PL211965B1 - Sposób mechanicznego znakowania powierzchni podłoża typu szklanego i podłoże szklane - Google Patents
Sposób mechanicznego znakowania powierzchni podłoża typu szklanego i podłoże szklaneInfo
- Publication number
- PL211965B1 PL211965B1 PL385927A PL38592706A PL211965B1 PL 211965 B1 PL211965 B1 PL 211965B1 PL 385927 A PL385927 A PL 385927A PL 38592706 A PL38592706 A PL 38592706A PL 211965 B1 PL211965 B1 PL 211965B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- marking
- substrate
- glass
- ceramic
- equal
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 70
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims description 102
- 238000002372 labelling Methods 0.000 title 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 87
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 35
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 34
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 claims description 13
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 9
- 239000004744 fabric Substances 0.000 claims description 8
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 claims description 8
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 4
- 239000011707 mineral Substances 0.000 claims description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 4
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 3
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910003470 tongbaite Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- UFGZSIPAQKLCGR-UHFFFAOYSA-N chromium carbide Chemical compound [Cr]#C[Cr]C#[Cr] UFGZSIPAQKLCGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N tungsten carbide Chemical compound [W+]#[C-] UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000013519 translation Methods 0.000 abstract description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 22
- 235000019592 roughness Nutrition 0.000 description 14
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 11
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- 241001135893 Themira Species 0.000 description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M sodium;oxocalcium;hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+].[Ca]=O HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 230000004313 glare Effects 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 2
- 238000000844 transformation Methods 0.000 description 2
- 206010001488 Aggression Diseases 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 1
- 230000016571 aggressive behavior Effects 0.000 description 1
- 239000011805 ball Substances 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010431 corundum Substances 0.000 description 1
- 238000005034 decoration Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000004049 embossing Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 238000005816 glass manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000007373 indentation Methods 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 239000005340 laminated glass Substances 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 239000003550 marker Substances 0.000 description 1
- 238000009740 moulding (composite fabrication) Methods 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 238000002294 plasma sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 238000005496 tempering Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 238000012800 visualization Methods 0.000 description 1
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41K—STAMPS; STAMPING OR NUMBERING APPARATUS OR DEVICES
- B41K3/00—Apparatus for stamping articles having integral means for supporting the articles to be stamped
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/0041—Digital printing on surfaces other than ordinary paper
- B41M5/007—Digital printing on surfaces other than ordinary paper on glass, ceramic, tiles, concrete, stones, etc.
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B44—DECORATIVE ARTS
- B44B—MACHINES, APPARATUS OR TOOLS FOR ARTISTIC WORK, e.g. FOR SCULPTURING, GUILLOCHING, CARVING, BRANDING, INLAYING
- B44B5/00—Machines or apparatus for embossing decorations or marks, e.g. embossing coins
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B44—DECORATIVE ARTS
- B44D—PAINTING OR ARTISTIC DRAWING, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; PRESERVING PAINTINGS; SURFACE TREATMENT TO OBTAIN SPECIAL ARTISTIC SURFACE EFFECTS OR FINISHES
- B44D5/00—Surface treatment to obtain special artistic surface effects or finishes
- B44D5/10—Mechanical treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B13/00—Rolling molten glass, i.e. where the molten glass is shaped by rolling
- C03B13/08—Rolling patterned sheets, e.g. sheets having a surface pattern
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B13/00—Rolling molten glass, i.e. where the molten glass is shaped by rolling
- C03B13/16—Construction of the glass rollers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B18/00—Shaping glass in contact with the surface of a liquid
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C19/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by mechanical means
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Soil Working Implements (AREA)
Abstract
Wynalazek dotyczy sposobu znakowania powierzchni podłoża typu szklanego charakteryzującego się tym, że zawiera etap znakowania mechanicznego powierzchni (1a) podłoża (1) w stanie lepkim o danej lepkości, przez styk mechaniczny z powierzchnią (41) z materiału do znakowania, logarytm dziesiętny lepkości podłoża określonej w puazach jest wybrany większy od 4 i mniejszy albo równy 11, co najmniej jedna z powierzchni podłoża i powierzchni do znakowania jest płaska i ruchoma w ruchu postępowym, prędkość względna pomiędzy powierzchnią materiału do znakowania i powierzchnią podłoża jest niezerowa.
Description
Opis wynalazku
Przedmiotem wynalazku jest sposób mechanicznego znakowania powierzchni podłoża typu szklanego i podłoże szklane.
W dziedzinie oszkleń dekoracyjnych, zwykle otrzymuje się szkła o wyglądzie matowym i przyjemne w dotyku w wyniku traktowania powierzchni kwasem. Chociaż półprzezroczyste, te szkła przepuszczają światło chroniąc przy tym przed oglądaniem przestrzeni wewnętrznych.
Dla otrzymania takiego wyglądu, szkła są poddawane kąpieli w kwasie fluorowodorowym albo fluorkach, w mieszaninie z innymi produktami. Ta obróbka chemiczna wymaga zastosowania szczególnych środków ostrożności i ten sposób wymaga utylizacji ścieków po obróbce chemicznej. Ponadto, wyniki maja często ograniczoną trwałość.
Wreszcie, ten sposób jest długi, generuje koszty magazynowania szkła do obróbki i licznych operacji.
Ponadto, szkła warstwowe drukowane obecnie realizowane mają strukturę zbyt zgrubną dla wyrównania matowego wyglądu szkieł matowanych kwasem.
Z opisów patentowych WO 88/09990, WO89/05507 i DE3808380 znany jest sposób znakowania, w którym zastosowana jesz płaska forma, prasa albo stempel przemieszczająca się ruchem postępowym i przykładana do nieruchomego podłoża.
Celem wynalazku jest opracowanie sposobu alternatywnego do matowania kwasem, mniej zanieczyszczającego środowisko, bez poświęcania parametrów estetycznych i/lub funkcjonalnych szkła a szerzej podłoża typu szklanego - i korzystnie, który jest bardziej zgodny z wymaganiami przemysłowymi (w zakresie prędkości, automatyzacji...).
Sposób mechanicznego znakowania powierzchni podłoża typu szklanego przez mechaniczny styk z powierzchnią z materiału znakującego, przy czym co najmniej jeden z elementów, podłoże, powierzchnia znakująca jest płaski i ruchomy w ruchu postępowym, według wynalazku charakteryzuje się tym, że zawiera etap znakowania mechanicznego powierzchni podłoża w stanie lepkim o zadanej lepkości, przez styk mechaniczny z powierzchnią z materiału znakującego, logarytm dziesiętny lepkości podłoża określonej w puazach jest wybrany większy od 4 i mniejszy albo równy 11, prędkość względna pomiędzy powierzchnią materiału znakującego i powierzchnią podłoża jest niezerowa, przy czym znakowanie wykonuje się elementem znakującym o powierzchni zewnętrznej zakrzywionej wykonanej z materiału znakującego, a podłoże przesuwa się z zadaną prędkością, i znakowanie wykonuje się elementem znakującym o prędkości liniowej albo stycznej większej od prędkości podłoża.
Korzystnie logarytm dziesiętny lepkości podłoża określonej w puazach jest wybrany pomiędzy 4,5 i 8, korzystnie pomiędzy 5,5 i 6,5.
Korzystnie znakowanie wykonuje się na powierzchni, która ma już nieregularności, o kształtach wybranych spośród wklęsłych wypukłych, zwłaszcza będących motywami geometrycznymi.
Korzystnie stosuje się powierzchnię ścierną.
Korzystnie stosuje się powierzchnię piaskowaną.
Korzystnie stosuje się materiał znakujący na bazie ceramiki zwłaszcza będący warstwą ceramiki, szczególnie tkaniną ścierną z mikrostrukturą.
Korzystnie stosuje się powierzchnię będącą warstwą na bazie ceramiki z twardością większą albo równą 500 Hv.
