PL205930B1 - Arkusz i kompozycja powlekająca - Google Patents
Arkusz i kompozycja powlekającaInfo
- Publication number
- PL205930B1 PL205930B1 PL372376A PL37237603A PL205930B1 PL 205930 B1 PL205930 B1 PL 205930B1 PL 372376 A PL372376 A PL 372376A PL 37237603 A PL37237603 A PL 37237603A PL 205930 B1 PL205930 B1 PL 205930B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- colloidal silica
- solids
- silica
- alkali metal
- ratio
- Prior art date
Links
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 178
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 title claims abstract description 84
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 title claims abstract description 9
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims abstract description 57
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 52
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 44
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims abstract description 41
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 36
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims abstract description 36
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 claims abstract description 30
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims abstract description 28
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims abstract description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 22
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 22
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 20
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 9
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 40
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 30
- -1 sodium Chemical class 0.000 abstract description 11
- 239000003513 alkali Substances 0.000 abstract description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 21
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 18
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 18
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 15
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 14
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 12
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 12
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 12
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 12
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 12
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 12
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 9
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 9
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 8
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 description 8
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 8
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M sodium hydroxide Inorganic materials [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 7
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 6
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 239000000983 mordant dye Substances 0.000 description 6
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 6
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 4
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 4
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 4
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229920001131 Pulp (paper) Polymers 0.000 description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MGQIWUQTCOJGJU-UHFFFAOYSA-N [AlH3].Cl Chemical compound [AlH3].Cl MGQIWUQTCOJGJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 3
- 239000003729 cation exchange resin Substances 0.000 description 3
- 229920001429 chelating resin Polymers 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 3
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 239000003232 water-soluble binding agent Substances 0.000 description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000663 Hydroxyethyl cellulose Polymers 0.000 description 2
- 239000004354 Hydroxyethyl cellulose Substances 0.000 description 2
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004368 Modified starch Substances 0.000 description 2
- 229920000881 Modified starch Polymers 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001447 alkali salts Chemical class 0.000 description 2
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L calcium sulfate Chemical compound [Ca+2].[O-]S([O-])(=O)=O OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 239000013530 defoamer Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 235000019447 hydroxyethyl cellulose Nutrition 0.000 description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 2
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 2
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 2
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 2
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 description 2
- 235000019426 modified starch Nutrition 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 235000018102 proteins Nutrition 0.000 description 2
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 description 2
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 2
- 150000003856 quaternary ammonium compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 2
- IIZPXYDJLKNOIY-JXPKJXOSSA-N 1-palmitoyl-2-arachidonoyl-sn-glycero-3-phosphocholine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC[C@H](COP([O-])(=O)OCC[N+](C)(C)C)OC(=O)CCC\C=C/C\C=C/C\C=C/C\C=C/CCCCC IIZPXYDJLKNOIY-JXPKJXOSSA-N 0.000 description 1
- OKSWTTKPZQFGEH-UHFFFAOYSA-N 2-(diethylamino)ethylazanium;chloride Chemical compound Cl.CCN(CC)CCN OKSWTTKPZQFGEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C(C)=C JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWHLRBWYDVJXHU-UHFFFAOYSA-N 2-ethenyl-3-methyl-1h-imidazol-3-ium;chloride Chemical compound [Cl-].C[N+]=1C=CNC=1C=C YWHLRBWYDVJXHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PPYLEQXVDWPREG-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl prop-2-enoate;methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound COC(=O)C(C)=C.CCCCC(CC)COC(=O)C=C PPYLEQXVDWPREG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARXSPTXFHDHTQQ-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl prop-2-enoate;methyl 2-methylprop-2-enoate;styrene Chemical compound COC(=O)C(C)=C.C=CC1=CC=CC=C1.CCCCC(CC)COC(=O)C=C ARXSPTXFHDHTQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 232Th Chemical compound [232Th] ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 0.000 description 1
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000215068 Acacia senegal Species 0.000 description 1
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 239000004604 Blowing Agent Substances 0.000 description 1
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000303965 Cyamopsis psoralioides Species 0.000 description 1
- 229920002307 Dextran Polymers 0.000 description 1
- 239000004375 Dextrin Substances 0.000 description 1
- 229920001353 Dextrin Polymers 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- 229920000084 Gum arabic Polymers 0.000 description 1
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011034 Rubus glaucus Nutrition 0.000 description 1
- 244000235659 Rubus idaeus Species 0.000 description 1
- 235000009122 Rubus idaeus Nutrition 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- 239000002174 Styrene-butadiene Substances 0.000 description 1
- 229910052776 Thorium Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- 229920002433 Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 1
- FMRLDPWIRHBCCC-UHFFFAOYSA-L Zinc carbonate Chemical compound [Zn+2].[O-]C([O-])=O FMRLDPWIRHBCCC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N ZrO2 Inorganic materials O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] Chemical compound [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 235000010489 acacia gum Nutrition 0.000 description 1
- 239000000205 acacia gum Substances 0.000 description 1
- HDYRYUINDGQKMC-UHFFFAOYSA-M acetyloxyaluminum;dihydrate Chemical compound O.O.CC(=O)O[Al] HDYRYUINDGQKMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 238000007754 air knife coating Methods 0.000 description 1
- 235000010443 alginic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229920000615 alginic acid Polymers 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical class [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 229940009827 aluminum acetate Drugs 0.000 description 1
- HPTYUNKZVDYXLP-UHFFFAOYSA-N aluminum;trihydroxy(trihydroxysilyloxy)silane;hydrate Chemical compound O.[Al].[Al].O[Si](O)(O)O[Si](O)(O)O HPTYUNKZVDYXLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- XFOZBWSTIQRFQW-UHFFFAOYSA-M benzyl-dimethyl-prop-2-enylazanium;chloride Chemical compound [Cl-].C=CC[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 XFOZBWSTIQRFQW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005282 brightening Methods 0.000 description 1
- MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N butadiene-styrene rubber Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1 MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHVOFPQVUVXHNL-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate;methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound COC(=O)C(C)=C.CCCCOC(=O)C=C AHVOFPQVUVXHNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WWPXOMXUMORZKI-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate;prop-2-enenitrile;styrene Chemical compound C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1.CCCCOC(=O)C=C WWPXOMXUMORZKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000005018 casein Substances 0.000 description 1
- BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N casein, tech. Chemical compound NCCCCC(C(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CC(C)C)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(C(C)O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(COP(O)(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(N)CC1=CC=CC=C1 BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021240 caseins Nutrition 0.000 description 1
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 1
- 230000002596 correlated effect Effects 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 235000019425 dextrin Nutrition 0.000 description 1
- 238000000502 dialysis Methods 0.000 description 1
- QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N dicyandiamide Chemical compound NC(N)=NC#N QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 238000000909 electrodialysis Methods 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 239000003623 enhancer Substances 0.000 description 1
- CCKBWHYUTNJICG-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate hydron methyl sulfate Chemical compound [H+].COS([O-])(=O)=O.CCOC(=O)C(C)=C CCKBWHYUTNJICG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPNLOZNCOBKRNJ-UHFFFAOYSA-N ethyl prop-2-enoate;methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C=C.COC(=O)C(C)=C XPNLOZNCOBKRNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWEMXAGGAUPGRJ-UHFFFAOYSA-N ethyl prop-2-enoate;methyl 2-methylprop-2-enoate;styrene Chemical compound CCOC(=O)C=C.COC(=O)C(C)=C.C=CC1=CC=CC=C1 HWEMXAGGAUPGRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTYOELISUWITTG-UHFFFAOYSA-N ethyl prop-2-enoate;prop-2-enenitrile;styrene Chemical compound C=CC#N.CCOC(=O)C=C.C=CC1=CC=CC=C1 CTYOELISUWITTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXYBXUYUKHUNOM-UHFFFAOYSA-M ethyl(trimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](C)(C)C UXYBXUYUKHUNOM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 230000007717 exclusion Effects 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000000834 fixative Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052621 halloysite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007602 hot air drying Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920003063 hydroxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010445 lecithin Nutrition 0.000 description 1
- 239000000787 lecithin Substances 0.000 description 1
- 229940067606 lecithin Drugs 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N magnesium orthosilicate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000391 magnesium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052919 magnesium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019792 magnesium silicate Nutrition 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- 239000003094 microcapsule Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- IQFXJRXOTKFGPN-UHFFFAOYSA-N n-ethenyl-n-ethylethanamine Chemical group CCN(CC)C=C IQFXJRXOTKFGPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNMVRZFUUCLYTO-UHFFFAOYSA-N n-propyl chloride Chemical compound CCCCl SNMVRZFUUCLYTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 1
- WHOPEPSOPUIRQQ-UHFFFAOYSA-N oxoaluminum Chemical compound O1[Al]O[Al]1 WHOPEPSOPUIRQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013054 paper strength agent Substances 0.000 description 1
- 239000003961 penetration enhancing agent Substances 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 150000003904 phospholipids Chemical class 0.000 description 1
- 238000001637 plasma atomic emission spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 239000011505 plaster Substances 0.000 description 1
- 229920000371 poly(diallyldimethylammonium chloride) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 229920001281 polyalkylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 238000002459 porosimetry Methods 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 1
- 230000002335 preservative effect Effects 0.000 description 1
- GVHVXOHQWYZWTC-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylprop-2-enoate;hydrochloride Chemical compound Cl.CCCOC(=O)C(C)=C GVHVXOHQWYZWTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 239000011115 styrene butadiene Substances 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010345 tape casting Methods 0.000 description 1
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 description 1
- BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N thallium Chemical compound [Tl] BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 1
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000004078 waterproofing Methods 0.000 description 1
- 239000012463 white pigment Substances 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
- 239000011667 zinc carbonate Substances 0.000 description 1
- 235000004416 zinc carbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000010 zinc carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/50—Recording sheets characterised by the coating used to improve ink, dye or pigment receptivity, e.g. for ink-jet or thermal dye transfer recording
- B41M5/52—Macromolecular coatings
- B41M5/5218—Macromolecular coatings characterised by inorganic additives, e.g. pigments, clays
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/50—Recording sheets characterised by the coating used to improve ink, dye or pigment receptivity, e.g. for ink-jet or thermal dye transfer recording
- B41M5/52—Macromolecular coatings
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Ink Jet Recording Methods And Recording Media Thereof (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Paper (AREA)
- Ink Jet (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Description
Opis wynalazku
Przedmiotem wynalazku jest arkusz służący do druku strumieniowego zawierający podłoże i co najmniej jedną warstwę powlekającą oraz kompozycja powlekająca. W szczególności, przedmiotem wynalazku są kompozycje powlekające odpowiednie do wytwarzania błyszczących arkuszy służących do druku strumieniowego, odznaczające się dobrą drukownością.
