znamienne tym, że przed wieżą odsiarczającą (21) znajduje się przewód wprowadzający gaz spalinowy zawierający pył, taki jak nieusunięty popiół lotny, połączony bezpośrednio z wlotem do wieży odsiarczającej (21), zaś wylot zbiornika szlamu absorbentu (22) jest połączony z wlotem mieszalnika (14), do którego jest podłączony dodatkowo wylot źródła (16) środka (A) powodującego nierozpuszczalność przynajmniej czterowartościowego Se, zaś wylot mieszalnika (14) jest połączony z wlotem drugiego mieszalnika (101), do którego jest podłączony dodatkowo wylot źródła (100) adsorbentu adsorbującego przynajmniej sześciowartościowy Se, stanowiącego materiał organiczny (X).
12. Urządzenie według zastrz. 11, znamienne tym, że wieża odsiarczająca (21) jest wyposażona w regulator reakcji utleniania-redukcji (40), zawierający czujnik (41) i zawór regulacyjny (42), połączone poprzez regulator (43).
13. Urządzenie według zastrz. 11, znamienne tym, że wieża odsiarczająca (21) jest wyposażona w zespół obróbczy (50) do obróbki odcieku (W1), zawierający źródło (16) środka (A) powodującego nierozpuszczalność przynajmniej czterowartościowego Se, mające wylot połączony z wlotem mieszalnika (14), oraz źródło (100) adsorbentu przynajmniej sześciowartościowego Se, stanowiącego materiał organiczny (X), mające wylot połączony z wlotem drugiego mieszalnika (101).
14. Urządzenie według zastrz. 11, znamienne tym, że wieża odsiarczająca (21) jest wyposażona w zespół obróbczy (50) do obróbki odcieku (W1), zawierający źródło (16) środka (A) powodującego nierozpuszczalność przynajmniej czterowartościowego Se, i wieżę (204, 205) z ustaloną podłogą wypełnioną upakowanym w stanie stałym wypełniaczem zawierającym adsorbent przynajmniej sześciowartościowego Se, stanowiący materiał organiczny (X), przy czym z wieżą (204, 205) jest połączony wylot przewodu (203) prowadzącego odciek (W2).
15. Urządzenie do obróbki gazu spalinowego, zawierającego dwutlenek siarki, pył i Se, wyposażone w zespół odsiarczający w postaci wieży odsiarczającej zawierającej zbiornik szlamu absorbentu, przy czym w górnej części wieży odsiarczającej znajduje się wlot gazu spalinowego i wylot obrobionego gazu spalinowego, a w dolnej części zbiornika szlamu absorbentu znajduje się wylot szlamu, znamienne tym, że przed wieżą odsiarczającą (21) znajduje się zespół wytrącania pyłu (5) typu suchego oraz wieża chłodząca i usuwająca pył (61), przy czym z wylotem zespołu wytrącania pyłu (5) jest połączony przewód wprowadzający pył (12), mający wylot połączony ze zbiornikiem szlamu pyłu w wieży chłodzącej i usuwającej pył (61), którego wylot jest połączony z wlotem mieszalnika (14), do którego dodatkowo jest podłączony wylot źródła (16) środka (A) powodującego nierozpuszczalność przynajmniej czterowartościowego Se, zaś wylot mieszalnika (14) jest połączony z wlotem drugiego mieszalnika (101), do którego dodatkowo jest podłączony wylot źródła (100) adsorbentu adsorbującego przynajmniej

187 003 sześciowartościowy Se, stanowiącego materiał organiczny (X), zaś wylot mieszalnika (101) jest połączony z wlotem separatora fazy stałej-ciekłej (15).
16. Urządzenie według zastrz. 15, znamienne tym, że wieża odsiarczająca (21) jest wyposażona w regulator reakcji utleniania-redukcji (40), zawierający czujnik (41) i zawór regulacyjny (42), połączone poprzez regulator (43).