Korzystnie stosuje się powierzchnię będącą co najmniej jedną warstwą na bazie ceramiki, a ceramikę wybiera się spośród co najmniej jednego z następujących materiałów: cyrkonianu magnezu, tlenku glinu, tlenku cyrkonu, węglika chromu, węglika wolframu, tlenku chromu.
Korzystnie stosuje się powierzchnię płaską.
Korzystnie sposób zawiera etap tworzenia tafli odpowiadającej podłożu szklanemu, po którym następuje w sposób ciągły znakowanie.
Korzystnie znakowanie wykonuje się przed przejściem do suszarki.
Korzystnie znakowanie wykonuje się przed przejściem do pieca do wypalania.
Korzystnie sposób zawiera etap tworzenia tafli odpowiadającej podłożu szklanemu, przez walcowanie, które korzystnie drukuje taflę, po którym następuje w sposób ciągły znakowanie.
Korzystnie znakowanie wykonuje się po podniesieniu temperatury powierzchni tafli.
Korzystnie sposób zawiera etap tworzenia tafli odpowiadającej podłożu szklanemu przez ciągnienie pionowe po którym następuje, w sposób ciągły, znakowanie.
PL 211 965 B1
Korzystnie sposób zawiera etap tworzenia tafli odpowiadającej podłożu szklanemu przez ciągnienie poziome, po którym następuje, w sposób ciągły znakowanie.
Korzystnie znakowanie wykonuje się elementem znakującym obracającym się wokół osi równoległej do wybranej powierzchni płaskiej i zawiera człon i cylindryczny, korzystnie walec.
Korzystnie znakowanie wykonuje się elementem znakującym obracającym się wokół osi równoległej do wybranej powierzchni płaskiej i umieszczonym ponad powierzchnią, a podłoże jest ruchome w ruchu posuwistym i umieszczone na przenośniku który jest korzystnie układem wałków.
Korzystnie element znakujący obrotowy wykonuje ruch dodatkowy tam i z powrotem korzystnie o malej amplitudzie.
Korzystnie znakowanie wykonuje się elementem znakującym obrotowym stanowiącym korpus cylindryczny pusty korzystnie chłodzony przez nośnik umieszczany w pustym korpusie, przy czym korpus jest korzystnie z materiału znakującego ceramicznego zawierającego korzystnie pod spodem część metalową.
Korzystnie znakowanie wykonuje się elementem znakującym obrotowym stanowiącym korpus pełny, przy czym korpus jest korzystnie z materiału znakującego ceramicznego zawierającego korzystnie pod spodem część metalową.
Korzystnie wykonuje się kolejne znakowania wieloma elementami obrotowymi z materiałów znakujących różnych i z osiami o dowolnej orientacji.
Korzystnie wykonuje się kolejne znakowania wieloma elementami obrotowymi z materiałów znakujących identycznych i z osiami o dowolnej orientacji.
Podłoże szklane, korzystnie mineralne i/lub przezroczyste i/lub płaskie, którego powierzchnia ma nieregularności według wynalazku charakteryzuje się tym, że jego powierzchnia ma nieregularności wydłużone, typu zadrapań albo pasków, i w co najmniej jednym kierunku, nadając wygląd rozmyty i/lub matowy, przy czym powierzchnia ma chropowatość określoną przez Ra mniejszy od 5 ąm i Rdq większy niż 2° dla filtru gaussowskiego 0,8 mm i długości pomiaru kilku mm z krokiem 5 ąm.
Korzystnie podłoże ma rozmycie większe albo równe 50%.
Korzystnie powierzchnia ma chropowatość określoną przez Ra mniejszy albo równy 2 ąm i Rdq korzystnie większy albo równy 3°, dla filtru gaussowskiego 0,8 mm i długości pomiaru kilku mm z krokiem 5 ąm.
Korzystnie powierzchnia ma wypukłości korzystnie geometryczne, o kroku co najmniej równym kilkuset mikronów i głębokości zawartej pomiędzy kilkoma mikronami i 1 milimetrem.
Korzystnie powierzchnia ma wgłębienia, korzystnie geometryczne, o kroku co najmniej równym kilkuset mikronów i głębokości zawartej pomiędzy kilkoma mikronami i 1 milimetrem.
W stosunku do traktowania kwasem, sposób znakowania według wynalazku jest bardziej przyjazny dla środowiska i jest łatwo automatyzowany i/lub integrowany z linią produkcyjną.
Znakowanie mechaniczne według wynalazku wykonuje się przy lepkości podłoża dostosowanej do znakowania i zachowania co najmniej częściowo, korzystnie ogólnie, wspomnianego znakowania zwłaszcza jego kształtu, i/lub jednego z jego charakterystycznych wymiarów.
Na przykład, lepkość może być w obszarze punktu mięknięcia zwanego punktem Littletonaa, to znaczy wynosić 7,6.
Tak więc, sposób odróżnia się wyraźnie od warunków drukowania szkła przez walcowanie gdzie szkło jest płynne - a więc w bardzo wysokiej temperaturze - i będzie silnie odprężać się w temperaturze.
Skutek ogrzewania powierzchni przez warstwy wewnętrzne podłoża jest zresztą tym większy im podłoże jest wybrane grubsze, sprawiając wrażenie, że walcowanie jest trudne do opanowania. Przeciwnie, sposób znakowania według wynalazku jest mało wrażliwy na grubość szkła, znakowanie może być wykonywane na podłożach o wszystkich grubościach, na przykład szkła o grubości 1 cm (dla stołów...), 4, 6 albo 8 mm (dla budynku...) albo zwłaszcza w funkcji zamierzonych zastosowań.
Sposób znakowania według wynalazku umożliwia uzyskanie dostępu do szerokiej palety wizualnej, zwłaszcza szerokiego zakresu rozmycia.
Sposób według wynalazku umożliwia uzyskanie znakowania albo nieopisanych nieregularności powierzchni (na przykład zadrapanie, prążkowanie, marmurkowanie...).
Wynalazek dotyczy wszystkich typów podłoży, które mogą być doprowadzone do stanu lepkiego, zwłaszcza z przejściem szklanym, a korzystnie podłoża mineralnego.
PL 211 965 B1
Podłoże może być przezroczyste, na przykład, być szkłem sodowo wapniowym albo borowo krzemowym, te szkła mogą poza tym być jasne, ekstra jasne, barwione, ewentualnie z pęcherzykami. Podłoże może być płaskie (tafla....) albo zakrzywione.
Znakowanie według wynalazku może być wykonywane na podłożach o dużych wymiarach, mianowicie na szerokościach wielu metrów.
Znakowanie według wynalazku jest zgodne z wszystkimi następującymi przekształceniami szkła: wycinanie, formowanie, obróbka mechaniczna, hartowanie, wytwarzanie tafli wykonywanie podwójnych szyb, wykonywanie lustra....
Żadna inna obróbka po znakowaniu przez styk według wynalazku nie jest konieczna dla uzyskania pożądanych nieregularności, zwłaszcza delikatnych nieregularności.
W korzystnym przykładzie wykonania logarytm dziesiętny lepkości podłoża, określony w puazach, jest wybrany pomiędzy 4,5 i 8, i pomiędzy 5,5 i 6,5.
Oznaczenia pozostawione przez sposób mogą być wklęsłe i/lub wypukłe, okresowe, nieokresowe, przypadkowe, i mogą być określone przez ich profil, zwłaszcza ich nachylenie i ich wysokość.
W tym zakresie lepkości, nachylenie i wysokość uzyskane na ciepło są szczególnie dobrze zachowane na zimno.