Procesy druku strumieniowego są dobrze znane. Takie układy doprowadzają krople tuszu na arkusz do zapisu, np. papier, ze zmiennymi gęstościami oraz szybkością. W przypadku stosowania wielobarwnych układów druku strumieniowego, w procesie doprowadzana jest, w bardzo bliskim sąsiedztwie, pewna ilość różnie zabarwionych kropelek tuszu o zmiennych właściwościach i tempie absorpcji. W rzeczywistości, te wielobarwne układy zaprojektowano w celu uzyskania obrazów, podobnych do obrazowania fotograficznego, a takie obrazy wymagają dużej rozdzielczości i szerokiej gamy barw. Zgodnie z tym, arkusze służące do druku strumieniowego muszą być zdolne do wchłonięcia tuszu o dużej gęstości, z taką wydajnością, aby osadzane kolory były jasne i czyste, w dawkach umożliwiających szybkie wyschnięcie, wchłaniając tusz tak, aby nie ciekł lub nie plamił i w taki sposób, aby w wyniku otrzymać gładkie obrazy.
Aby osiągnąć te cele, do powłok papierowych wprowadzono silnie porowate pigmenty, np. porowate krzemionki. Przykładowo zgłoszenie EP-A-0685344 ujawnia arkusz służący do druku strumieniowego zawierający na powłoce nadającej połysk monodyspersję cząsteczek koloidalnej krzemionki, przy czym cząsteczki krzemionki maja najwyżej 300 nm. Układy powlekające na bazie krzemionki pomyślnie spełniają cele drukowności. Jednakże, trudność sprawiło uzyskanie takich właściwości i wytworzenie nie matowego lub połyskującego efektu typowo obserwowanego w tradycyjnych układach fotograficznych. Wymienione wcześniej porowate pigmenty typowo charakteryzują się porowatością powyżej 1 cm3/g i średnimi wymiarami cząstek powyżej 1 μm [mikrona]. Takie wymiary cząstek i porowatość zwiększają chropowatą powierzchnię gotowej powłoki, odchylając padające światło tak, aby ulegało rozproszeniu, tworząc tym samym matową powłokę.
W celu zwiększenia połysku takich powłok, na górne chłonące tusz warstwy wytworzone z wymienionych wcześniej porowatych pigmentów nakłada się następne warstwy połyskujące. Te górne warstwy wytwarza się z naturalnie lśniących układów spoiw lub z warstw zawierających spoiwo oraz cząstki tlenku nieorganicznego o znacznie mniejszych rozmiarach, np. typową krzemionkę koloidalną. W ostatnim rozwiązaniu krzemionka koloidalna ma tendencję do zwiększania własności chłonnych górnej powłoki, jednak nie na tyle, aby spowodować zniekształcenia powierzchni. Istnieje jednak tendencja do gromadzenia się cząstek koloidalnych przy dużych stężeniach, co powoduje wady oraz chropowatość powierzchni górnej warstwy, tym samym zmniejszając połysk. Zgodnie z tym, w tym rozwiązaniu stosuje się mniejsze stężenia (np. mniejsze stosunki koloidalnych części stałych do części stałych spoiwa).
Pożądane byłoby zatem zwiększenie ilości stałych tlenków nieorganicznych w tych górnych warstwach w celu poprawienia drukowności. W rzeczywistości, pożądane byłoby zastosowanie warstw powlekających o stosunku koloidalnych części stałych do części stałych spoiwa wynoszącym co najmniej 1:1 i nawet bardziej korzystnie zastosowanie powłok o stosunku koloidalnej krzemionki do spoiwa 4:1, z jednoczesnym osiągnięciem dopuszczalnego połysku.
Ponadto, układy powlekające papier metodą druku strumieniowego często są zaprojektowane tak, aby przebiegały z ogólnym ładunkiem dodatnim. Wiele z tuszy stosowanych w procesach druku strumieniowego posiada ładunek ujemny; a zatem pożądane jest, aby składniki powłoki miały ładunek przeciwny w celu wiązania tuszu. Koloidalny glin ma ładunek dodatni i jest szeroko stosowany do tego celu jako pigment powlekający. Stosuje się także kationowy barwnik wiążący składniki i kationowe spoiwa. W rzeczywistości, obecność tych ostatnich, dodatnio naładowanych substancji, zazwyczaj wymaga, aby pigmenty w powłoce miały charakter kationowy lub co najmniej niejonowy. W przeciwnym razie substancje mają tendencję do aglomeracji, co tym samym powoduje wady powierzchni i zmniejsza połysk. Pożądane byłoby zatem i jest celem wynalazku, dostarczenie warstwy powlekającej o względnie dużej zawartości części stałych krzemionki, o charakterze kationowym.
Przedmiotem wynalazku jest arkusz służący do druku strumieniowego zawierający podłoże i co najmniej jedną warstwę powlekającą, charakteryzujący się tym, że co najmniej jedna warstwa powlekająca (a) ma powierzchnię, która wykazuje stopień połysku zwierciadlanego równy co najmniej 30 przy pomiarze pod kątem 60°,
PL 205 930 B1 (b) zawiera kationową krzemionkę koloidalną o wartości stosunku części stałych krzemionki do metalu alkalicznego równym co najmniej AW (-0,013SSA + 9) oraz (c) zawiera spoiwo, przy czym stosunek stałej krzemionki koloidalnej do części stałych spoiwa jest równy co najmniej 1:1 wagowo, gdzie AW oznacza masę atomową metalu alkalicznego i SSA oznacza powierzchnię właściwą krzemionki koloidalnej.
Korzystnie stosunek stałej krzemionki koloidalnej do części stałych spoiwa mieści się w zakresie 6:4 do 4:1.
Korzystnie koloidalna krzemionka wykazuje wartość stosunku części stałych krzemionki do metalu alkalicznego równą co najmniej 150.
Korzystnie koloidalna krzemionka ma średni wymiar cząstek w zakresie od 1 do 300 nanometrów.
Korzystnie wartość stosunku części stałych krzemionki do metalu alkalicznego jest równa co najmniej sumie 0,30SSA + 207.
Korzystnie jako metal alkaliczny występuje sód.
Przedmiotem wynalazku jest kompozycja powlekająca, charakteryzująca się tym, że zawiera:
(a) kationową krzemionkę koloidalną o wartości stosunku części stałych do metalu alkalicznego równym co najmniej AW (-0,013SSA + 9) i (b) spoiwo, w której części stałe krzemionki (a) i części stałe spoiwa (b) występują w stosunku równym co najmniej 1:1 wagowo, gdzie AW oznacza masę atomową metalu alkalicznego i SSA oznacza powierzchnię właściwą krzemionki koloidalnej.
Korzystnie stosunek części stałych krzemionki (a) do części stałych spoiwa (b) mieści się w zakresie 6:4 do 4:1.
Korzystnie koloidalna krzemionka wykazuje wartość stosunku części stałych krzemionki do metalu alkalicznego równą co najmniej 150.
Korzystnie koloidalna krzemionka ma średni wymiar cząstek 1 do 300 nanometrów.
Korzystnie wartość stosunku części stałych krzemionki do metalu alkalicznego jest równa co najmniej sumie 0,30SSA + 207.
Korzystnie jako metal alkaliczny występuje sód.
