PL216025B1 - Urządzenie do obróbki plazmowej wody - Google Patents
Urządzenie do obróbki plazmowej wodyInfo
- Publication number
- PL216025B1 PL216025B1 PL389626A PL38962609A PL216025B1 PL 216025 B1 PL216025 B1 PL 216025B1 PL 389626 A PL389626 A PL 389626A PL 38962609 A PL38962609 A PL 38962609A PL 216025 B1 PL216025 B1 PL 216025B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- liquids
- vacuum chamber
- plasma
- water
- cathode
- Prior art date
Links
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 24
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title abstract description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract description 8
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 claims abstract description 9
- 239000000523 sample Substances 0.000 claims abstract description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 4
- 230000005684 electric field Effects 0.000 abstract description 6
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 abstract description 3
- 230000010349 pulsation Effects 0.000 abstract 1
- 230000005495 cold plasma Effects 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 238000000347 anisotropic wet etching Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005672 electromagnetic field Effects 0.000 description 1
- 229910003480 inorganic solid Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000003446 memory effect Effects 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 description 1
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)
Abstract
Przedmiotem wynalazku jest sposób obróbki plazmowej cieczy, zwłaszcza wody i urządzenie do obróbki plazmowej cieczy przy wykorzystaniu plazmy niskotemperaturowej. Sposób charakteryzuje się tym, że ciecz znajduje się w pojemniku lub przepływa przez przepływowy pojemnik cieczy umieszczony wewnątrz lub na zewnątrz komory próżniowej, w której to komorze utrzymywane jest ciśnienie pomiędzy 10-1-10-3 hPa, wytwarza się impulsowe pole elektryczne, w wyniku czego, pod wpływem plazmy, na skutek przekazywanej energii kinetycznej jonów resztkowych gazów, zachodzą przemiany własności fizyko-chemicznych cieczy. Urządzenie do obróbki plazmowej cieczy charakteryzuje się tym, że składa się z komory próżniowej z elektrodami anodą i katodą, w pobliżu której umieszczono w odległości nie większej niż 5 cm, wewnątrz lub na zewnątrz, przepływowy pojemnik cieczy, pompy próżniowej, zasilacza prądu elektrycznego i generatora impulsów, który poprzez sondę zmienia częstotliwość pulsacji pola elektrycznego w komorze próżniowej.
Description
Opis wynalazku
Przedmiotem wynalazku jest urządzenie do obróbki plazmowej wody przy wykorzystaniu plazmy niskotemperaturowej.
Znane jest zjawisko zmiany własności elektrycznych cieczy pod wpływem zewnętrznego pola elektromagnetycznego. Znany jest fakt, że woda poddana obróbce promieniowaniem mikrofalowym charakteryzuje się zwiększonym przewodnictwem elektrycznym, zmniejszoną wartością parametru zasadowości pH (patrz: R. Walczak; J.A. Dziuban, Microwave enhanced wet anisotropic etching of silicon utilizing a memory effect of KOH activation-a remote E2MSi process. Sensors and Actuators A; Physical, Volume 116, Issue 1, str. 161-170).
Znane są sposoby zmiany przewodnictwa elektrycznego i zasadowości wody przez wykorzystanie zjawiska elektrolizy, bądź przez wyładowania elektryczne.
Znane są warunki i sposoby wytwarzania zimnej plazmy w urządzeniach próżniowych, oraz znane są metody jej wytwarzania w reaktorach plazmowych zwanych popularnie plazmatorami [polski opis patentowy nr 115800]. Technologia zimnej plazmy zwanej także niskotemperaturową atmosferyczną próżnią jest stosowana powszechnie w sterylizacji urządzeń medycznych.
Znane są metody obróbki w polu zimnej plazmy ciał stałych nieorganicznych - kryształów, metali, oraz polimerów organicznych (patrz V. Abidzina, I. V. Tereshko, I. Elkin, S. Budak, C. Muntele, D. IIa, Plasma ion induced Au nanocluster formation on silica, Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms, Volume 261, Issues 1-2, str. 674-677).
Nie były znane urządzenia do obróbki substancji ciekłych w polu zimnej plazmy o temperaturze pokojowej.