Znakowanie jest szczególnie odpowiednie dla uzyskania drobnych nieregularności powierzchni, określonych:
- przez parametr chropowatości Ra mniejszy albo równy 10 ąm, a nawet 5 ąm, określający średnią amplitudę,
- i/lub parametr chropowatości Rdg większy albo równy 2°, określający średnie nachylenie i odbijający poziom rozproszenia, z filtrem gaussowskim 0,8 mm, na długości pomiaru kilku mm, na przykład 3 albo 5 mm i krokiem 5 ąm.
To znakowanie może tworzyć raster dna. Te nieregularności mogą nadawać podłożu wygląd rozmycia i/lub matowy.
Wygląd matowy może się określać zwłaszcza przez odbicie zasadniczo rozproszone na przykład większe od 80%, a nawet 90% całkowitego odbicia.
To odbicie rozproszone może się określać jako odbicie z zewnątrz stożka o małym kącie typowo większym lub mniejszym od 2,5° z kątem padania światła 10°. Dla wykonania pomiarów odbicia, można wykorzystać spektrofotometr zwłaszcza PERKIN-ELMER LAMBDA-9.
Znakowanie może być wykonywane na podłożu gładkim albo na części gładkiej podłoża albo na podłożu chropowatym.
Na przykład, podłoże do znakowania jest już chropowate albo z motywami regularnymi albo nie, wklęsłe albo wypukłe, geometryczne albo nie, na przykład w kształcie piramidalnym, karbowanym, wydłużonym, na przykład uzyskanym przez drukowanie podczas walcowania.
Tak więc, obszary wklęsłe mogą być przezroczyste albo półprzezroczyste i obszary wypukłe oznaczone na powierzchni dla uzyskania efektu rozproszenia.
Krok motywów może być zwłaszcza od kilkuset mikronów do kilku cm i ponad. Głębokość motywów może wynosić zwłaszcza od kilku mikronów do milimetra, zwłaszcza dziesięć albo kilkadziesiąt mikronów.
Znakowanie będzie więc modyfikować te motywy w sposób kontrolowany, w funkcji pożądanego wyglądu końcowego. Na przykład, znakowanie umożliwi uzyskanie drobnych nieregularności pomiędzy nieregularnościami albo motywami zwłaszcza wklęsłymi i rozsuniętymi na także wyrównywać wypukłości.
Znakowanie według wynalazku może ewentualnie być zorientowane więc zmienne zależnie od orientacji obserwacji.
Dla wykonywania znakowania, fachowiec może wybrać na przykład różne materiały znakujące i/lub chropowatości powierzchni materiału znakującego.
Powierzchnia materiału znakującego może być korzystnie:
- powierzchnią młotkowaną albo piaskowaną, cząsteczkami, kulkami albo drobinami metalowymi (stal...) i/lub ceramicznymi, zwłaszcza ściernymi, na przykład krzemowymi, z korundu, cyrkonu, albo kulkami szkła,
- powierzchnią ścierną,
- i/lub albo być (wielokrotną) warstwą na bazie ceramiki.
PL 211 965 B1
Powierzchnia może zwłaszcza być tkaniną ścierną z mikrostrukturą wykonaną przez rotograwiurę albo wytłaczanie. Ta tkanina zachowuje się jak tarcze ścierne, o parametrach szczególnie stabilnych ponieważ, gdy warstwa powierzchniowa zużyje się, pojawi się druga warstwa, zastępując pierwszą.
Dla uzyskania wyglądu matowego, materiał znakujący jest korzystnie z ceramiki albo bardziej ogólnie z dowolnego odpowiedniego materiału izolującego cieplnie, naturalnie mającego wystarczającą stabilność cieplną.
Ta warstwa ceramiki jest korzystnie z ziarnami twardymi. Także, ta warstwa ceramiki może być wybrana przy twardości większej albo równej 500 Hv korzystnie większej albo równej 900 Hv jeszcze korzystniej większej albo równej 1100 Hv.
Powierzchnia materiału znakującego może być wybrana chropowata albo gładka, na przykład Ra na przykład rzędu dziesięciu mikronów, zwłaszcza dla powierzchnia ceramicznej, albo rzędu mikrona, zwłaszcza dla powierzchni metalowej piaskowanej. Dla warstwy ceramiki, wielkość ziaren ceramiki tworzących warstwę warunkuje bezpośrednio chropowatość końcową.
Ceramika może być korzystnie na bazie jednego lub wielu następujących materiałów:
- cyrkonianu magnezu, na przykład z 25% MgO;
- tlenku glinu tlenku cyrkonu, na przykład proporcji 75/25, o twardości rzędu 1100 Hv;
- węglika chromu o twardości rzędu 1100 Hv;
- węglika wolframu o twardości rzędu 1800 Hv;
- tlenku chromu o twardości rzędu 1500 Hv.
Warstwa (wielokrotna) ceramiki może być uzyskana przez rzucanie stopionych cząsteczek na podłoże (trwale albo tymczasowe) na przykład według pierwszej techniki rozpylania plazmy przy ciśnieniu atmosferycznym (po angielsku Atmospheric Plasma Spray) albo drugiej techniki zwanej rzucaniem cieplnym Flamme-Cordon.
Zależnie od typu regulacji, rzucane cząsteczki mogą być aglomeratami kilku ziaren spiekanego proszku albo stopionym zespołem, co umożliwia rzucanie większych cząsteczek.
Grubość warstwy ceramiki może być na przykład 300 ąm i więcej.
Powierzchnia podłoża może być płaska albo w przybliżeniu płaska, na przykład podłoże jest płytą albo taflą zwłaszcza szklaną.
W sposób korzystny, sposób może zawierać etap tworzenia tafli tworzącej wspomniane podłoże szklane, po którym następuje w sposób ciągły wspomniane znakowanie.
Podczas wytwarzania tafli, na przykład ze szkła, ma się bezpośredni dostęp de lepkości według wynalazku. Przez związek z prowadzonym procesem, to pozwala uniknąć konieczności ponownego podgrzewania podłoża dla doprowadzenia go do stanu lepkiego według wynalazku, co umożliwia zyskanie na czasie, więc poprawę opłacalności.
Zwłaszcza, znakowanie może być wykonywane przed przejściem przez suszarkę albo piec do wypalania.
Przy wytwarzaniu odpowiedniej tafli wspomniane podłoże szklane może być wykonywane przez walcowanie, po którym następuje, korzystnie w sposób ciągły, wspomniane znakowanie - walec albo walce walcujące typowo ze stali mogą być gładkie, chropowate, albo z motywami dla drukowania tafli.
Korzystnie, w przypadku uprzedniego walcowania, znakowanie może być wykonywane po podniesieniu temperatury powierzchni tafli.
Przy wytwarzaniu odpowiedniej tafli wspomniane podłoże szklane może być wykonywane przez ciągnienie pionowe albo poziome, po którym następuje, korzystnie w sposób ciągły, wspomniane znakowanie.
W korzystnym sposobie wykonania sposobu znakowania według wynalazku, operuje się wychodząc z płyty albo podłoża szklanego uzyskanego według sposobu wykonania typu Fourcault, ten sposób jest opisany zwłaszcza w patencie US 717,378 i polega na uzyskaniu tafli szkła masywnej płyty albo płyty motelowej zanurzonej lepkiej cieczy i którą się powoli wyciąga. Ta płyta wyciąga ze sobą pewną ilość gęstej, lepkiej cieczy, która unosi się więc na powierzchnia kąpieli aż do momentu, gdy nastąpi przerwanie w części, która się wynurza.
Znakowanie jest wykonywane korzystnie za pomocą elementu znakującego o powierzchni zewnętrznej zakrzywionej, ze wspomnianego materiału znakującego.
W korzystnym sposobie wykonania, wspomniane podłoże przesuwa się z zadaną prędkością korzystnie w ruchu posuwistym, i znakowanie jest wykonywane za pomocą elementu znakującego, korzystnie obrotowego, o prędkości liniowej albo stycznej większej od prędkości podłoża, korzystnie razy większej, a nawet 100 razy większej i więcej.
