PL203643B1 - Kompozycja czyszcz aca zawieraj aca hydrofilizuj acy polimer w postaci kopolimeru - Google Patents

Description

Opis wynalazku Wynalazek dotyczy kompozycji czyszcz acej do twardych powierzchni zawieraj acej hydrofilizuj a- cy polimer w postaci kopolimeru, który jest kopolimerem diallylodimetyloakryloamidu amonowe- go/kwasu akrylowego oraz amfoteryczny surfaktant betain e, kosurfaktant, wod e i typowe dodatki. T lo wynalazku. W ró znych opisach patentowych zosta ly ujawnione liczne kompozycje czyszcz ace. Jednak ze zasadniczym problemem zwi azanym z tymi kompozycjami czyszcz acymi jest to, ze na powierzchni pozostaj a slady po wodzie, zamazania czy plamy powstaj ace wtedy, gdy powierzchnia jest traktowana kompozycj a czyszcz ac a i nast epnie suszona. Opis patentowy U.S. 5 759 986 opisuje kompozycj e czyszcz ac a, która przypuszczalnie zmniej- sza plamienie. W tych kompozycjach stosuje si e polimer krzemowy i polimer, który sprawia, ze trakto- wana powierzchnia staje si e hydrofilowa. DE-A-2161591 opisuje kompozycj e czyszcz ac a, która zawiera polimer zawieraj acy grup e ami- now a. WO00/77143A1 opisuje powierzchniowy substantywny polimer, który sprawia, ze traktowana powierzchnia staje si e hydrofilowa, gdzie polimer jest kopolimerem N-winyloimidazolu N-winylo- pirolidonu (PVPVI), kwaternizowanym kopolimerem winylopirolidonu/dialkiloaminoalkilo akrylanu lub metakrylanu, lub polimerem N-tlenku poliwinylopirydyny. Niniejszy wynalazek odnosi si e do kompozycji czyszcz acej tward a powierzchni e, zawieraj acej amfoteryczny surfaktant, kopolimer hydrofilizuj acy, którym jest kopolimer diallylodimetyloakrylamidu amonowego/kwasu akrylowego, kosurfaktant b ed acy eterem glikolu i/lub krótko la ncuchowym C 1 -C 4 alkanolem oraz wod e i typowe dodatki takie jak srodki konserwuj ace, chelatuj ace, srodki barwi ace i zapachowe. Kompozycja wed lug wynalazku nie zawiera anionowych surfaktantów, niejonowych surfaktan- tów zawieraj acych oksyetylenowane grupy, polimerów zawieraj acych krzem, polimerów zawieraj acych grup e aminow a, kopolimerów N-winyloimidazolu N-winylopirolidonu (PVPVI), czy kwaternizowanych kopolimerów winylopirolidonu/dialkiloaminoalkilu akrylanu lub metakrylanu, lub polimerów N-tlenku poliwinylopirydynowego. Obecny wynalazek dotyczy p lynnej kompozycji czyszcz acej do czyszczenia ró znorodnych za- nieczyszcze n na twardych powierzchniach, przy jednoczesnym zapobieganiu dalszemu osadzaniu sie zanieczyszcze n na tych powierzchniach. Zadaniem obecnego wynalazku jest dostarczenie kompozycji czyszcz acej do usuwania z twar- dych powierzchni osadów wapnia takich jak luski wapnia czy piana mydlana. Kompozycja wed lug wynalazku dostarcza kompozycj e czyszcz ac a, w której hydrofilizuj acy po- limer powoduje, ze po zastosowaniu produktu bez sp lukiwania czy wycierania, traktowana powierzch- nia staje si e hydrofilowa. Kompozycja wed lug wynalazku zmniejsza formowanie si e smug, znaków po wodzie, zamaza n i plam na powierzchni, która byla potraktowana kompozycj a czyszcz ac a, a