Z cytowanego stanu techniki wiadomym jest, że w obecności szczątkowych gazów po osiągnięciu krytycznych wartości pola elektrycznego inicjowany jest zapłon plazmy. W tych warunkach w płynach ulokowanych w przy katodzie w wodoszczelnych pojemnikach przepływowych, pod wpływem plazmy dokonują się radykalne zmiany fizyko-chemicznych właściwości wody.
Celem wynalazku jest opracowanie urządzenia do obróbki plazmowej cieczy, umożliwiającego zmianę właściwości fizyko-chemicznych wody, pozwalających na wykorzystanie wody dla celów farmacji, kosmetyki i biotechnologii.
Urządzenie do obróbki plazmowej wody charakteryzujące się tym, że składa się z komory próżniowej o kształcie ściętego stożka z umieszczonymi równolegle do podstaw stożka metalowymi elektrodami w kształcie dysku; anodą o średnicy od 40 mm do 50 mm i katodą o średnicy od 350 mm do 450 mm i oddalonymi od siebie o odległość od 200 mm do 500 mm, w pobliżu której jest umieszczony w odległości nie większej niż 5 cm, wewnątrz lub na zewnątrz, przepływowy pojemnik wody, przy czym komora próżniowa jest podłączona do pompy próżniowej przystosowanej do generowania -1 -3 w komorze próżniowej ciśnienia od 10-1 do 10-3 hPa, natomiast elektrody są przyłączone do zasilacza prądu elektrycznego połączonego z generatorem impulsów i sondą pomiarową umieszczoną wewnątrz komory próżniowej.
Pompa próżniowa jest przystosowana do generowania w komorze próżniowej ciśnienia od 10-1 -3 do 10-3 hPa. Generator impulsów jest przystosowany do sterowania zasilaczem na podstawie wskazań sondy pomiarowej do wytwarzania pomiędzy elektrodami impulsowego pola elektrycznego o częstotliwości od 10 Hz do 280 GHz i maksymalnej amplitudzie prądu w impulsie 5 mA do 200 mA przy różnicy potencjałów w granicach od 300 V do 2000 V. Komora jest zbudowana z materiałów zapewniających próżnioszczelność takich jak metale lub ich stopy albo szklanych bądź plastykowych.
W tych warunkach w płynach ulokowanych w sąsiedztwie katody w wodoszczelnych pojemnikach przepływowych (szklanych, plastykowych bądź metalicznych) pod wpływem plazmy, na skutek przekazywanej energii kinetycznej jonów resztkowych gazów, zachodzą przemiany własności fizykochemicznych wody, będących wynikiem kolektywnej przebudowy stanu wody. Woda poddana obróbce w plazmatorze charakteryzuje się obniżoną wartością pH, wynoszącą od 3 do 5 w zależności od czasu obróbki i natężenia prądu przyłożonego do elektrod. Ponadto woda taka ma zwiększone przewodnictwo elektryczne oraz obniżoną temperaturę krzepnięcia i zwiększoną temperaturę wrzenia. Tak zmienione parametry wody są wynikiem przebudowy struktury wody - zmniejszenia rozmiarów klasterów. Zmienione charakterystyki wody są stabilne przez okres nawet kilku tygodni, stopniowo zmieniając się z upływem czasu.
Woda może być poddana obróbce plazmowej także w reżymie przepływu.
PL 216 025 B1
Przedmiot wynalazku pokazano w przykładach wykonania na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia schemat budowy reaktora plazmowego (plazmatora) do obróbki wody w pojemnikach umieszczonych wewnątrz reaktora, a fig. 2 przedstawia schemat ideowy reaktora plazmowego (plazmatora) do obróbki wody w płaszczu zewnętrznym.
P r z y k ł a d 1
Urządzenie będące przedmiotem wynalazku składa się z reaktora plazmy, składającego się z komory próżniowej w kształcie stożka ściętego i pojemnika na ciecz umieszczonego wewnątrz komory. W komorze umieszczono elektrody w kształcie dysków (anoda u góry i katoda u podstawy) o średnicy 40 mm anoda i 400 mm katoda, wytwarzające impulsowe pole elektryczne o częstotliwościach 1000 Hz i amplitudzie prądu w impulsie 20 mA przy różnicy potencjałów 1000 V przy odległościach między anodą i katodą 300 mm. Parametry pola są kontrolowane przy pomocy sondy umieszczonej wewnątrz komory próżniowej i podłączonej do generatora impulsów. Pojemnik z cieczą jest kształtu stożka ściętego o pojemności około 1 l.