PL 211 965 B1
Podłoże może być płaskie, ruchome w ruchu posuwistym, a element znakujący zakrzywiony i stały albo obrotowy, wokół stałej osi z pewną prędkością styczną.
Podłoże może być zakrzywione, stałe albo obrotowe, wokół stałej osi, a element znakujący płaski i ruchomy w ruchu posuwistym z pewną prędkością liniową.
Podłoże i element znakujący mogą być płaskie.
Podłoże może być ruchome w ruchu posuwistym i element znakujący może być stały albo z ruchomym w ruchu tam i z powrotem. Na przykład, prędkość styczna elementu znakującego jest pomiędzy 30 m/min i 900 m/min dla przesuwania się podłoża kilku metrów/minutę.
Prędkość mają ten sam albo przeciwny kierunek. Prędkość może być zmienna, sterowana, sterowana wstecznie. Gdy podłoże jest płaskie o danej szerokości, oś elementu obrotowego jest na przykład w przybliżeniu równoległa do szerokości podłoża przesuwającego się kierunku swojej długości.
Znakowanie może być wykonywane na przykład:
- elementem znakującym obrotowym wokół osi w przybliżeniu równoległej do powierzchni płaskiej i który zawiera człon cylindryczny, korzystnie walec,
- elementem znakującym obrotowym wokół osi w przybliżeniu równoległej do wybranej powierzchni płaskiej i umieszczonym ponad wspomnianym podłożem płaskim, ruchomym w ruchu posuwistym i umieszczonym na przenośniku, który jest korzystnie układem wałków.
Element znakujący obrotowy jest na przykład powierzchnią na jednym z wałków przenośników, aby mogła opierać się o podłoże.
Znakowanie może odpowiadać zadrapaniu powierzchni i może prowadzić do anizotropii znakowania, która może powodować różnice rozmycia zależnie od orientacji obserwatora w stosunku do kierunku przesuwania się podłoża szklanego. Rozmycie jest na przykład większe w położeniu równoległym do kierunku przesuwa się.
Dla zamglenia zadrapań, ten obrotowy element znakujący może wykonywać dodatkowy ruch tam i z powrotem, zwłaszcza ruchy boczne, to znaczy prostopadle do osi przesuwania się podłoża i korzystnie o małej amplitudzie, to znaczy amplitudzie maksymalnej mniejszej albo równej 1 cm korzystnie mniejszej albo równej 1 mm jeszcze korzystniej mniejszej albo równej 500 ąm.
Znakowanie może być wykonywane elementem znakującym obrotowym wybranym spośród:
- korpusu cylindrycznego pustego ewentualnie chłodzonego przez nośnik (powietrze, gaz .., odpowiednia ciecz) umieszczony w pustym korpusie,
- albo korpusu pełnego, korpus wykonywany korzystnie z materiału znakującego ceramicznego zawierającego ewentualnie pod spodem część metalową.
Sposób może zawierać kolejne znakowania wieloma elementami, zwłaszcza obrotowymi, z materiałów znakujących identycznych albo podobnych i z osiami o orientacji różnej albo nie.
Element znakujący dla realizacji sposobu takiego jak określony uprzednio, ma powierzchnię zakrzywioną z materiału znakującego na bazie ceramiki.
Element znakujący może być korpusem (cylindrycznym) pustym albo korpusem cylindrycznym pustym ewentualnie chłodzonym przez nośnik umieszczony w pustym korpusie.
Element znakujący może byś monolityczny, ze wspomnianego materiału znakującego albo także zawierać pod spodem część metalową, korzystnie ze stali.
Element znakujący może zawierać warstwę pośrednią, pomiędzy rdzeniem metalowym i warstwą ceramiki. Ta warstwa może służyć dla zapewnienia dobrego przylegania i dla amortyzowania współczynników rozszerzalności.
Powierzchnia elementu znakującego może być warstwą (wieloma warstwami) na bazie ceramiki, taką jak już opisane, na przykład zawierać tkaninę ścierną z mikrostrukturą.
Wynalazek dotyczy na koniec podłoża szklanego, którego powierzchnia ma oznaczenia albo nieregularności zwłaszcza dla nadawania wyglądu rozmytego i/lub matowego,
- nieregularności są uzyskane sposobem takim jak określony uprzednio, i/lub
- nieregularności są wydłużone, typu zadrapań albo prążków, zwłaszcza zaokrąglonych i ułożonych co najmniej w jednym kierunku.
To podłoże szklane jest korzystnie zasadniczo mineralne, może być monolityczne w postaci tafli albo wielowarstwowe, może być przezroczyste i płaskie.
Dla oka, znakowane podłoże może być białe i matowe co może wytwarzać efekt rozmycia. Ten efekt rozmycia może być uwidoczniony i skwantowany miernikiem rozmycia, który charakteryzuje część światła przechodzącą przez dyfuzje na zewnątrz odbicia (Rozmycie = Przechodzenie Rozproszone TD/Przechodzenie Światła TL).
PL 211 965 B1
Korzystnie, podłoże ma rozmycie większe albo równe 50%, jeszcze korzystniej większe albo równe 60%.
Rozmycie może być anizotropowe i zorientowane przez zadrapania, albo izotropowe. Ta pierwsza powierzchnia może mieć pewną chropowatość, określoną na podstawie dobrze znanych parametrów chropowatości:
- Ra mniejszy od 5 μm, korzystnie mniejszy albo równy 2 μm a nawet 1 μm, zwłaszcza pomiędzy rzędu 0,8 μm albo 0,4 μm;
- Rdg większy od 2, korzystnie większy albo równy 3;
- i ewentualnie RSm mniejszy albo równy 300 μm, korzystnie 200 μm, zwłaszcza rzędu 60 μm i rzędu 100 μm, RSm określa średni okres, dla filtru gaussowskiego 0,8 mm i długości pomiaru kilku mm z krokiem 5 μm.
W stosunku do szkieł matowanych kwasem, szkła znakowane według wynalazku mogą mieć oznaczenia średnio płytsze ale bardziej regularne, o okresie porównywalnym i mniejszym nachyleniu.
Zadrapania albo paski mogą być mniej lub bardziej regularne, wierzchołki mogą być w większości zaokrąglone. Pomiędzy paskami, powierzchnia może mieć wygląd grudkowaty. Zadrapania albo paski mogą być czyste, na przykład bez łusek i wzdłużne.
Powierzchnia oznaczona może mieć wypukłości i/lub wgłębienia, korzystnie geometryczne, z krokiem większym albo równym kilkaset mikronów i o głębokości zawartej pomiędzy kilkoma mikronami i 1 milimetrem.
Podłoża oznaczone według wynalazku mogą w dotyku sprawiać wrażenie suchego w odróżnieniu od szkła matowanego kwasem, które w dotyku sprawia wrażenie tłustego.
Powierzchnia oznaczona podłoża według wynalazku może być mniej podatna na zabrudzenia i/lub łatwiejsza do czyszczenia niż szkła matowane kwasem.
Szkła oznaczone są mniej wrażliwe na ślady palców niż szkła matowane kwasem. Ślady palców usuwa się suchą szmatką. Większa łatwość czyszczenia jest ważna zwłaszcza dziedzinie dekoracji ponieważ powierzchnia zewnętrzna jest często wystawiona bezpośrednio na agresje zewnętrzne i osoby mają ochotę ją dotknąć.
Ponadto, powierzchnia przeciwna do powierzchni oznaczonej według wynalazku może być gładka.
Podłoże szklane oznaczone według wynalazku może być stosowane zwłaszcza jako element frontowy, jako wyposażenie wnętrza, ścianka działowa, element umeblowania, dla mebli sprzedażnych, jako gablota, witryna, jako element dekoracyjny w kuchniach, łazienkach, jako okno albo także jako rozpraszasz.