nast epnie suszona bez sp lukiwania i wycierania. Kompozycja ta zapobiega osadzaniu si e mydlanej piany (np. oleinianu wapnia) na powierzchni, która by la potraktowana kompozycj a czyszcz ac a i nast epnie suszona bez sp lukiwania czy wycierania. Szczegó lowy opis wynalazku Niniejszy wynalazek dotyczy kompozycji czyszcz acej do czyszczenia twardych powierzchni ta- kich jak powierzchnie ceramiki b ad z szk la, która sprawia, ze traktowana powierzchnia staje si e hydro- filowa, która zawiera hydrofilizuj acy polimer w postaci kopolimeru. Kompozycja czyszcz aca wed lug wynalazku zawiera wagowo: (a) Jako amfoteryczny surfaktant 0,1% do 10% betainy; (b) jako hydrofilizuj acy polimer 0,01% do 2% kopolimeru diallylodimetyloakrylamidu amonowe- go/kwasu akrylowego; korzystnie o ci ezarze cz asteczkowym oko lo 1 000 do oko lo 20 000 000, ko- rzystniej 10 000 do 10 000 000. (c) jako kosurfaktant 0,1% do 10% eteru glikolu i/lub krótko lancuchowego C 1 -C 4 alkanolu; ko- rzystnie etanolu i (d) wod e, oraz do uzupe lnienia typowe dodatki takie jak srodek konserwuj acy; srodek chelatu- jacy; srodek zapachowy; srodek barwi acy.PL 203 643 B1 3 Kompozycja nie zawiera anionowego surfaktantu, polimeru zawieraj acego grup e aminow a, po- limeru zawieraj acego krzem, niejonowego surfaktantu zawieraj acego grupy oksyetylenowane, N-winyloimidazolu N-winylopirolidonu (PVPVI), czy kwaternizowanych kopolimerów winylopirolido- nu/dialkiloaminoalkilo akrylanu lub metakrylanu, lub polimerów N-tlenku poliwinylopirydyny. Rozpuszczalnym w wodzie amfoterycznym surfaktantem obecnym w ciek lej kompozycji jest rozpuszczalna w wodzie betaina o wzorze ogólnym: gdzie R 1 jest grup a alkilow a posiadaj ac a 10 do 20 atomów w egla, korzystnie 12 do 16 atomów, lub rodnik amidowy: w którym R jest grup a alkilow a posiadaj ac a 9 do 19 atomów w egla, a a jest liczb a ca lkowit a 1 do 4; R 2 i R 3 , ka zdy jest grup a alkilow a posiadaj ac a 1 do 3 w egli, a korzystniej 1 w egiel; R 4 jest gru- p a alkilow a b ad z hydroksyalkilenow a posiadaj ac a 1 do 4 atomów w egla i opcjonalnie jedn a grup e hydroksylow a. Do typowych alkilodimetylo betain zalicza si e decylodimetylo betaine lub 2-(N-decylo- -N,N-dimetyloamonowy) octan, dimetylo betain e kokosow a lub 2-(N-koko N,N-dimetyloamonowy) octan, mirystylodimetylo betain e, palmitylodimetylo betain e, laurylodimetylo betain e, cetylodimetylo betain e, stearylodimetylo betain e, itd. Podobnie amidobetainy zawieraj a kokoamidoetylo betain e, ko- koamidopropylo betain e i podobne. Preferowan a betain a jest (C 8 -C 18 )amidopropylodimetylo betaina kokosowa. Kopolimerem akrylamidu amonowego/kwasu akrylowego, jest kopolimer dialilodimetyloakryla- midu amonowego/kwasu akrylowego, stosowany w obecnym wynalazku, na przyk lad produkowany przez Rhodi e pod handlow a nazw a Mirapol Surf S. Bardziej preferowanym polimerem jest Mirapol Surf-S210. Reprezentatywni przedstawiciele kosurfaktantów b ed acych eterami glikolu s a wybrani z grupy eteru glikolowego i/lub krótko la ncuchowego alkanolu. Etery