P r z y k ł a d 2
Urządzenie będące przedmiotem wynalazku składa się z reaktora plazmy, składającego się z komory próżniowej w kształcie stożka ściętego i pojemnika na ciecz umieszczonego na zewnątrz komory jako płaszcz zewnętrzny. W komorze umieszczono elektrody w kształcie dysków (anoda u góry i katoda u podstawy) o średnicy 40 mm anoda i 400 mm katoda, wytwarzające impulsowe pole elektryczne o częstotliwościach 200 GHz i maksymalnej amplitudzie prądu w impulsie 200 mA przy różnicy potencjałów 2000 V przy odległościach między anodą i katodą 500 mm. Parametry pola są kontrolowane przy pomocy sondy umieszczonej wewnątrz komory próżniowej i podłączonej do generatora impulsów. Urządzenie służy do obróbki plazmowej wody w przepływie.
Wydajność obróbki plazmowej wody w tym urządzeniu zachodzi z wydajnością 1-3 l/min.
Claims (1)
- Urządzenie do obróbki plazmowej wody z komorą próżniową, znamienne tym, że składa się z komory próżniowej o kształcie ściętego stożka z umieszczonymi równolegle do podstaw stożka metalowymi elektrodami w kształcie dysku; anodą o średnicy od 40 mm do 50 mm i katodą o średnicy od 350 mm do 450 mm i oddalonymi od siebie o odległość od 200 mm do 500 mm, przy czym w pobliżu katody jest umieszczony w odległości nie większej niż 5 cm, wewnątrz lub na zewnątrz komory próżniowej, przepływowy pojemnik wody, przy czym komora próżniowa jest podłączona do pompy próżniowej, natomiast elektrody są przyłączone do zasilacza prądu elektrycznego połączonego z generatorem impulsów i sondą pomiarową umieszczoną wewnątrz komory próżniowej.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL389626A PL216025B1 (pl) | 2009-11-20 | 2009-11-20 | Urządzenie do obróbki plazmowej wody |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL389626A PL216025B1 (pl) | 2009-11-20 | 2009-11-20 | Urządzenie do obróbki plazmowej wody |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL389626A1 PL389626A1 (pl) | 2011-05-23 |
| PL216025B1 true PL216025B1 (pl) | 2014-02-28 |
Family
ID=44070287
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL389626A PL216025B1 (pl) | 2009-11-20 | 2009-11-20 | Urządzenie do obróbki plazmowej wody |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL216025B1 (pl) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2017176132A1 (en) * | 2016-04-05 | 2017-10-12 | DECEWICZ, Sławomir | A method for modifying the structure of materials by means of a glow discharge and a device for modifying the structure of materials by means of a glow discharge |
| PL423403A1 (pl) * | 2017-11-10 | 2019-05-20 | Liw Lewant Fabryka Wyrobow Z Tworzyw Sztucznych Spolka Z Ograniczona Odpowiedzialnoscia | Urządzenie do uwalniania jonów metali lub minerałów do roztworów wodnych oraz sposób uwalniania jonów metali lub minerałów w roztworze wodnym |
| PL424050A1 (pl) * | 2017-12-27 | 2019-07-01 | Oszczęda Zdzisław Stomadent | Zastosowanie wody poddanej działaniu plazmy do żywienia krów |
| PL424049A1 (pl) * | 2017-12-27 | 2019-07-01 | Oszczęda Zdzisław Stomadent | Zastosowanie wody poddanej działaniu plazmy do żywienia kur i indyków |
| PL424030A1 (pl) * | 2017-12-22 | 2019-07-01 | Oszczęda Zdzisław Stomadent | Zastosowanie wody poddanej działaniu plazmy do żywienia świń |
| EP3880298A2 (en) * | 2018-11-16 | 2021-09-22 | PLASMA INVESTMENT SP. z o.o. | The method and device for micro-structuring liquids, including body fluids |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| PL238301B1 (pl) * | 2017-09-19 | 2021-08-09 | Oszczeda Zdzislaw Stomadent | Sposób stymulacji wzrostu grzybów owadobójczych oraz ich patogeniczności dla szkodników w biologicznej ochronie roślin |