To podłoże szklane oznaczone według wynalazku może stanowić część na przykład oszklenia albo części oszklenia wewnętrznego albo zewnętrznego.
Podłoże szklane oznaczone według wynalazku może podnosić wartość każdego typu przestrzeni (prywatnych, handlowych, biurowych, hotelowych) ruchomych, kabin prysznicowych, drzwi i szyb szafy.
Ponadto, układ oświetlenia tylnego, który stanowi źródło światła albo back-light jest na przykład stosowane jako źródło oświetlenia tylnego dla ekranów ciekłokrystalicznych, zwanych także ekranami LCD. Okazuje się, że światło w ten sposób emitowane przez układ oświetlenia tylnego nie jest wystarczająco jednorodne i ma zbyt duże kontrasty. Tak więc, sztywny rozpraszacz związany z układem oświetlenia tylnego jest więc konieczny dla ujednorodniania światła.
Struktura optyczna zawiera powyżej sztywnego rozpraszacza element typu BEF, na przykład folie z tworzywa sztucznego, która zawiera powierzchnię dolną gładką i powierzchnię górną z rowkami mającymi kąt wierzchołkowy 90° dla przekierowywania światła do przodu.
Także, oznaczone podłoże szklane liniowane według wynalazku może być stosowane jako element dla przekierowywania światła do przodu zwłaszcza dla układu oświetlenia tylnego ekranu ciekłokrystalicznego.
Przedmiot wynalazku w przykładzie wykonania jest przedstawiony na rysunku na którym fig. 1 i 2 przedstawiają uproszczone widoki z boku sposobu znakowania według wynalazku w pierwszym i drugim przykładzie wykonania wynalazku, fig. 3 i 4 - uproszczone widoki w przekroju elementów znakujących według wynalazku, fig. 5 i 6 są profilami chropowatości produktów oznaczonych według wynalazku, fig. 7 jest uproszczonym widokiem produktu oznaczonego według wynalazku.
Uściśla się, że dla jasności i pokazanych przedmiotów nie są koniecznie odtworzone w skali.
PL 211 965 B1
Fig. 1 przedstawia sposób wytwarzania tafli szkła znakowanej według pierwszego przykładu wykonania wynalazku.
Walce walcujące 10, ze stali, zapewniają formowanie tafli szklanej 1, walec mniejszy 11 jest na przykład gładki, a walec większy 12 jest gładki albo w odmianie może być dostosowany do wytwarzania na tafli 1 motywów geometrycznych wklęsłych i/lub wypukłych, na przykład piramidek albo motywów wydłużonych, rozsuniętych na kilka cm i o głębokości od 10 gm do 2 mm.
Wałki przenośników 20, 30 napędzają taflę szkła 1 z prędkością 3 m/min w kierunku jej długości.
Na poziomie wałka przenośnika 31 jest umieszczony walec znakujący 40 umieszczony ponad taflą 1 i stykający się na przykład na całej szerokości powierzchni górnej 1a tafli 1.
Walec znakujący 40 obraca się w kierunku przeciwnym do ruchu wskazówek zegara, albo w odmianie obraca się w kierunku ruchu wskazówek zegara. Oś obrotu walca 40 jest na przykład równoległa do szerokości tafli szkła 1.
Prędkość styczna walca znakującego 40 jest większa od prędkości tafli.
Walec znakujący 40 nie jest chłodzony.
W miejscu wałka przenośnika 31, logarytm dziesiętny lepkości określonej w puazach jest rzędu 7,5.
Proces przebiega w sposób ciągły i szkło oznaczone 1 przechodzą następnie do suszarni (nie pokazana) i może być poddawane innym późniejszym przekształceniom szklarskim (cięcie, hartowanie...).
Jak pokazano na fig. 3, walec znakujący 40 jest zbudowany z korpusu stalowego 43, pokrytego korzystnie warstwą pośrednią 42, dla przyczepności i rozszerzalności cieplnej i warstwą zewnętrzną 41 z tlenku glinu tlenku cyrkonu, w proporcji 75/25. Ta warstwa ceramiki 41 jest nałożona przez rozpylanie plazmy przy ciśnieniu atmosferycznym, ma ona twardość 1100 Hv, i stabilność do 900°C. Ta ceramika 41 ma ponadto chropowatość określoną przez Ra rzędu dziesięciu mikronów.
W pierwszej odmianie nie pokazanej, warstwa zewnętrzna walca jest z cyrkonianu magnezu z 25% MgO. Ta warstwa jest nałożona przez rzucanie cieplne flamme cordon, z twardością rzędu 1000 Hv, i stabilności do 1300°C. Ta ceramika 41 ma ponadto chropowatość określoną przez Ra rzędu dziesięciu mikronów.
W drugiej odmianie, wykorzystuje się walec pełny monolityczny z ceramiki jak pokazano na figurze 4.
W trzeciej odmianie, wykorzystuje się walec pusty, ewentualnie chłodzono.
Fig. 2 przedstawia sposób wytwarzania tafli szkła znakowanej według drugiego przykładu wykonania wynalazku.
Ten drugi przykład różni się od pierwszego przykładu wykonania tym, że walec znakujący 40' jest umieszczony bardziej z przodu na poziomie wałka przenośnika 31'.
W tym położeniu, logarytm dziesiętny lepkości określonej w puazach jest rzędu 6. Styk z walcem sztywnym jest szczególnie dobry.
Alternatywnie:
- element znakujący 40 wykonuje ruch dodatkowy tam i z powrotem korzystnie o małej amplitudzie,
- i/lub element znakujący jest ze stali piaskowanej, albo także warstwa ceramiki jest zamieniona przez tkaninę ścierną z mikrostrukturą.
P r z y k ł a d y
Pierwsza seria szkieł została wykonana realizując sposób według pierwszej konfiguracji, opisany uprzednio w odniesieniu do figur 1 i 3.
Tafla szkła nr 1a jest ze szkła krzemo sodowo wapniowym o grubości 5 mm, o szerokości równej 30 cm, z walca 40 o prędkości 300 razy większej od prędkości tafli i obracającego się w kierunku przeciwnym do ruchu wskazówek zegara albo w kierunku przesuwania się szkła. Tafla szkła nr 1b jest ze szkła krzemo sodowo wapniowego o grubości 5 mm, szerokości równej 30 cm z walca 40 o prędkości 300 razy większej od prędkości tafii i obracającego się w kierunku ruchu wskazówek zegara albo w kierunku przeciwnym do przesuwania się szkła.
Druga seria szkieł została wykonana, realizując sposób według pierwszej konfiguracji opisany uprzednio ale z walcem z pierwszej odmiany.
Tafla szkła nr 2 jest ze szkła krzemo sodowo wapniowego o grubości 5 mm, szerokości równej cm z walcami 40 z pierwszej odmiany o prędkości 200 razy większej od prędkości tafli, obracającymi się kierunku przeciwnym do ruchu wskazówek zegara albo w kierunku przesuwania się szkła.
Inne rodzaje szkła, rozmiary szkła i grubości szkła mogą być wybrane.
PL 211 965 B1
Wygląd powierzchni
Szkła nr 1a, nr 1b i nr 2 zostały oznaczone w postaci zadrapań.
Fig. 4 pokazuje odpowiednio profile chropowatości szkła nr 1a i nr 2 z filtrem 0,8 mm, krokiem 5 ąm i o długości pomiaru 5 mm.
Dla ułatwienia wizualizacji wierzchołków, tylko profile są pokazane na 1 mm.
Dla szkieł znakowanych przez cylinder 40, szkło nr 1a jak i nr 1b, rozróżnia się paski o głębokości około 0,5 ąm mniej lub bardziej regularne, i wierzchołki pomiędzy +/-2,5 ąm. Te wierzchołki mogą odpowiadać wyglądowi chropowatemu powierzchni pomiędzy paskami obserwowanemu przez mikroskop optyczny o powiększeniu 20. Prostopadle do tych pasków, nie odróżnia się oznaczeń regularnych pod mikroskopem optycznym o takim powiększeniu.