Korzystnie koloidalna krzemionka ma medianę wymiaru cząstek w zakresie 15 do 100 nm i ma rozkład wymiaru cząstek taki, aby co najmniej 80% cząstek mieściło się w zakresie od 30 do 70 nanometrów.
Stwierdzono, że kationowa krzemionka koloidalna, zawierająca względnie małe ilości metali alkalicznych, np. sodu, daje krzemionkę koloidalną, która nie ulega aglomeracji przy względnie dużej zawartości części stałych, a tym samym zmniejsza zniekształcenia i matowość powierzchni powłoki.
Figura 1 ilustruje rozkład wymiaru cząstek polizdyspergowanej krzemionki koloidalnej stosowanej w korzystnym rozwiązaniu według wynalazku.
Figura 2 ilustruje wartości stosunku części stałych koloidalnej krzemionki do metalu alkalicznego w odniesieniu do połysku osiąganego dla powłok zawierających takie cząstki.
Przez termin „koloidalna krzemionka” lub „roztwór koloidalnej krzemionki” rozumie się cząstki pochodzące z dyspersji lub roztworów koloidalnych, w których cząstki nie wydzielają się z dyspersji przez względnie długi okres czasu. Takie cząstki, typowo, występują w wymiarze poniżej jednego μm [mikrona]. Koloidalna krzemionka o średnich wymiarach cząstek w zakresie od około 1 do około 300 nanometrów i sposoby jej wytwarzania są dobrze znane w dziedzinie, patrz opisy patentowe Stanów Zjednoczonych Ameryki Płn. nr nr 2 244 325; 2 574 902; 2 577 484; 2 577 485; 2 631 134; 2 750 345; 2 892 797; 3 012 972; i 3 440 174, które załącza się tu na zasadzie odsyłacza. Według wynalazku bardziej korzystne są krzemionki koloidalne o średnim wymiarze cząstek w zakresie od 5 do 100 nanometrów. Mogą one mieć powierzchnię właściwą (zmierzoną metodą BET) w zakresie 9 do około 2700 m2/g.
Koloidalna krzemionka, szczególnie odpowiednia według wynalazku, znana jest jako polizdyspergowana krzemionka koloidalna. Termin „polizdyspergowana” definiuje tu dyspersję cząstek o rozkładzie wymiaru cząstek, w którym mediana wymiaru cząstek wynosi 15-100 nm i względnie szerokim zakresie rozkładu. Korzystne są rozkłady, w których 80% wymiarów cząstek mieści się w zakresie od 30 nanometrów i może sięgać aż do 70 nanometrów. Zakres 80% określa się odejmując udział cząstek o wymiarze d10 od udziału cząstek o wymiarze d90, otrzymanych na podstawie wymiarów cząstek, zmierzonych opisanymi później metodami TEM. Określa się to jako „zakres 80%”. W pewnym rozwiązaniu, polizdyspergowane cząstki charakteryzują rozkłady wymiaru przesunięte w kierunku wymiarów
PL 205 930 B1 mniejszych niż ich mediana. W efekcie, rozkład wykazuje pik w powierzchni opisującej ten rozkład i „ogon” wymiarów cząstek większych niż mediana, patrz fig. 1. Mniejszy lub wię kszy wymiar czą stek w zakresie okreś lonym jako 80% moż e wynosić odpowiednio -11% do -70% i 110% do 160% mediany. Szczególnie odpowiednia polizdyspergowana krzemionka ma medianę wymiaru cząstek w zakresie 20 do 30 nanometrów i 80% czą stek ma wymiar pomię dzy 10 i 50 nanometrów, np. wymiar 80% cząstek mieści się w zakresie 40 nanometrów.
Większość roztworów koloidalnej krzemionki zawiera ług. Jest to zazwyczaj wodorotlenek metalu alkalicznego z Grupy IA Układu Okresowego Pierwiastków (wodorotlenek litu, sodu, potasu itp.). Większość dostępnych na rynku roztworów koloidalnej krzemionki zawiera wodorotlenek sodu, który pochodzi, co najmniej częściowo, z krzemianu sodu stosowanego do wytworzenia koloidalnej krzemionki, chociaż wodorotlenek sodu można także dodawać w celu stabilizacji roztworu koloidalnego przeciw żelowaniu.
Ogólnie mówiąc, koloidalna krzemionka ma wypadkowy ładunek ujemny i dlatego w efekcie utraty protonów z grup silanolowych występujących na powierzchni krzemionki ma charakter anionowy. Dla celów wynalazku, koloidalną krzemionkę uważa się za kationową, jeśli anionowa krzemionka koloidalna została zmodyfikowana, np. poprzez fizyczne powleczenie lub traktowanie chemiczne tak, aby koloidalna krzemionka miała wypadkowy ładunek dodatni. Kationowa krzemionka obejmuje zatem te krzemionki koloidalne, na których powierzchni w wystarczającej ilości znajdują się kationowe grupy funkcyjne, jak np. jon metalu, takiego jak glin lub kation amoniowy takie, aby wypadkowy ładunek był dodatni.
Znanych jest kilka typów kationowej krzemionki koloidalnej. Takie kationowe krzemionki koloidalne wskazano w opisie patentowym Stanów Zjednoczonych Ameryki Płn. nr 3 007 878, który załącza się na zasadzie odsyłacza. Pokrótce, gęsty roztwór koloidalnej krzemionki jest stabilizowany i następnie powlekany przez skontaktowanie tego roztworu koloidalnego z zasadową solą trój- lub czterowartościowego metalu. Przykładem trójwartościowego metalu jest glin, chrom, gal, ind lub tal, a czterowartościowego metalu - tytan, german, cyrkon, cyna, cer, hafn i tor. Korzystny jest glin.
Aniony w wielowartościowej soli metalu, inne niż jony hydroksylowe, są wybrane tak, aby sól była rozpuszczalna w wodzie. Zrozumiałe jest, że powołanie się na fakt, iż sól ma jednowartościowy anion inny niż hydroksy, nie oznacza wyłączenia grupy hydroksylowej z tej soli, lecz wskazuje na występowanie w soli innego anionu oprócz hydroksylowego. Należą tu zatem wszystkie sole zasadowe, pod warunkiem, że są one rozpuszczalne w wodzie i mogą wytworzyć wymagane, przedstawione poniżej, zależności jonowe.
Korzystnie, roztwory koloidalne dodatnio naładowanej krzemionki przygotowuje się przez osadzenie tlenku glinu na powierzchni cząstek koloidalnej krzemionki. Można to osiągnąć działając na wodny roztwór koloidalny naładowanej ujemnie krzemionki zasadowymi solami glinu, takimi jak zasadowy octan glinu lub zasadowy glin.
Sposoby wytwarzania tych dodatnio naładowanych roztworów koloidalnej krzemionki ujawnił Moore, opis patentowy Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 3 620 978; Moore, opis patentowy Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 3 956 171; Moore, opis patentowy Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 3 719 607; Moore, opis patentowy Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 3 745 126; i Bergna, opis patentowy Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 4 217 240, przy czym wszystkie te opisy załącza się tu na zasadzie odsyłacza. Obróbka glinem prowadzi do osiągnięcia stosunków glin:krzemionka na powierzchni cząstek koloidalnych w zakresie od około 1:19 do około 4:1. Na powierzchni wartości stosunku glin-krzemiona korzystne wynoszą od około 1:2 do około 2:1. Roztwór koloidalny jest stabilizowany przy słabo kwasowych wartościach pH, co można osiągnąć przez dodanie w małej ilości kwasu takiego jak np. kwas octowy lub przez przepuszczenie roztworu koloidalnego przez złoże silnie kwasowej żywicy jonowymiennej.
Jak wskazano powyżej, kationowe roztwory koloidalnej krzemionki według wynalazku mają znacznie mniejsze zawartości jonów metalu alkalicznego niż dostępne na rynku roztwory koloidalnej krzemionki. Może to ilustrować wynik obliczenia wagowego wartości stosunku części stałych krzemionki do sodu dla roztworu koloidalnej krzemionki, co pokazuje równanie 1. Fig. 2 wskazuje, że akceptowalny połysk można osiągnąć, stosując roztwory koloidalnej krzemionki opracowane na podstawie poniższego równania:
Równanie 1. SiO2 / metal alkaliczny > AW (-0,013 * SSA + 9)
PL 205 930 B1
Wartość SiO2/metal alkaliczny określa wagowy stosunek części stałych krzemionki i metalu alkalicznego w roztworze koloidalnej krzemionki. AW oznacza masę atomową metalu alkalicznego, np. 6,9 dla litu, 23 dla sodu i 39 dla potasu i SSA oznacza powierzchnię właściwą cząstek krzemionki koloidalnej wyrażoną w metrach kwadratowych na gram (m2/g). Jeśli metalem alkalicznym jest sód, wówczas wartość stosunku SiO2/metal alkaliczny jest równa co najmniej sumie -0,30SSA + 207.