-
2009
- 2009-11-20 PL PL389626A patent/PL216025B1/pl unknown
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2017176132A1 (en) * | 2016-04-05 | 2017-10-12 | DECEWICZ, Sławomir | A method for modifying the structure of materials by means of a glow discharge and a device for modifying the structure of materials by means of a glow discharge |
| PL423403A1 (pl) * | 2017-11-10 | 2019-05-20 | Liw Lewant Fabryka Wyrobow Z Tworzyw Sztucznych Spolka Z Ograniczona Odpowiedzialnoscia | Urządzenie do uwalniania jonów metali lub minerałów do roztworów wodnych oraz sposób uwalniania jonów metali lub minerałów w roztworze wodnym |
| PL424030A1 (pl) * | 2017-12-22 | 2019-07-01 | Oszczęda Zdzisław Stomadent | Zastosowanie wody poddanej działaniu plazmy do żywienia świń |
| PL238025B1 (pl) * | 2017-12-22 | 2021-06-28 | Oszczeda Zdzislaw Stomadent | Zastosowanie wody poddanej działaniu plazmy do żywienia świń |
| PL424050A1 (pl) * | 2017-12-27 | 2019-07-01 | Oszczęda Zdzisław Stomadent | Zastosowanie wody poddanej działaniu plazmy do żywienia krów |
| PL424049A1 (pl) * | 2017-12-27 | 2019-07-01 | Oszczęda Zdzisław Stomadent | Zastosowanie wody poddanej działaniu plazmy do żywienia kur i indyków |
| PL238027B1 (pl) * | 2017-12-27 | 2021-06-28 | Oszczeda Zdzislaw Stomadent | Zastosowanie wody poddanej działaniu plazmy do żywienia krów |
| PL238026B1 (pl) * | 2017-12-27 | 2021-06-28 | Oszczeda Zdzislaw Stomadent | Zastosowanie wody poddanej działaniu plazmy do żywienia kur i indyków |
| EP3880298A2 (en) * | 2018-11-16 | 2021-09-22 | PLASMA INVESTMENT SP. z o.o. | The method and device for micro-structuring liquids, including body fluids |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL389626A1 (pl) | 2011-05-23 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| PL216025B1 (pl) | Urządzenie do obróbki plazmowej wody | |
| WO2010122459A3 (en) | Method and apparatus for high aspect ratio dielectric etch | |
| TW200952560A (en) | Method for controlling ion energy in radio frequency plasmas | |
| CN201923870U (zh) | 一种用于废水处理的水下脉冲射频等离子体放电装置 | |
| TW201429323A (zh) | 電漿腔室及基板處理設備 | |
| KR20160041937A (ko) | 반응체, 발열 장치 및 발열 방법 | |
| KR102619877B1 (ko) | 기판 처리 장치 | |
| TW201631220A (zh) | 能量提取系統及方法 | |
| JPWO2011099247A1 (ja) | 液中プラズマ用電極、液中プラズマ発生装置およびプラズマ発生方法 | |
| CN102618914B (zh) | 光辅助多孔硅电化学腐蚀槽 | |
| Liu et al. | Effect of external electric field on helix plasma plume | |
| CN104284505A (zh) | 常压低温等离子体流水式粉体材料改性系统 | |
| JP2015211093A (ja) | プラズマ処理装置 | |
| JP5083825B2 (ja) | 液体中プラズマ放電装置 | |
| Yang et al. | Effects of electrode parameters on sewage disinfection by underwater pulsed arc discharge | |
| CN105744713B (zh) | 一种阵列针-板式液相等离子体射流发生装置 | |
| CN203851355U (zh) | 压力温度可调的气体放电等离子体发生装置 | |
| KR101477676B1 (ko) | 플라즈마의 라디칼 제어 장치 및 방법 | |
| RU2670249C1 (ru) | Реактор для плазменной обработки полупроводниковых структур | |
| CN104812155A (zh) | 大气压等离子体发生装置及方法 | |
| KR101535402B1 (ko) | 액체의 플라즈마 처리를 위한 장치 | |
| KR20120059439A (ko) | 저압에서의 플라즈마 유도 코팅 방법 및 장치 | |
| Pinchuk et al. | Shock waves in water at low energy pulsed electric discharges | |
| Pinchuk et al. | Dynamics of bubble generated by low energy pulsed electric discharge in water | |
| KR20200003469A (ko) | 기포가둠 공간을 구비한 액체 방전 플라즈마 장치 |