Profil chropowatości pokazuje, że znakowanie jest dobrze widoczne z powierzchni szkła 1a i w postaci zadrapań zorientowanych w kierunku przesuwania się szkła. Podobny profil jest uzyskany dla szkła 1b.
Dla szkła nr 2, zadrapania mają większe zmiany (większe okresy). Są one bardziej zaokrąglone. Największe dochodzą do +/-3 ąm najmniejsze pomiędzy +/-1 ąm. Profil wydaje się najbliższy da profilu szkła matowanego kwasem. Uzyskane rozmycie jest mniejsze.
Wartości standardowych parametrów chropowatości (Ra, Rdq, RSm) są przedstawione w tablicy 1, obliczone dla szkła nr 1a, nr 1b i nr 2 jak również dla dwóch szkieł matowanych kwasem użytych tytułem porównania. Filtr wybrany jest filtrem gaussowskim klasycznym 0,8 mm, długość pomiaru jest 5 mm z krokiem 5 ąm.
| Ra (ąm) | RSm (ąm) | Rdq (°) | ||||
| Średni | Typowa odchyłka | Średni | Typowa odchyłka | Średni | Typowa odchyłka | |
| Szkło 1a | 0,5 | 0,03 | 59,2 | 4,75 | 5,1 | 0,59 |
| Szkło 1b | 0,4 | 0,04 | 57,2 | 5,79 | 4,1 | 0,71 |
| Szkło 2 | 0,8 | 0,07 | 101,1 | 12,06 | 6,5 | 1,98 |
| Szkło 3 (porównawcze) | 1,7 | 0,05 | 98,1 | 4,68 | 12,2 | 0,2 |
| Szkło 4 (porównawcze) | 2,3 | 0,02 | 62,6 | 1,6 | 23,6 | 0,32 |
Tablica 1
Profile sądosyć regularne: typowe odchyłki parametrów chropowatości są rzędu 1/10 tej.
Nie zauważa się znacznej różnicy oznaczenia pomiędzy szkłami nr 1a i nr 1b, które zostały znakowane za pomocą tego samego walca 40 ale obracającego się w dwóch przeciwnych kierunkach. Kierunek obrotu walca nie wydaje się mieć wpływu na wygląd końcowy, biorąc pod uwagę jego zwiększoną prędkość obrotu w stosunku do przesuwania się szkła.
Zauważa się, że szkło 2 ma powierzchnię inna niż szkła 1a i 1b. Głębokość średnia, krok średni i nachylenie średnie są większe. Efekt rozmycia jest słabszy.
W stosunku do szkieł matowanych kwasem nr 3 i nr 4, szkła znakowane na ciepło nr 1a, nr 1b i nr 2 mają motywy średnio mniej głębokie. Krok jest porównywalny (RSm) i bardziej nieregularny. Nachylenie (Rdq) jest mniejsze, więc szkła są ogólnie mniej rozpraszające.
Wygląd matowy
Szkła oznaczone nr 1a, nr 1b i nr 2 mają taki wygląd że można je zakwalifikować jako matowe. Gdy obserwuje się odbicie, nie obserwuje się silnego odblasku. Odbicie na tych szkłach jest słabe i zasadniczo rozproszone. Ten wygląd matowy jest bliski do wyglądu produktów satynowanych kwasem, zwłaszcza dla szkła nr 1a i 1b. Zwłaszcza przez ten wygląd matowy, szkła oznaczone 1a, 1b i 2 są bardzo różne od zwykłych szkieł drukowanych, które są błyszczące i dla których obserwuje się znaczny odblask przy odbiciu.
Ponadto, szkła oznaczone nr 1a, nr 1b, nr 2 w dotyku sprawiają wrażenie „suchego”, co różni je od szkieł matowanych kwasem nr 3, nr 4. Są one również miłe w dotyku ponieważ zadrapania są zaokrąglone. Dla gołego oka, szkła oznaczone nr 1a, nr 1b, nr 2 oglądane przy odbiciu są w mniejszym stopniu zabrudzone śladami palców niż szkła matowane kwasem nr 3 i nr 4.
PL 211 965 B1
Ślady palców usuwa się bez trudności suchą szmatką na szkłach oznaczanych 1a, 1b, 2.
Scharakteryzowanie rozmycia
Anizotropia rozmycia.
Powierzchnie szkła nr 1a, nr 1b i nr 2 mają zadrapania równoległe do kierunku przesuwania się szkła, to jest prostopadle do osi cylindra.0] Jeżeli ogląda się efekt zamglenia obrazu - mira utworzona z linii równoległych czarnych na białym tle, regularnie rozsuniętych, na przykład 1 linia/mm albo 2 linie/mm albo 3 linie/mm - przez szkła oznaczone, obserwuje się różne efekty zależnie od orientacja szkła.
Gdy mira jest równoległa do zadrapań (więc w kierunku przesuwania się szkła), zamglenie miry jest znaczne, nie rozróżnia się linii.
Gdy mira jest prostopadła do zadrapań (więc prostopadła do kierunku przesuwania się szkła), zamglenie miry jest słabsze, rozróżnia się jeszcze linie.
Uzyskuje się więc anizotropowy efekt rozmycia: linie równoległe do zadrapań oznaczonych na powierzchni są znacznie bardziej zamglone niż linie prostopadłe do tych zadrapań.
Pomiar rozmycia
Rozmycie, mierzone klasycznie miernikiem rozmycia zwanym Hezegard System XL-211 firmy BYK GARDNER, jest przedstawione w tablicy 2.
| TL | TD | Rozmycie | |
| Szkło 1a | 84 | 52 | 61 |
| Szkło 2 | 79 | 47 | 60 |
Tablica 2
Uzyskano większe rozmycie dla szkła nr 1a niż dla szkła nr 2, cylinder w odmianie słabiej znakował szkło.
Te pomiary uwypuklają efekt znakowania. Pokazują one wyraźnie efekt rozmycia w obszarze oznaczonym.
Fig. 7 jest uproszczonym widokiem produktu znakowanego według wynalazku, uzyskanego w odmianie sposobu opisanej na figurze 1, walec większy 12 jest dostosowany do tworzenia na tafia 1 motywów geometrycznych wklęsłych i/lub wypukłych, na przykład piramidek albo linii. Motywy mogą być szerokie na 5 mm do 1 cm, rozsunięte okresowo albo nie na kilka cm, zwłaszcza od 1 do 5 cm i o głębokości od 0,01 do 2 mm.
Obszary wypukłe mają zadrapania równoległe do kierunku przesuwania się szkła, to jest prostopadłe do osi cylindra. Znakowanie obszarów wypukłych powoduje zdjęcie tylko kilku ąm materiału.
Pokazany produkt zawiera motywy wklęsłe 2 w postaci linii równoległych o głębokości 1 mm, szerokości pomiędzy 3 mm i 10 mm oddzielone przez obszary wypukłe zadrapane 3 o szerokości pomiędzy 6 i 20 mm.
Alternatywnie można tworzyć motywy wklęsłe o szerokości dużo mniejszej o odległości pomiędzy motywami o głębokości 1 mm, na przykład o szerokości równej 2 mm i oddzielone od siebie o odległość równą 30 mm.