Kationowe krzemionki koloidalne o małej zawartości części alkalicznych można wytworzyć przez zdejonizowanie ich w takim zakresie, aby wartości stosunku części stałych krzemionki do metalu alkalicznego w koloidalnej krzemionce były zgodnie z równaniem 1. Termin „zdejonizowane” oznacza, że jony dowolnego metalu, np. jony metalu alkalicznego takiego jak sód, zostały usunięte z roztworu koloidalnej krzemionki. Sposoby usuwania jonów metalu alkalicznego są dobrze znane i obejmują wymianę jonową z zastosowaniem odpowiedniej żywicy jonowymiennej (opisy patentowe Stanów Zjednoczonych Ameryki Płn. nr 2 577 484 i 2 577 485), dializę (opis patentowy Stanów Zjednoczonych Ameryki Płn. nr 2 773 028) i elektrodializę (opis patentowy Stanów Zjednoczonych Ameryki Płn. nr 3 969 266).
Jak wskazano poniżej, krzemionki koloidalne można wprowadzać do typowych spoiw powlekających. Spoiwo służy nie tylko do wiązania koloidalnej krzemionki i tworzenia warstwy, ale także zapewnia przyleganie na granicy powierzchni warstwy nadającej połysk i substratu lub warstwy jakiegokolwiek produktu pośredniego przyjmującego tusz pomiędzy warstwą nadającą połysk i substratem.
Kationowe i niejonowe spoiwa są szczególnie odpowiednie do użytku według wynalazku. Odpowiednie spoiwa obejmują między innymi kopolimery styren-butadien lub styren-akrylan z kationowymi grupami funkcyjnymi i/lub kationowe poli(octany winylu), kationowe poli(alkohole winylowe) lub ich kopolimery.
Ponadto, spoiwo można wybrać spośród takich jak rozłożone i natywne guary, skrobie, metylocelulozy, hydroksymetylocelulozy, karboksymetylocelulozy, alginiany, białka i poli(alkohole winylowe), występujące w formie kationowej. Odpowiednie są także białka z uwagi na ich amfoteryczny charakter.
Specyficzne przykłady kationowych rozpuszczalnych w wodzie spoiw obejmują takie jak np. dietyloaminoetylenowana skrobia, skrobia zmodyfikowana chlorkiem trimetyloetyloamoniowym i skrobia zmodyfikowana chlorkiem dietyloaminoetyloamoniowym; oraz kopolimery estru akrylowego ze zmodyfikowanym kationem.
Odpowiednie niejonowe, rozpuszczalne w wodzie spoiwa obejmują między innymi takie, jak poli(alkohol winylowy), hydroksyetyloceluloza, metyloceluloza, dekstryna, pluran, skrobia, guma arabska, dekstran, poli(glikol etylenowy), poliwinyloipirolidon, poliakryloamid, i poli(glikol propylenowy).
Nierozpuszczalne w wodzie lub słabo rozpuszczalne w wodzie kationowe lub niejonowe spoiwa w postaci wodnej emulsji obejmują, lecz nie ograniczając się do nich, ż ywice na bazie kopolimeru akrylowego i metakrylowego, np. żywice na bazie kopolimeru metakrylan metylu-akrylan butylu, żywice na bazie kopolimeru metakrylan metylu-akrylan etylu, żywice na bazie kopolimeru metakrylan metylu-akrylan 2-etyloheksylu, żywice na bazie kopolimeru metyloakrylan metylu-akrylan metylu, żywice na bazie kopolimeru styren-akrylan butylu, żywice na bazie kopolimeru styren-akrylan 2-etyloheksylu, żywice na bazie kopolimeru styren-akrylan etylu, żywice na bazie kopolimeru styren-akrylan metylu, żywice na bazie kopolimeru metakrylan metylu-styren-akrylan butylu, żywice na bazie kopolimeru metakrylan metylu-styren-akrylan 2-etyloheksylu, żywice na bazie kopolimeru metakrylan metylu-styren-akrylan etylu, żywice na bazie kopolimeru metakrylan metylu-styren-akrylan etylu, żywice na bazie kopolimeru metakrylan metylu-styren-akrylan metylu, żywice na bazie kopolimeru styren-akrylan butylu-akrylonitryl i żywice na bazie kopolimeru styren-akrylan etylu-akrylonitryl.
Inne odpowiednie spoiwa obejmują takie, jak kazeina, żelatyna, żywica na bazie bezwodnika maleinowego, sprzężony kopolimer lateksowy typu dienowego, np. winylowy polimer lateksowy taki jak kopolimer etylen-octan winylu; spoiwo typu syntetycznej żywicy takie jak żywica poliuretanowa, nienasycona żywica poliesterowa, kopolimer chlorek winylu-octan winylu, poli(winylobutyral) lub żywica alkidowa.
Spoiwo można łączyć z koloidalną krzemionką stosując typowe mieszarki i mieszalniki. Składniki można łączyć i mieszać w warunkach otoczenia.
Pożądane jest, aby części stałe koloidalnej krzemionki i części stałe spoiwa występowały w powłoce w względnie dużych ilościach. W pewnych rozwiązaniach stwierdzono, że większe wartości stosunków krzemionki do spoiwa zapewniają dobrą drukowność, jak również korzystne właściwości mechaniczne gotowego arkusza przyjmującego tusz. Szczególnie korzystne jest, aby koloidalna krzemionka i części stałe spoiwa występowały w stosunku co najmniej 1:1, i korzystniej 6:4 do 4:1
PL 205 930 B1 wagowo. Wartość tego stosunku może wynosić aż 9,9:1. Stosunek koloidalnej krzemionki do części stałych spoiwa określa się tu również jako stosunek pigmentu do spoiwa.
Pożądane może być również wprowadzenie dodatkowych składników do kompozycji powlekającej według wynalazku. Powłoka według wynalazku może zawierać jeden lub więcej z następujących składników: dyspergator, środek zagęszczający, środek poprawiający płynność, środek odpieniający, środek przeciwpieniący, środek uwalniający, środek rozdmuchujący, środek wzmagający penetrację, barwnik, pigment, fluorescencyjny środek rozjaśniający, środek absorbujący ultrafiolet, przeciwutleniacz, środek konserwujący, środek zapobiegający spopielaniu, środek nadający wodoodporność i środek nadają cy wytrzymałość na mokro.
Korzystnym dodatkiem jest kationowy barwnik zaprawowy. Przykłady odpowiednich barwników zaprawowych obejmują między innymi takie jak polimeryczny czwartorzędowy związek amoniowy lub zasadowy polimer, taki jak metakrylan poli(dimetyloaminoetylu), polialkilenopoliaminy oraz produkty ich kondensacji z dicyjanodiamidem, polikondensaty amina-epichlorohydryna; lecytyna i fosfolipidy. Specyficzne przykłady takich barwników zaprawowych obejmują: chlorek winylobenzylotrimetyloamoniowy/dimetakrylan glikolu etylenowego; poli(chlorek diallilodimetyloamoniowy); metylosiarczan metakrylanu poli(2-N,N,N-trimetyloamoniowo)etylu; chlorek metakrylanu poli(3-N,N,N-trimetyloamoniowo)-propylu; kopolimer winylpirolidynonu i chlorku winylo(N-metyloimidazoliowego); i pochodne hydroksyetylocelulozy z chlorkiem 3-N,N,N-trimetyloamoniowo) propylu. W korzystnym rozwiązaniu, kationowy barwnik zaprawowy stanowi czwartorzędowy związek amoniowy.
Barwnik zaprawowy do użytku według wynalazku można stosować w dowolnej ilości skutecznej dla zamierzonego celu. Na ogół, dobre wyniki otrzymuje się gdy barwnik zaprawowy występuje w ilości od około 0,1-10% wagowych całej kompozycji powlekającej. Te barwniki zaprawowe są szczególnie korzystne gdy spoiwo jest niejonowe.
Część zawierającej względnie mało metalu alkalicznego kationowej krzemionki koloidalnej można także zastąpić jednym lub więcej innymi materiałami koloidalnymi, np. materiałami zawierającymi metale alkaliczne w większych ilościach, pod warunkiem, że sumaryczna ilość substancji alkalicznych występujących w kombinacji krzemionki koloidalnej i innego materiału będzie taka, aby wartości stosunku części stałych krzemionki do metalu alkalicznego była zgodna z równaniem 1, a ilość takiego materiału koloidalnego będzie taka, że nie pogorszy to ogólnych właściwości kationowych lub połysku pożądanego dla końcowej powłoki. Takie inne materiały koloidalne może stanowić krzemionka, jak również nieorganiczne tlenki inne niż krzemionka, np. tlenek tytanu, ditlenek cyrkonu, itp. Takie dodatkowe cząstki koloidalnego tlenku nieorganicznego można dodać jako wypełniacz i/lub jako dodatkowy pigment.
Powłoki według wynalazku wykazują połysk co najmniej trzydzieści (30) pod kątem 60° zmierzony z zastosowaniem urządzenia pomiarowego BYK Gardner. Korzystnie, powłoki według wynalazku wykazują połysk co najmniej 80 przy stosunku koloidalnej krzemionki do spoiwa wynoszącym 6:4 i co najmniej 50, a korzystnie co najmniej 70 przy stosunku koloidalnej krzemionki do spoiwa wynoszącym 4:1. Nawet bardziej korzystnie, powłoka wykazuje połysk co najmniej 90 przy stosunku koloidalnej krzemionki do spoiwa wynoszącym 4:1.