glikolowe nale za do grupy wybranej z (butyl cellosolve), eteru monobutylowego glikolu dietylenowego (butyl carbitol), eteru monobutylowego glikolu trietylenowego, eteru monobutylowego glikolu mono, di, tripropylenowego, eteru monobutylowego glikolu tetraetylenowego, eteru monomety- lowego glikolu mono, di, tripropylenowego, eteru monometylowego glikolu propylenowego, eteru mo- noheksylowego glikolu etylenowego, eteru monoheksylowego glikolu dietylenowego, trzeciorz edowe- go eteru butylowego glikolu propylenowego, eteru monoetylowego glikolu etylenowego, eteru mono- metylowego glikolu etylenowego, eteru monopropylowego glikolu etylenowego, eteru monopentylowe- go glikolu etylenowego, eteru monometylowego glikolu dietylenowego, eteru monoetylowego glikolu dietylenowego eteru monopropylowego glikolu dietylenowego, eteru monopentylowego glikolu dietyle- nowego, eteru monometylowego glikolu trietylenowego, eteru monoetylowego glikolu trietylenowego, eteru monopropylowego glikolu trietylenowego, eteru monopentylowego glikolu trietylenowego, eteru monoheksylowego glikolu trietylenowego, eteru monoetylowego glikolu mono, di tripropylenowego, eteru monopropylowego glikolu tripropylenowego, eteru monopentylowego glikolu mono, di, tripropy- lenowego, eteru monoheksylowego glikolu mono, di, tripropylenowego, eteru monometylowego glikolu mono, di, tributylenowego, eteru monoetylowego glikolu mono, di, tributylenowego, eteru monopropy- lowego glikolu mono, di, tributylenowego, eteru monobutylowego glikolu mono, di, tributylenowego,PL 203 643 B1 4 eteru monopentylowego glikolu mono, di, tributylenowego i eteru monoheksylowego glikolu mono, di, tributylenowego, monooctanu glikolu etylenowego i propionianu glikolu dipropylenowego i mieszaniny powy zszych. Kompozycja mo ze zawiera c krótko lancuchowy alkanol zamiast kosurfaktanta b ed acego eterem glikolu lub w kombinacji z kosurfaktantem b ed acym eterem glikolu. Korzystnymi krótko la ncuchowymi alkoholami s a etanol i alkohol izopropylowy lub mieszanina powy zszych. Innymi sk ladnikami dodanymi do kompozycji w st ezeniu od 0,1 do 4,0% wagowo s a srodki kon- serwuj ace takie jak DMDMH (dimetylolo-5,5-dimetylohydantoina), mieszanina izotiazolonów, mrów- czanu sodu i Bronidoksu. Dodatkowo mog a by c u zyte rozmaite dodatki takie jak srodki barwi ace i srodki zapachowe; po- ch laniacze promieniowania ultrafioletowego, takie jak Uvinuls, które s a produktami GAF Corporation; czynniki chelatuj ace, takie jak (etylenodiaminotetraoctany) EDTA, HEDTA, kwas D,L-asparaginowy, (sól tetrasodowa N-(1,2-dikarboksyetylenu)) IDSNa, siarczan magnezu siedmiowodny; czynniki opali- zuj ace i zm etniaj ace; modyfikatory pH; itd. Proporcja takich dodatków w sumie zazwyczaj nie przekro- czy 15% wagi kompozycji detergentu, a udzia l procentowy wi ekszo sci takich poszczególnych sk ladni- ków b edzie wynosi l maksymalnie 5% wagi, a korzystnie mniej ni z 2% wagi. Wodorosiarczyn sodu o st ezeniu 0,01 do 0,2% wagowo, mo ze by c u zyty jako stabilizator koloru. Kompozycje czyszcz ace wed