Claims (28)
1. Sposób mechanicznego znakowania powierzchni podłoża typu szklanego przez mechaniczny styk z powierzchnią z materiału znakującego, przy czym co najmniej jeden z elementów, podłoże, powierzchnia znakująca jest płaski i ruchomy w ruchu postępowym, znamienny tym, że zawiera etap znakowania mechanicznego powierzchni (1a, 1'a) podłoża (1, 1') w stanie lepkim o zadanej lepkości, przez styk mechaniczny z powierzchnią (41) z materiału znakującego, logarytm dziesiętny lepkości podłoża określonej w puazach jest wybrany większy od 4 i mniejszy albo równy 11, prędkość względna pomiędzy powierzchnią materiału znakującego i powierzchnią podłoża jest niezerowa, przy czym znakowanie wykonuje się elementem znakującym (40, 40') o powierzchni zewnętrznej zakrzywionej (41) wykonanej z materiału znakującego, a podłoże (1, 1') przesuwa się z zadaną prędkością, i znakowanie wykonuje się elementem znakującym (40, 40') o prędkości liniowej albo stycznej większej od prędkości podłoża.
PL 211 965 B1
2. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że Iogarytm dziesiętny lepkości podłoża (1, 1') określonej w puazach jest wybrany pomiędzy 4,5 i 8, korzystnie pomiędzy 5,5 i 6,5.
3. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że znakowanie wykonuje się na powierzchni, która ma już nieregularności, o kształtach wybranych spośród wklęsłych wypukłych, zwłaszcza będących motywami geometrycznymi.
4. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że stosuje się powierzchnię ścierną.
5. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że stosuje się powierzchnię piaskowaną.
6. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że stosuje się materiał znakujący na bazie ceramiki (41) zwłaszcza będący warstwą ceramiki (41), szczególnie tkaniną ścierną z mikrostrukturą.
7. Sposób według zastrz. 1 albo 2, znamienny tym, że stosuje się powierzchnię (41) będącą warstwą na bazie ceramiki z twardością większą albo równą 500 Hv.
8. Sposób według zastrz. 1 albo 2, znamienny tym, że stosuje się powierzchnię (41) będącą co najmniej jedną warstwą na bazie ceramiki, a ceramikę wybiera się spośród co najmniej jednego z następujących materiałów: cyrkonianu magnezu, tlenku glinu, tlenku cyrkonu, węglika chromu, węglika wolframu, tlenku chromu.
9. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że stosuje się powierzchnię (1a, 1'a) płaską.
10. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że zawiera etap tworzenia tafli odpowiadającej podłożu szklanemu (1, 1'), po którym następuje w sposób ciągły znakowanie.
11. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że znakowanie wykonuje się przed przejściem do suszarki.
12. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że znakowanie wykonuje się przed przejściem do pieca do wypalania.
13. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że zawiera etap tworzenia tafli odpowiadającej podłożu szklanemu (1, 1'), przez walcowanie, które korzystnie drukuje taflę, po którym następuje w sposób ciągły znakowanie.
14. Sposób według zastrz. 13, znamienny tym, że znakowanie wykonuje się po podniesieniu temperatury powierzchni (1a, 1'a) tafli (1, 1').
15. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że zawiera etap tworzenia tafli odpowiadającej podłożu szklanemu przez ciągnienie pionowe po którym następuje, w sposób ciągły, znakowanie.
16. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że zawiera etap tworzenia tafli odpowiadającej podłożu szklanemu przez ciągnienie poziome, po którym następuje, w sposób ciągły znakowanie.
17. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że znakowanie wykonuje się elementem znakującym (40, 40') obracającym się wokół osi równoległej do wybranej powierzchni (1a, 1'a) płaskiej i zawiera człon cylindryczny, korzystnie walec.
18. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że znakowanie wykonuje się elementem znakującym (40, 40') obracającym się wokół osi równoległej do wybranej powierzchni płaskiej i umieszczonym ponad powierzchnią (1a, 1'a), a podłoże (1, 1') jest ruchome w ruchu posuwistym i umieszczone na przenośniku który jest korzystnie układem wałków.
19. Sposób według zastrz. 18, znamienny tym, że element znakujący obrotowy wykonuje ruch dodatkowy tam i z powrotem korzystnie o małej amplitudzie.
20. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że znakowanie wykonuje się elementem znakującym obrotowym stanowiącym korpus cylindryczny pusty korzystnie chłodzony przez nośnik umieszczony w pustym korpusie, przy czym korpus jest korzystnie z materiału znakującego ceramicznego zawierającego korzystnie pod spodem część metalową.
21. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że znakowanie wykonuje się elementem znakującym obrotowym stanowiącym korpus pełny, przy czym korpus jest korzystnie z materiału znakującego ceramicznego zawierającego korzystnie pod spodem cześć metalową.
22. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że wykonuje się kolejne znakowania wieloma elementami obrotowymi z materiałów znakujących rożnych i z osiami o dowolnej orientacji.
23. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że wykonuje się kolejne znakowania wieloma elementami obrotowymi z materiałów znakujących identycznych i z osiami o dowolnej orientacji.
24. Podłoże szklane (1, 1'), korzystnie mineralne i/lub przezroczyste i/lub płaskie, którego powierzchnia ma nieregularności, znamienne tym, że jego powierzchnia (1, 1'a) ma nieregularności wydłużone, typu zadrapań albo pasków, i w co najmniej jednym kierunku, nadając wygląd rozmyty i/lub matowy, przy czym powierzchnia (1, 1'a) ma chropowatość określoną przez Ra mniejszy od 5 ąm i Rdq większy niż 2° dla filtru gaussowskiego 0,8 mm i długości pomiaru kilku mm z krokiem 5 ąm.
PL 211 965 B1
25. Podłoże, według zastrz. 24, znamienne tym, że ma rozmycie większe albo równe 50%.
26. Podłoże według zastrz. 24, znamienne tym, że powierzchnia (1a, 1'a) ma chropowatość określoną przez Ra mniejszy albo równy 2 ąm i Rdq korzystnie większy albo równy 3°, dla filtru gaussowskiego 0,8 mm i długości pomiaru kilku mm z krokiem 5 ąm.
27. Podłoże według zastrz. 24, znamienne tym, że powierzchnia (1a, 1'a) na wypukłości korzystnie geometryczne, o kroku co najmniej równym kilkuset mikronów i głębokości zawartej pomiędzy kilkoma mikronami i 1 milimetrem.