Odpowiednie podłoża do wytwarzania arkusza służącego do druku strumieniowego według wynalazku obejmują te typowo stosowane w dziedzinie. Odpowiednie podłoża charakteryzują się ciężarem właściwym w zakresie około 40 do około 300 g/m2. Podłożem może być arkusz papierowy wytwarzane różnymi sposobami i z zastosowaniem różnych maszyn, takich jak maszyna papiernicza Fourdrinier, cylindrowa maszyna papiernicza lub maszyna papiernicza z zakończeniem sitowym. Podłoża wytwarza się przez zmieszanie jego głównych składników, np. typowego pigmentu i pulpy drzewnej obejmującej np. ścier chemiczny, ścier drzewny i ścier makulaturowy, z co najmniej jednym z różnych dodatków obejmujących takie jak spoiwo, klejonka, utrwalacz, środek zwiększający wydajność, środek kationowy i środek zwiększający wytrzymałość papieru. Innymi podłożami są przezroczyste substraty, tkaniny itp.
Ponadto, podłożami mogą być także arkusze papierowe z prasy klejarskiej wytworzone z zastosowaniem skrobi lub poli(alkoholu winylowego). Podłoże może również stanowić warstwa przytrzymująca jak np. warstwa wstępnie powleczona na podłoże papierowe. Podłoże papierowe może także mieć warstwę przyjmującą tusz wprowadzoną przed nakładaniem powłoki według wynalazku.
Powłoki zawierające koloidalną krzemionkę, spoiwo i ewentualne dodatki można stosować w trakcie wytwarzania podłoż a, albo już po wytworzeniu podłoża. Powłokę można nakładać stosując typowe techniki powlekające, takie jak powlekanie z zastosowaniem układu „air knife”, powlekanie
PL 205 930 B1 walcowe, powlekanie nożowe, powlekanie prętowe, powlekanie przez polewanie, powlekanie w formie oraz procesy wykorzystujące prasy zaklejające. Uzyskane powłoki można suszyć w temperaturze pokojowej, stosując suszenie gorącym powietrzem, przez kontakt z ogrzewaną powierzchnią lub z wykorzystaniem promieniowania. Typowo, kompozycję powlekającą według wynalazku i dowolne warstwy z ewentualnym związkiem pośrednim, nakłada się w ilości w zakresie 1 do 50 g/m2, lecz bardziej typowo w zakresie 2 do 20 g/m2.
Poniższe przykłady pokazują, że błyszczący arkusz służący do druku strumieniowego, mający dobą drukowność można wytworzyć w istocie z podłoża i jednej warstwy według wynalazku. Jednakże, w pewnych przypadkach, w celu zwiększenia drukowności końcowego arkusza, może być pożądane umieszczenie innej warstwy przyjmującej tusz, pomiędzy warstwą zapewniającą połysk według wynalazku a podłożami. Np. w celu zwiększenia drukowności gotowego arkusza służącego do druku strumieniowego, arkusze pokryte pewną zdejonizowaną krzemionką koloidalną korzystnie zawierają oddzielną powłokę przyjmującą tusz pomiędzy warstwą połyskującą i substratem.
Odpowiednie warstwy przyjmujące tusz obejmują określone w opisie patentowym Stanów Zjednoczonych Ameryki Płn. nr 5 576 088, które załącza się tu na zasadzie odsyłacza. Pokrótce, odpowiednie warstwy przyjmujące tusz zawierają spoiwo takie jak wyszczególnione powyżej spoiwa rozpuszczalne w wodzie i pigment przyjmujący tusz. Takie pigmenty obejmują biały pigment nieorganiczny taki jak lekki węglan wapnia, ciężki węglan wapnia, węglan magnezu, kaolin, talk, siarczan wapnia, siarczan baru, ditlenek tytanu, tlenek cynku, siarczek cynku, węglan cynku, biel satynowa, krzemian glinu, ziemia okrzemkowa, krzemian wapnia, krzemian magnezu, bezpostaciowa krzemionka syntetyczna, krzemionka koloidalna, tlenek glinu, koloidalny tlenek glinu, pseudobemit, wodorotlenek glinu, litopon, zeolit, zhydrolizowany haloizyt lub wodorotlenek magnezu, lub pigment organiczny, taki jak pigment styrenowy, pigment akrylowy, polietylen, mikrokapsułki, żywica mocznikowa lub żywica maleminowa. Odpowiednie pigmenty dla warstwy przyjmującej tusz mają cząstki o średnim wymiarze w zakresie 0,5 do 3,0 μ m [mikronów] (lekkie rozproszenie) i obję toś ci porów w zakresie od 0,5 do 3,0 cm3/g, a korzystnie objętości porów od 1,0 do 2,0 cm3/g, co określono metodą porozymetryczną z zastosowaniem azotu. W celu wytworzenia arkusza sł u żącego do druku strumieniowego o duż ej absorpcyjności tuszu, korzystne jest, gdy pigment w warstwie przyjmującej tusz zawiera co najmniej
30% objętościowo cząstek o wymiarze co najmniej 1,0 μm.
Korzystne rozwiązania i rodzaje działań według wynalazku opisano w powyższym opisie. Wynalazek przeznaczony tu do ochrony, nie jest ograniczony do ujawnionych tu poszczególnych rozwiązań, które zamieszczono tu jedynie dla ilustracji. Fachowcy w dziedzinie mogą dokonywać zmian i modyfikacji bez odchodzenia od myśli przewodniej wynalazku.
Ponadto, jakiekolwiek zakresy wartości liczbowych przytoczone w opisie lub zastrzeżeniach patentowych, takich jak reprezentujące poszczególne właściwości, warunki, stany fizyczne lub udziały procentowe, są zgodnie z zamiarem wprowadzone tu dosłownie, wyrażając dowolną liczbę mieszczącą się w tym zakresie, który obejmuje dowolny zestaw wartości w ramach cytowanego zakresu.
Parametry wyszczególnione poniżej i/lub wskazane wcześniej zmierzono następującymi sposobami:
średni wymiar cząstek - jeśli nie wskazano inaczej, jest to średni liczbowo wymiar cząstek określony równaniem SSA = 3100/dn, w którym dn oznacza średni wymiar cząstek i SSA oznacza opisaną poniżej powierzchnię właściwą;
mediana wymiaru cząstek - liczbowo wagowa mediana zmierzona z zastosowaniem mikroskopu elektronowego (TEM);
połysk - zmierzono stosując urządzenie mikro-tri-gloss firmy BYK Gardner, które skalibrowano na przezroczystej błonie. Wartości połysku zmierzono pod kątem 60°;
zawartość metalu alkalicznego (np. Na) - zawartość procentowa wagowo zmierzono na podstawie zawartości jonu metalu alkalicznego, z zastosowaniem metody atomowej spektroskopii emisyjnej ze wzbudzeniem plazmowym (ICP-AES). Przed przeprowadzeniem tego pomiaru, próbkę rozpuszczono najpierw w warunkach otoczenia np. w temperaturze 25°C i wilgotności względnej 75%, w kwasie fluorowodorowym i w kwasie azotowym (w stosunku wagowym 30/70). Próbkę pozostawiono do rozpuszczenia na okres szesnastu godzin przed przeprowadzeniem pomiarów;
zawartość części stałych krzemionki - zmierzono w piecu Ohaus'a w temperaturze 205°C, przy czym moment końcowy pomiaru części stałych określała zmiana masy próbki mniejsza niż 0,01 g w ciągu sześćdziesięciu (60) sekund;
PL 205 930 B1 powierzchnia właściwa - określono metodą miareczkowania skorelowaną z powierzchnią właściwą określoną na podstawie adsorpcji azotu, jak podał G. W. Sears, Jr., Analitical Chemistry, tom 28, str. 1981, (1956).
P r z y k ł a d 1 (porównanie)
Martoxin® GL3 (SSA = 332 m2/g) tlenek glinu poddano peptyzacji sposobem według wytwórcy. Proszek Martoxin® GL3 dodano do zdejonizowanej wody (DI) przy 15% zawartości części stałych i mieszano przez 5 minut. Nastę pnie pH uregulowano do 4,5, stosują c kwas octowy i zawiesinę mieszano jeszcze przez 10 minut. Pod koniec pH ponownie uregulowano do 4,5, stosując kwas octowy. W zlewce umieszczono 21,015 g (15% wagowo) wytworzonej powyżej koloidalnej zawiesiny tlenku glinu. Dodano 4,85 g Airvol® 523 (roztwór 15,5% wagowo) poli(alkohol winylowy). Następnie, do mieszaniny dodano 0,19 g Agefloc® B50, barwnik zaprawowy (50% wagowo), rozcieńczony 0,768 g zdejonizowanej wody. Uzyskany preparat użyto do powleczenia z wytworzeniem wilgotnej warstwy o grubości 100 μm [mikronów] na poliestrowej folii Melinex (TM)-534, nie przezroczystej białej folii z firmy E. I. DuPont de Nemours & Co. Stosowano 8-prętową maszynę do powlekania TMI (maszyna do powlekania ze sterownikami uniwersalnymi typu K-control). Otrzymana powłoka miała połysk 93% przy 60 stopniach.