17. Urządzenie według zastrz. 15, znamienne tym, że wieża odsiarczająca (21) jest wyposażona w zespół obróbczy (50) do obróbki odcieku (W1), zawierający źródło (16) środka (A) powodującego nierozpuszczalność przynajmniej czterowartościowego Se, mające wylot połączony z wlotem mieszalnika (14), oraz źródło (100) adsorbentu przynajmniej sześciowartościowego Se, stanowiącego materiał organiczny (X), mające wylot połączony z wlotem drugiego mieszalnika (101).
18. Urządzenie według zastrz. 15, znamienne tym, że wieża odsiarczająca (21) jest wyposażona w zespół obróbczy (50) do obróbki odcieku (W1), zawierający źródło (16) środka (A) powodującego nierozpuszczalność przynajmniej czterowartościowego Se i wieżę (204, 205) z ustaloną podłogą, wypełnioną upakowanym w stanie stałym wypełniaczem (204a, 205a) zawierającym adsorbent przynajmniej sześciowartościowego Se, stanowiący materiał organiczny (X), z którą to wieżą (204,205) jest połączony wylot przewodu (203) prowadzącego odciek (W2).
19. Urządzenie do obróbki gazu spalinowego, zawierającego dwutlenek siarki, pył i Se, wyposażone w zespół odsiarczający w postaci wieży odsiarczającej zawierającej zbiomik szlamu absorbentu, przy czym w górnej części wieży odsiarczającej znajduje się wlot gazu spalinowego i wylot obrobionego gazu spalinowego, a w dolnej części zbiornika szlamu absorbentu znajduje się wylot szlamu, znamienne tym, że przed wieżą odsiarczającą (21) znajduje się wieża chłodząca i usuwająca pył (61), wyposażona w przewód wprowadzający gaz spalinowy, zawierający pył taki jak nieusunięty popiół lotny, przy czym wylot zbiornika szlamu w wieży chłodzącej i usuwającej pył (61) jest połączony z wlotem mieszalnika (14), z którym dodatkowo jest połączony wylot źródła (16) środka (A) powodującego nierozpuszczalność przynajmniej czterowartościowego Se, zaś wylot mieszalnika (14) jest połączony z wlotem drugiego mieszalnika (101), do którego jest dodatkowo podłączony wylot źródła (100) adsorbentu adsorbującego przynajmniej sześciowartościowy Se, stanowiącego materiał organiczny (X), zaś do wylotu drugiego mieszalnika (101) jest podłączony separator fazy stałej-ciekłej (15).
20. Urządzenie według zastrz. 19, znamienne tym, że wieża odsiarczająca (21) jest wyposażona w regulator reakcji utleniania-redukcji (40), zawierający czujnik (41) i zawór regulacyjny (42), połączone poprzez regulator (43).
21. Urządzenie według zastrz. 19, znamienne tym, że wieża odsiarczająca (21) jest wyposażona w zespół obróbczy (50) do obróbki odcieku (W1), zawierający źródło (16) środka (A) powodującego nierozpuszczalność przynajmniej czterowartościowego Se, mające wylot połączony z wlotem mieszalnika (14), oraz źródło (100) adsorbentu przynajmniej sześciowartościowego Se, stanowiącego materiał organiczny (X), mające wylot połączony z wlotem drugiego mieszalnika (101).
22. Urządzenie według zastrz. 19, znamienne tym, że wieża odsiarczająca (21) jest wyposażona w zespół obróbczy (50) do obróbki odcieku (W'1), zawierający źródło (16) środka (A) powodującego nierozpuszczalność przynajmniej czterowartościowego i wieżę (204, 205) z ustaloną podłogą, wypełnioną upakowanym w stanie stałym wypełniaczem (204a, 205a) zawierającym adsorbent przynajmniej sześciowartościowego Se, stanowiący materiał organiczny (X), z którą to wieżą (204, 205) jest połączony wylot przewodu (203) prowadzącego odciek (W2).