lug wynalazku s a latwo wytwarzane prostymi metodami mieszania, z latwo dost epnych produktów. Nast epuj ace przyk lady ilustruj a p lynne kompozycje 5 czyszcz ace wed lug wynalazku. Proporcje w przyk ladach i gdzie indziej w opisie, je sli nie wyszczególniono inaczej, s a podane wagowo. Opis preferowanych postaci wynalazku P r z y k l a d 1 Nast epuj aca kompozycja zosta la przygotowana w temperaturze pokojowej procedurami proste- go mieszania cieczy: Kompozycja wed lug wynalazku % wagowo Woda (odniesienie) Mirapol S 210* 0,5 Kokoamidopropylodimetylo betaina 3,5 PnB 1,5 Etanol 1,5 Srodek zapachowy 0,15 IDSNa 0,9 DMDMH 0,45 Woda Uzupe lnienie Usuwanie piany mydlanej (A) Klasa 4 Klasa 0 Zapobieganie powstaniu mydlanej piany (B) Klasa 4 Klasa 0 - Mirapol Surfach S 210 jest kopolimerem diallilodimetyloakrylamidem amonowym/akrylowym dostarczanym przez Rhodi e; - PnB jest propylenoglikolem eteru n-butylowego, jest to powoli odparowuj acy rozpuszczalnik taki jak DOWANOL DPnB z Dow; - IDSNa oznacza N-(1,2-dikarboksyetylo)-tetrasodow a sól; - DMDMH oznacza dimetylolo-5,5-dimetylohydantoin e, znany srodek konserwuj acy stosowany w kompozycjach czyszcz acych, taki jak Glydant(R) 2000 z Lonza. Ujawniona powy zej kompozycja zapewnia znakomit a efektywno sc usuwania piany mydlanej, zapobiegaj ac jednocze snie dalszemu osadzaniu si e piany mydlanej. (A). Metoda badania usuwania piany mydlanej Procedura tego badania ma na celu odtworzenie w laboratorium osadów piany mydlanej, jakie konsumenci znajduj a na p lytkach w swoich lazienkach (na swoich wannach, zlewach, prysznicach, itp.). Skutecznosc czyszcz aca produktu jest oceniana w stosunku do wody przy u zyciu przep lywowejPL 203 643 B1 5 maszyny do zmywania. Ocena od 0 do 5 jest przyporz adkowywana ka zdej p lytce (0: nie usuwa, 5: brak pozosta losci brudu). To mo ze by c oceniane przez wzrokow a klasyfikacj e cz lowieka. (B). Zapobieganie powstawaniu piany mydlanej Celem tego badania jest zademonstrowanie zapobiegania gromadzeniu si e piany mydlanej przez lazienkowy srodek czyszcz acy. Po u zyciu badanego produktu, na bia le p lytki ceramiczne jest nak ladana kolorowa piana mydla- na. Je sli produkt dzia la, kolorowe zabrudzenie znika pozostawiaj ac p lytki czystsze i bielsze w porów- naniu z p lytkami traktowanymi wod a. Ocena od 0 do 5 jest przyporz adkowywana ka zdej p lytce (0: nie zapobiega, 5: brak nagromadzonego brudu). To mo ze by c oceniane przez wzrokow a klasyfikacj e cz lowieka. PL PL PL

Claims (1)

1. Zastrze zenie patentowe Kompozycja czyszcz aca, znamienna tym, ze zawiera wagowo: (a) jako amfoteryczny surfaktant 0,1% do 10% betainy; (b) jako hydrofilizuj acy polimer 0,01% do 2% kopolimeru diallylodimetyloakrylamidu amonowe- go/kwasu akrylowego; (c) jako kosurfaktant 0,1% do 10% eteru glikolowego i/lub krótko la ncuchowego C 1 -C 4 alkanolu; (d) wod e; i do uzupe lnienia typowe dodatki takie jak srodek konserwuj acy, srodek chelatuj acy, srodek za- pachowy, srodek barwi acy.PL 203 643 B1 6 Departament Wydawnictw UP RP Cena 2,00 z l. PL PL PL