P r z y k ł a d 2 (Porównanie)
10,01 g Ludox® CL-P (40% części stałych; 140 SSA; 22 nm średni wymiar cząstek; % (wagowo) Na = 0,250; SiO2/Na = 160), koloidalną krzemionkę z firmy W. R. Grace & Co.-Conn. umieszczono w zlewce i rozcieńczono 10,31 g zdejonizowanej wody. Dodano 5,81 g Airvol® 523 (roztwór 15,5% wagowo) poli(alkohol winylowy), a następnie 0,22 g Agefloc® B50 (50% wagowo). Uzyskany preparat użyto do powleczenia poliestrowej folii jak opisano w przykładzie 1. Otrzymana powłoka miała połysk 4% przy 60 stopniach. Względnie mały połysk jest zgodny z równaniem 1, które wskazuje, że SiO2/Na musi wynosić 165 lub więcej w celu uzyskania akceptowalnego połysku.
P r z y k ł a d 3 (Porównanie)
12,06 g Ludox® CL (30% części stałych; 230 SSA; 12 nm średni wymiar cząstek; % Na = 0,260; SiO2/Na = 115), koloidalną krzemionkę z firmy W. R. Grace & Co.-Conn. umieszczono w zlewce i rozcieńczono 6,31 g zdejonizowanej wody. Dodano 5,26 g Airvol® 523 (roztwór 15,5% wagowo) poli(alkohol winylowy), a następnie 0,20 g Agefloc® B50 (50% wagowo). Uzyskany preparat użyto do powleczenia poliestrowej folii w warunkach opisanych w przykładzie 1. Otrzymana powłoka popękała. Można tego oczekiwać zgodnie z równaniem 1, które wskazuje, że wartość SiO2/Na powinna wynosić co najmniej 138 w celu osiągnięcia akceptowalnego połysku powłoki.
P r z y k ł a d 4 g zdejonizowanej wody dodano do 329 g Ludox® HS-40 (W. R. Grace), koloidalnej krzemionki zawierającej 40,0% SiO2 o średnim wymiarze cząstek = 22 nm i powierzchni właściwej = 220 m/g. Mieszaninę ogrzano do 40-50°C i mieszając dodawano w małych ilościach Amberlite® IR-120 Plus, kationowymienną żywicę w formie wodorkowej aż do obniżenia pH do 2,5. Mieszano jeszcze w tej temperaturze przez 1 godzinę, jednocześnie dodając żywicę w małych ilościach w celu utrzymania pH w zakresie 2,5-3,0. Mieszaninę przesączono przez gruboziarnistą bibułę filtracyjną w celu oddzielenia zdejonizowanego roztworu koloidalnej krzemionki od żywicy. Do zdejonizowanego roztworu koloidalnej krzemionki, mieszając, wkraplano 1% roztwór wodorotlenku amonu, aż do uzyskania pH koloidalnego roztworu 7,2-7,5.
Uzyskany roztwór koloidalnej krzemionki dodano kroplami do zlewki zawierającej 87,2 g 45% chlorowodorotlenku glinu (20,7% AI2O3 i stosunek atomowy Al:Cl 2:1), szybko mieszając. Po zakończeniu dodawania, mieszaninę pozostawiono w celu osiągnięcia stanu równowagi na okres około 12 godzin, następnie przesączono przez gęstą bibułę filtracyjną. Uzyskany roztwór koloidalny zawierał 30% części stałych, i wykazywał pH równe 3,5, miał zawartość sodu 0,06% wagowo i stosunek SiO2/Na 500.
14,51 g powyższego produktu (30% wagowo) umieszczono w zlewce i rozcieńczono 7,52 g zdejonizowanej wody. Dodano 6,27 g Airvol® 523 (roztwór 15,5% wagowo) poli(alkohol winylowy), a następnie 0,22 g Agefloc® B50 (50% wagowo). Uzyskany preparat użyto do powleczenia poliestrowej folii w warunkach opisanych w przykładzie 1. Otrzymana powłoka miała połysk 93% przy 60 stopniach. Połysk jest zgodny z równaniem 1, które wskazuje, że wartość stosunku SiO2/Na powinna wynosić co najmniej 141 w celu uzyskania akceptowalnego połysku.
P r z y k ł a d 5 g zdejonizowanej wody dodano do 367 g Ludox® TM-50 (W. R. Grace), koloidalnej krzemionki zawierającej 50,6% SiO2 o średnim wymiarze cząstek = 22 nm i powierzchni właściwej = 140 m2/g. MiePL 205 930 B1 szaninę ogrzano do 40-50°C i mieszając dodawano w małych ilościach Amberlite® IR-120 Plus, kationowymienną żywicę w formie wodorkowej aż do obniżenia pH do 2,5. Mieszano jeszcze w tej temperaturze przez 1 godzinę, jednocześnie dodając żywicę w małych ilościach w celu utrzymania pH w zakresie 2,5-3,0. Mieszaninę przesączono przez gruboziarnistą bibułę filtracyjną w celu oddzielenia zdejonizowanego roztworu koloidalnej krzemionki od żywicy. Do zdejonizowanego roztworu koloidalnej krzemionki, mieszając, wkraplano 1% roztwór wodorotlenku amonu, aż pH koloidalnego roztworu osiągnęło wartość 7,2-7,5. Uzyskany roztwór koloidalnej krzemionki dodano kroplami do zlewki zawierającej 70,8 g 45% chlorowodorotlenek glinu (20,7% AI2O3 i stosunek atomowy Al:Cl wynosi 2:1), szybko mieszając. Po zakończeniu dodawania, mieszaninę pozostawiono w celu osiągnięcia stanu równowagi na okres około 12 godzin, następnie przesączono przez gęstą bibułę filtracyjną. Uzyskany roztwór koloidalny zawierał 39% części stałych i wykazywał pH 3,5. Zawartość sodu w roztworze koloidalnym wynosiła 0,099% wagowo, a stosunek SiO2/Na był 394.
10,77 g powyższego produktu (39% wagowo) umieszczono w zlewce i rozcieńczono 10,56 g zdejonizowanej wody. Dodano 6,23 g Airvol® 523 (roztwór 15,5% wagowo), a następnie 0,24 g Agefloc® B50 (50% wagowo) Uzyskany preparat użyto do powleczenia poliestrowej folii. Otrzymana powłoka miała połysk 86% przy 60 stopniach. Połysk jest zgodny z równaniem 1, które wskazuje, że wartość stosunku Si02/Na powinna wynosić co najmniej 165 w celu uzyskania akceptowalnego połysku.
P r z y k ł a d 6 g zdejonizowanej wody dodano do 422 g polizdyspergowanej krzemionki koloidalnej (50% wagowo części stałych, mediana wymiaru cząstek 22 nanometrów i wymiar 80% cząstek mieści się w zakresie 40 nanometrów) o powierzchni właściwej 70 m2/g oraz stosunek części stałych krzemionki do sodu 179. Mieszaninę ogrzano do 40-50°C i mieszając dodawano w małych ilościach Amberlite® IR-120 Plus, kationowymienną żywicę w formie wodorkowej aż do obniżenia pH do 2,5. Mieszano jeszcze w tej temperaturze przez 1 godzinę, jednocześnie dodając żywicę w małych ilościach w celu utrzymania pH w zakresie 2,5-3,0. Mieszaninę przesączono przez gruboziarnistą bibułę filtracyjną w celu oddzielenia zdejonizowanego roztworu koloidalnej krzemionki od żywicy. Do zdejonizowanego roztworu koloidalnej krzemionki, mieszając, wkraplano 1% roztwór wodorotlenku amonu, aż pH koloidalnego roztworu osiągnęło wartość 7,2-7,5.