28. Podłoże według zastrz. 24, znamienne tym, że powierzchnia (1, 1'a) ma wgłębienia, korzystnie geometryczne, o kroku co najmniej równym kilkuset mikronów i głębokości zawartej pomiędzy kilkoma mikronami i 1 milimetrem.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR0553547A FR2893608B1 (fr) | 2005-11-22 | 2005-11-22 | Procede de marquage d'une face d'un substrat de type verrier, un tel substrat et moyen de marquage pour le procede |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL385927A1 PL385927A1 (pl) | 2009-01-19 |
| PL211965B1 true PL211965B1 (pl) | 2012-07-31 |
Family
ID=36636157
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL06842014T PL1968801T3 (pl) | 2005-11-22 | 2006-11-21 | Sposób znakowania powierzchni podłoża typu szklanego, takie podłoże i element znakujący do tego sposobu |
| PL385927A PL211965B1 (pl) | 2005-11-22 | 2006-11-21 | Sposób mechanicznego znakowania powierzchni podłoża typu szklanego i podłoże szklane |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL06842014T PL1968801T3 (pl) | 2005-11-22 | 2006-11-21 | Sposób znakowania powierzchni podłoża typu szklanego, takie podłoże i element znakujący do tego sposobu |
Country Status (12)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP1968801B1 (pl) |
| JP (1) | JP5378796B2 (pl) |
| KR (1) | KR101463850B1 (pl) |
| CN (1) | CN101360614B (pl) |
| CZ (1) | CZ2008389A3 (pl) |
| DE (1) | DE112006003072T5 (pl) |
| ES (1) | ES2331555B1 (pl) |
| FR (1) | FR2893608B1 (pl) |
| GB (1) | GB2445906A (pl) |
| PL (2) | PL1968801T3 (pl) |
| TR (1) | TR200803652T1 (pl) |
| WO (1) | WO2007060363A2 (pl) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2934588B1 (fr) * | 2008-07-30 | 2011-07-22 | Fives Stein | Procede et dispositif de realisation d'une structure sur l'une des faces d'un ruban de verre |
| GB2477094B (en) * | 2010-01-20 | 2016-02-03 | Steven David Collins | Process for manufacturing glass |
| US10246365B2 (en) | 2013-10-09 | 2019-04-02 | Corning Incorporated | Apparatus and method for forming thin glass articles |
| CN106830637B (zh) * | 2017-02-17 | 2019-08-23 | 东旭科技集团有限公司 | 一种玻璃热收缩测试标记的制作方法 |
| EP3815915B1 (en) * | 2019-11-04 | 2024-07-03 | SCHOTT Pharma AG & Co. KGaA | Substrate having a marking element, container comprising such a substrate and method for producing a substrate having a marking element |
| CN111410405B (zh) * | 2020-03-31 | 2023-03-24 | 凤阳硅谷智能有限公司 | 一种高花纹精度、耐高温压花辊结构及制备方法 |
| DE102020209410A1 (de) | 2020-07-24 | 2022-01-27 | Schott Ag | Vorrichtung zur Herstellung von Substraten aus Glas, Glaskeramik und/oder Glaskeramikmaterial und Verfahren |
| RU2770201C1 (ru) * | 2021-07-02 | 2022-04-14 | Автономная некоммерческая организация высшего образования «Белгородский университет кооперации, экономики и права» | Способ матирования объемных изделий из стекла |
| FR3129672B1 (fr) * | 2021-11-30 | 2025-10-24 | Eurokera | Plaque en verre ou vitroceramique |
| FR3140623A1 (fr) * | 2022-10-05 | 2024-04-12 | Eurokera S.N.C. | Article vitrocéramique et procédé de fabrication d’un tel article |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE130084C (pl) * | ||||
| US717378A (en) | 1902-05-24 | 1902-12-30 | Emile Fourcault | Apparatus for the manufacture of plate-glass by stretching. |
| US2326044A (en) * | 1940-07-20 | 1943-08-03 | Corning Glass Works | Glass forming apparatus |
| US3484227A (en) * | 1965-05-13 | 1969-12-16 | Fabricacion De Maquinas | Drawing and/or annealing rolls for sheet glass making apparatus |
| JPS61117123A (ja) * | 1985-09-13 | 1986-06-04 | Toshizo Sakamoto | 透明ガラスと不透明ガラスが連続して1体をなす2様式板ガラスの製造 |
| DE3719200A1 (de) * | 1987-06-09 | 1988-12-29 | Ibm Deutschland | Optische speicherplatte und verfahren zu ihrer herstellung |
| CN1018631B (zh) * | 1987-10-05 | 1992-10-14 | 尚惠春 | 工业化生产彩虹发生材料及彩虹制品的方法 |
| GB8728272D0 (en) * | 1987-12-03 | 1988-01-06 | Pilkington Plc | Method of producing surface microstructure on glass |
| DE3808380A1 (de) * | 1988-03-12 | 1989-09-21 | Wilhelm Koenig | Verfahren zum praegen von festprogrammen auf glasdisks und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens |
| JPH046117A (ja) * | 1990-04-23 | 1992-01-10 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | ガラス成形体の連続製造方法 |
| DE69834385T2 (de) * | 1997-07-30 | 2007-04-19 | Hoya Corp. | Verfahren zur herstellung von glassubstrat zur informationsaufzeichnung |
| JP4306877B2 (ja) * | 1999-05-31 | 2009-08-05 | 日本板硝子株式会社 | 表面に凹凸を有するガラス板の製造方法 |
| JP4107642B2 (ja) * | 2002-07-11 | 2008-06-25 | ニチアス株式会社 | ディスクロール |
| JP2009143806A (ja) * | 2009-03-27 | 2009-07-02 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 表面に凹凸を有するガラス板の製造方法 |
-
2005
- 2005-11-22 FR FR0553547A patent/FR2893608B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-11-21 ES ES200850059A patent/ES2331555B1/es not_active Expired - Fee Related
- 2006-11-21 CN CN2006800515514A patent/CN101360614B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2006-11-21 TR TR2008/03652T patent/TR200803652T1/xx unknown
- 2006-11-21 CZ CZ20080389A patent/CZ2008389A3/cs unknown
- 2006-11-21 JP JP2008541797A patent/JP5378796B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2006-11-21 WO PCT/FR2006/051203 patent/WO2007060363A2/fr not_active Ceased
- 2006-11-21 EP EP06842014.0A patent/EP1968801B1/fr not_active Not-in-force
- 2006-11-21 DE DE112006003072T patent/DE112006003072T5/de not_active Withdrawn
- 2006-11-21 PL PL06842014T patent/PL1968801T3/pl unknown
- 2006-11-21 KR KR1020087012248A patent/KR101463850B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 2006-11-21 PL PL385927A patent/PL211965B1/pl unknown
-
2008
- 2008-05-21 GB GB0809200A patent/GB2445906A/en not_active Withdrawn
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN101360614B (zh) | 2013-07-24 |
| FR2893608A1 (fr) | 2007-05-25 |
| DE112006003072T5 (de) | 2008-09-25 |
| TR200803652T1 (tr) | 2008-10-21 |
| JP2009516635A (ja) | 2009-04-23 |
| GB0809200D0 (en) | 2008-06-25 |
| EP1968801A2 (fr) | 2008-09-17 |
| PL385927A1 (pl) | 2009-01-19 |
| KR20080068884A (ko) | 2008-07-24 |
| ES2331555B1 (es) | 2010-10-15 |
| GB2445906A (en) | 2008-07-23 |
| FR2893608B1 (fr) | 2008-12-26 |
| EP1968801B1 (fr) | 2013-10-09 |
| ES2331555A1 (es) | 2010-01-07 |
| KR101463850B1 (ko) | 2014-11-20 |
| PL1968801T3 (pl) | 2014-01-31 |
| WO2007060363A2 (fr) | 2007-05-31 |
| CZ2008389A3 (cs) | 2008-10-08 |
| JP5378796B2 (ja) | 2013-12-25 |
| WO2007060363A3 (fr) | 2007-09-07 |
| CN101360614A (zh) | 2009-02-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| GB2445906A (en) | Method for making a glass type substrate surface, subtrate and marking device threfor | |
| US11073715B2 (en) | Method for producing glass article, and glass article | |
| CN112055702B (zh) | 用于改进曲率的化学强化薄玻璃基材新范例及制造方法 | |
| EP2773595B1 (en) | Method for sparkle control | |
| CN1501892A (zh) | 形成压花和/或花纹玻璃的方法和设备及由其形成的玻璃制品 | |
| TW201743081A (zh) | 具有改良的觸知表面之殼體 | |
| TW201639796A (zh) | 具有防指紋表面的外殼 | |
| US11795103B2 (en) | Chemically-strengthened thin glass substrates new paradigms for modified curvature and methods of manufacture | |
| US10787384B2 (en) | Low sparkle glass sheet and process of making it | |
| JP6977642B2 (ja) | ガラス物品 | |
| JP6993608B2 (ja) | 透明スクリーン、映像表示システム、及び透明スクリーンの製造方法 | |
| JP2009516635A5 (pl) | ||
| CN113365954B (zh) | 玻璃陶瓷制品 | |
| EP0945411A1 (en) | Glass sheet | |
| EP0952122A1 (en) | Glass | |
| US20230416144A1 (en) | Chemically-strengthened thin glass substrates new paradigms for modified curvature and methods of manufacture | |
| US20240092149A1 (en) | Decorative glass panel with the appearance of a noble material | |
| Belis et al. | Monolithic Glass | |
| Lazareva et al. | Glass and Glass Materials for Environmental Design Objects | |
| EA048418B1 (ru) | Декоративная стеклянная панель с внешним видом благородного материала |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RECP | Rectifications of patent specification |