Uzyskany roztwór koloidalnej krzemionki dodano kroplami do zlewki zawierającej 43,6 g 45% chlorowodorotlenek glinu (20,7% Al2O2 i stosunek atomowy Al:Cl 2:1), szybko mieszając. Po zakończeniu dodawania, mieszaninę pozostawiono w celu osiągnięcia stanu równowagi na okres około 12 godzin, następnie przesączono przez gęstą bibułę filtracyjną. Uzyskany roztwór koloidalny zawierał 42% części stałych i wykazywał pH 3,5. Roztwór koloidalny zawierał sód w ilości 0,110% wagowo i wartość stosunku SiO2/Na wynosiła 382. 10,22 g powyższego produktu (41,9% wagowo) umieszczono w zlewce i rozcieńczono 11,53 g zdejonizowanej wody. Dodano 6,22 g Airvol© 523 (roztwór 15,5% wagowo), a następnie 0,20 g Agefloc® B50 (50% wagowo). Uzyskany preparat użyto do powleczenia poliestrowej folii. Otrzymana powłoka miała połysk 81% przy 60 stopniach. Połysk jest zgodny z równaniem 1, które wskazuje, że wartość stosunku Si02/Na powinna wynosić co najmniej 186 w celu uzyskania akceptowalnego połysku.
| Materiał koloidalny | Połysk pod kątem 60° | |||
| 20% (wagowo) koloidalna | 40% (wagowo) koloidalna | 60% (wagowo) koloidalna | 80% (wagowo) koloidalna | |
| Przykład 1 - Koloidalny tlenek glinu (Porównanie) | 92 | 86 | 95 | 93 |
| Przykład krzemionki 2-Ludox® CL-P (Porównanie) | 96 | 95 | 71 | 4 |
| Przykład krzemionki 3-Ludox® CL (Porównanie) | ~ | 94 | 87 | pęknięcia |
| Przykład 4 | 98 | ~ | ~ | 93 |
| Przykład 5 | 98 | ~ | ~ | 86 |
| Przykład 6 | 98 | ~ | ~ | 81 |
~ dla tego produktu nie wykonano pomiaru
Claims (13)
1. Arkusz służący do druku strumieniowego zawierający podłoże i co najmniej jedną warstwę powlekającą, znamienny tym, że co najmniej jedna warstwa powlekająca (a) ma powierzchnię, która wykazuje stopień połysku zwierciadlanego równy co najmniej 30 przy pomiarze pod kątem 60°, (b) zawiera kationową krzemionkę koloidalną o wartości stosunku części stałych krzemionki do metalu alkalicznego równym co najmniej AW (-0,013SSA + 9) oraz (c) zawiera spoiwo, przy czym stosunek stałej krzemionki koloidalnej do części stałych spoiwa jest równy co najmniej 1 wagowo, gdzie AW oznacza masę atomową metalu alkalicznego SSA oznacza powierzchnię właściwą krzemionki koloidalnej.
2. Arkusz wedł ug zastrz. 1, znamienny tym, ż e stosunek stał ej krzemionki koloidalnej do czę ści stałych spoiwa mieści się w zakresie 6:4 do 4:1.
3. Arkusz według zastrz. 1, znamienny tym, że koloidalna krzemionka wykazuje wartość stosunku części stałych krzemionki do metalu alkalicznego równą co najmniej 150.
4. Arkusz według zastrz. 1, znamienny tym, że koloidalna krzemionka ma średni wymiar cząstek w zakresie od 1 do 300 nanometrów.
5. Arkusz według zastrz. 1, znamienny tym, że wartość stosunku części stałych krzemionki do metalu alkalicznego jest równa co najmniej sumie -0,30SSA + 207.
6. Arkusz według zastrz. 1, znamienny tym, że jako metal alkaliczny występuje sód.
7. Kompozycja powlekająca, znamienna tym, ż e zawiera:
(a) kationową krzemionkę koloidalną o wartoś ci stosunku części stał ych do metalu alkalicznego równym co najmniej AW (-0,013SSA + 9) i (b) spoiwo, w której części stałe krzemionki (a) i części stałe spoiwa (b) występują w stosunku równym co najmniej 1:1 wagowo, gdzie AW oznacza masę atomową metalu alkalicznego i SSA oznacza powierzchnię właściwą krzemionki koloidalnej.
8. Kompozycja według zastrz. 7, znamienna tym, że stosunek części stałych krzemionki (a) do części stałych spoiwa (b) mieści się w zakresie 6:4 do 4:1.
9. Kompozycja według zastrz. 7, znamienna tym, że koloidalna krzemionka wykazuje wartość stosunku części stałych krzemionki do metalu alkalicznego równą co najmniej 150.
10. Kompozycja według zastrz. 7, znamienna tym, że koloidalna krzemionka ma średni wymiar cząstek 1 do 300 nanometrów.
11. Kompozycja według zastrz. 7, znamienna tym, że wartość stosunku części stałych krzemionki do metalu alkalicznego jest równa co najmniej sumie -0,30SSA + 207.
12. Kompozycja według zastrz. 11, znamienna tym, że jako metal alkaliczny występuje sód.
13. Kompozycja według zastrz. 7, znamienna tym, że koloidalna krzemionka ma medianę wymiaru cząstek w zakresie 15 do 100 nm i ma rozkład wymiaru cząstek taki, aby co najmniej 80% cząstek mieściło się w zakresie od 30 do 70 nanometrów.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US36561602P | 2002-03-19 | 2002-03-19 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL372376A1 PL372376A1 (pl) | 2005-07-25 |
| PL205930B1 true PL205930B1 (pl) | 2010-06-30 |
Family
ID=28454688
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL372376A PL205930B1 (pl) | 2002-03-19 | 2003-03-19 | Arkusz i kompozycja powlekająca |
Country Status (20)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6902780B2 (pl) |
| EP (1) | EP1490234B1 (pl) |
| JP (1) | JP2005520720A (pl) |
| KR (1) | KR101003264B1 (pl) |
| CN (1) | CN100343074C (pl) |
| AR (1) | AR039023A1 (pl) |
| AT (1) | ATE368578T1 (pl) |
| AU (1) | AU2003220419A1 (pl) |
| BR (1) | BR0308558A (pl) |
| DE (1) | DE60315273T2 (pl) |
| DK (1) | DK1490234T3 (pl) |
| ES (1) | ES2290446T3 (pl) |
| IL (1) | IL164139A0 (pl) |
| NO (1) | NO20044423L (pl) |
| PL (1) | PL205930B1 (pl) |
| PT (1) | PT1490234E (pl) |
| RU (1) | RU2004130835A (pl) |
| TW (1) | TWI339643B (pl) |
| WO (1) | WO2003080358A1 (pl) |
| ZA (1) | ZA200408091B (pl) |
Families Citing this family (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI349024B (en) * | 2002-03-19 | 2011-09-21 | Grace W R & Co | Coating composition comprising colloidal silica and glossy ink jet recording sheets prepared therefrom |
| US6902780B2 (en) * | 2002-03-19 | 2005-06-07 | W. R. Grace & Co.-Conn | Coating composition comprising colloidal silica and glossy ink jet recording sheets prepared therefrom |
| TW200307022A (en) * | 2002-03-19 | 2003-12-01 | W R Grance & Co Conn | Coating composition comprising colloidal silica and glossy ink jet recording sheets prepared therefrom |
| US6887536B2 (en) * | 2002-03-21 | 2005-05-03 | Agfa Geveart | Recording element for ink jet printing |
| GB0207179D0 (en) * | 2002-03-27 | 2002-05-08 | Ibm | A numeric processor, a numeric processing method, and a data processing apparatus or computer program incorporating a numeric processing mechanism |
| US6896942B2 (en) * | 2002-04-17 | 2005-05-24 | W. R. Grace & Co. -Conn. | Coating composition comprising colloidal silica and glossy ink jet recording sheets prepared therefrom |
| US20060077244A1 (en) * | 2004-10-08 | 2006-04-13 | Edwards Paul A | System and method for ink jet printing of water-based inks using ink-receptive coating |
| US20060075916A1 (en) * | 2004-10-08 | 2006-04-13 | Edwards Paul A | System and method for ink jet printing of water-based inks using aesthetically pleasing ink-receptive coatings |
| US20060077243A1 (en) * | 2004-10-08 | 2006-04-13 | Edwards Paul A | System and method for ink jet printing of solvent/oil based inks using ink-receptive coatings |
| US20130000214A1 (en) * | 2006-01-11 | 2013-01-03 | Jia-Ni Chu | Abrasive Particles for Chemical Mechanical Polishing |
| CL2007000734A1 (es) * | 2006-03-22 | 2008-05-02 | Grace W R & Co | Revestimiento de oxido inorganico transparente producido al preparar composicion de revestimiento que comprende particulas de oxido inorganico y polimero, aplicar composicion sobre sustrato, formar revestimiento y calentar el revestimiento para elimi |
| WO2007116413A1 (en) * | 2006-04-12 | 2007-10-18 | Thothathri Sampath Kumar | A nanosized electrochemical dispersion for rechargeable alkaline zinc batteries |
| US7828412B2 (en) | 2006-09-08 | 2010-11-09 | Electronics For Imaging, Inc. | Ink jet printer |
| US7915334B2 (en) * | 2006-11-13 | 2011-03-29 | Kanzaki Specialty Papers, Inc. | Dual purpose receiver sheet |
| CA2711960A1 (en) * | 2007-12-04 | 2009-06-11 | W.R. Grace & Co.-Conn. | Abrasion resistant media |
| US8431193B2 (en) | 2009-08-12 | 2013-04-30 | Newpage Corporation | Inkjet recording medium |
| EP2473672B1 (en) * | 2009-08-31 | 2023-06-07 | Verso Paper Holding LLC | Inkjet recording medium |
| US8821997B2 (en) | 2010-12-15 | 2014-09-02 | Newpage Corporation | Recording medium for inkjet printing |
| US8398233B2 (en) * | 2011-01-31 | 2013-03-19 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Inkjet recording medium |
| CN103370473B (zh) | 2011-02-18 | 2016-06-01 | 新页公司 | 用于喷墨印刷的光泽记录介质 |
| US8821998B2 (en) | 2012-04-13 | 2014-09-02 | Newpage Corporation | Recording medium for inkjet printing |
| CN107587354A (zh) * | 2017-09-29 | 2018-01-16 | 潍坊佳诚数码材料有限公司 | 一种坯布处理工艺 |
Family Cites Families (33)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2244325A (en) | 1940-04-15 | 1941-06-03 | Paul G Bird | Colloidal solutions of inorganic oxides |
| US2574902A (en) | 1948-12-15 | 1951-11-13 | Du Pont | Chemical processes and composition |
| US2577484A (en) | 1950-09-08 | 1951-12-04 | Du Pont | Process for producing stable silica sols |
| US2577485A (en) | 1950-09-08 | 1951-12-04 | Du Pont | Process of making stable silica sols and resulting composition |
| US2631134A (en) | 1951-11-07 | 1953-03-10 | Du Pont | Silica sol process |
| US2773028A (en) | 1952-04-29 | 1956-12-04 | Du Pont | Dialysis process |
| US2750345A (en) | 1954-02-25 | 1956-06-12 | Du Pont | Process for producing sols of 5-8 millimicron silica particles, and product |
| US2892797A (en) | 1956-02-17 | 1959-06-30 | Du Pont | Process for modifying the properties of a silica sol and product thereof |
| US3007878A (en) | 1956-11-01 | 1961-11-07 | Du Pont | Aquasols of positively-charged coated silica particles and their production |
| US3012972A (en) | 1959-02-20 | 1961-12-12 | Du Pont | Aqueous silica dispersions and their production |
| US3440174A (en) | 1965-04-26 | 1969-04-22 | Nalco Chemical Co | Method of making silica sols containing large particle size silica |
| US3620978A (en) | 1968-07-18 | 1971-11-16 | Du Pont | Process for preparing stable positively charged alumina-coated silica sols |
| US3719607A (en) | 1971-01-29 | 1973-03-06 | Du Pont | Stable positively charged alumina coated silica sols and their preparation by postneutralization |
| US3745126A (en) | 1971-04-22 | 1973-07-10 | Du Pont | Stable positively charged alumina coated silica sols |
| US3969266A (en) | 1971-06-23 | 1976-07-13 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Microporous membrane process for making concentrated silica sols |
| US3956171A (en) | 1973-07-30 | 1976-05-11 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for preparing stable positively charged alumina coated silica sols and product thereof |
| US4217240A (en) | 1976-09-02 | 1980-08-12 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Stable aluminosilicate aquasols having uniform size particles and their preparation |
| JP3198164B2 (ja) | 1992-09-09 | 2001-08-13 | 三菱製紙株式会社 | インクジェット記録用シート |
| US5576088A (en) | 1994-05-19 | 1996-11-19 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Ink jet recording sheet and process for its production |
| CA2183723C (en) | 1995-08-21 | 2006-11-21 | Bo Liu | Ink jet recording material and producing process thereof |
| US5756226A (en) * | 1996-09-05 | 1998-05-26 | Sterling Diagnostic Imaging, Inc. | Transparent media for phase change ink printing |
| US6086700A (en) * | 1996-09-05 | 2000-07-11 | Agfa-Gevaert N.V. | Transparent media for phase change ink printing |
| US5966150A (en) * | 1996-11-27 | 1999-10-12 | Tektronix, Inc. | Method to improve solid ink output resolution |
| AU6281399A (en) | 1998-10-02 | 2000-04-26 | Cabot Corporation | Silica dispersion, coating composition and recording medium |
| JP3300680B2 (ja) | 1999-02-26 | 2002-07-08 | 日本製紙株式会社 | インクジェット記録用紙 |
| DE69909947T2 (de) | 1998-12-02 | 2004-02-12 | Nippon Paper Industries Co. Ltd. | Tintenstrahlaufzeichnungsblatt mit einer Bildschutzschicht |
| EP1016546B1 (en) | 1998-12-28 | 2004-05-19 | Nippon Paper Industries Co., Ltd. | Ink-jet recording paper containing silica layers and method for its' manufacture |
| JP2000263923A (ja) | 1999-03-17 | 2000-09-26 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | インクジェット記録シート |
| JP2001096911A (ja) | 1999-10-04 | 2001-04-10 | Konica Corp | インクジェット記録用紙 |
| TWI349024B (en) * | 2002-03-19 | 2011-09-21 | Grace W R & Co | Coating composition comprising colloidal silica and glossy ink jet recording sheets prepared therefrom |
| TW200307022A (en) * | 2002-03-19 | 2003-12-01 | W R Grance & Co Conn | Coating composition comprising colloidal silica and glossy ink jet recording sheets prepared therefrom |
| US6902780B2 (en) * | 2002-03-19 | 2005-06-07 | W. R. Grace & Co.-Conn | Coating composition comprising colloidal silica and glossy ink jet recording sheets prepared therefrom |
| US6896942B2 (en) * | 2002-04-17 | 2005-05-24 | W. R. Grace & Co. -Conn. | Coating composition comprising colloidal silica and glossy ink jet recording sheets prepared therefrom |
-
2003
- 2003-03-18 US US10/391,286 patent/US6902780B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2003-03-18 TW TW092105923A patent/TWI339643B/zh not_active IP Right Cessation
- 2003-03-19 CN CNB038114828A patent/CN100343074C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2003-03-19 AT AT03716724T patent/ATE368578T1/de active
- 2003-03-19 AU AU2003220419A patent/AU2003220419A1/en not_active Abandoned
- 2003-03-19 AR ARP030100964A patent/AR039023A1/es unknown
- 2003-03-19 KR KR1020047014807A patent/KR101003264B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 2003-03-19 WO PCT/US2003/008563 patent/WO2003080358A1/en not_active Ceased
- 2003-03-19 IL IL16413903A patent/IL164139A0/xx unknown
- 2003-03-19 JP JP2003578155A patent/JP2005520720A/ja active Pending
- 2003-03-19 DE DE60315273T patent/DE60315273T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2003-03-19 ES ES03716724T patent/ES2290446T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2003-03-19 PT PT03716724T patent/PT1490234E/pt unknown
- 2003-03-19 DK DK03716724T patent/DK1490234T3/da active
- 2003-03-19 RU RU2004130835/12A patent/RU2004130835A/ru not_active Application Discontinuation
- 2003-03-19 BR BR0308558-9A patent/BR0308558A/pt not_active IP Right Cessation
- 2003-03-19 PL PL372376A patent/PL205930B1/pl not_active IP Right Cessation
- 2003-03-19 EP EP03716724A patent/EP1490234B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2004
- 2004-10-07 ZA ZA200408091A patent/ZA200408091B/en unknown
- 2004-10-19 NO NO20044423A patent/NO20044423L/no not_active Application Discontinuation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| NO20044423L (no) | 2004-12-17 |
| ZA200408091B (en) | 2005-05-30 |
| EP1490234B1 (en) | 2007-08-01 |
| EP1490234A1 (en) | 2004-12-29 |
| PT1490234E (pt) | 2007-10-17 |
| WO2003080358A1 (en) | 2003-10-02 |
| AU2003220419A1 (en) | 2003-10-08 |
| CN100343074C (zh) | 2007-10-17 |
| TWI339643B (en) | 2011-04-01 |
| PL372376A1 (pl) | 2005-07-25 |
| ES2290446T3 (es) | 2008-02-16 |
| ATE368578T1 (de) | 2007-08-15 |
| RU2004130835A (ru) | 2005-05-10 |
| DE60315273D1 (de) | 2007-09-13 |
| AR039023A1 (es) | 2005-02-02 |
| IL164139A0 (en) | 2005-12-18 |
| KR20040094827A (ko) | 2004-11-10 |
| JP2005520720A (ja) | 2005-07-14 |
| DK1490234T3 (da) | 2007-12-03 |
| CN1655948A (zh) | 2005-08-17 |
| TW200304899A (en) | 2003-10-16 |
| US6902780B2 (en) | 2005-06-07 |
| DE60315273T2 (de) | 2008-04-17 |
| KR101003264B1 (ko) | 2010-12-21 |
| BR0308558A (pt) | 2005-02-22 |
| US20030180478A1 (en) | 2003-09-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| PL205930B1 (pl) | Arkusz i kompozycja powlekająca | |
| EP1497137B1 (en) | Coating composition containing colloidal silica and glossy ink jet recording sheets prepared therefrom | |
| JP5054777B2 (ja) | 増強させた印刷性能のための多機能紙 | |
| US6893691B2 (en) | Coating composition comprising colloidal silica and glossy ink jet recording sheets prepared therefrom | |
| EP1487642B2 (en) | Coating composition comprising colloidal silica and glossy ink jet recording sheets prepared therefrom | |
| KR20050016311A (ko) | 콜로이드성 실리카를 포함하는 코팅 조성물 및 이로부터제조된 광택이 있는 잉크 제트 기록 시이트 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RECP | Rectifications of patent specification | ||
| LAPS | Decisions on the lapse of the protection rights |
Effective date: 20130319 |