PL223682B1 - Miniaturowe źródło plazmy jarzeniowej - Google Patents
Miniaturowe źródło plazmy jarzeniowejInfo
- Publication number
- PL223682B1 PL223682B1 PL395405A PL39540511A PL223682B1 PL 223682 B1 PL223682 B1 PL 223682B1 PL 395405 A PL395405 A PL 395405A PL 39540511 A PL39540511 A PL 39540511A PL 223682 B1 PL223682 B1 PL 223682B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- plasma
- discharge
- source
- electrodes
- glow
- Prior art date
Links
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 238000011160 research Methods 0.000 description 3
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 2
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000005520 electrodynamics Effects 0.000 description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 2
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 2
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 239000004753 textile Substances 0.000 description 2
- BGPVFRJUHWVFKM-UHFFFAOYSA-N N1=C2C=CC=CC2=[N+]([O-])C1(CC1)CCC21N=C1C=CC=CC1=[N+]2[O-] Chemical compound N1=C2C=CC=CC2=[N+]([O-])C1(CC1)CCC21N=C1C=CC=CC1=[N+]2[O-] BGPVFRJUHWVFKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000005495 cold plasma Effects 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 230000009849 deactivation Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910001172 neodymium magnet Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 description 1
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 231100000167 toxic agent Toxicity 0.000 description 1
- 239000002341 toxic gas Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Description
Opis wynalazku
Przedmiotem wynalazku jest miniaturowe źródło plazmy jarzeniowej, mające zastosowanie w miktoreaktorach chemicznych oraz, w urządzeniach do modyfikowania struktur i właściwości fizykochemicznych powierzchni materiałów organicznych i nieorganicznych.
Od wielu lat odnotowywany jest dynamiczny wzrost zainteresowania możliwościami wykorzystania plazmy niskotemperaturowej w zastosowaniach technologicznych i naukowych. Techniki plazmowe stosowane są między innymi do aktywowania i modyfikacji powierzchni materiałów (np. zmiana hydrofilowości lub hydrofobowości, wzrost adhezji), osadzania cienkich powłok, wytwarzania nowych materiałów, czyszczenia i obróbki powierzchni (np. trawienia struktur krzemowych w elektronice i mikromechanice, usuwanie nalotów korozyjnych i zanieczyszczeń olejowych), dezaktywacji toksycznych związków, sterylizacji narzędzi i preparatów medycznych oraz modyfikacji włókien tekstylnych (naturalnych i syntetycznych). W zakresie zastosowań badawczych źródła plazmowe wykorzystuje się min. w diagnostyce spektroskopowej do wykrywania i oznaczania stężeń toksycznych gazów.
W zastosowaniach technologicznych największym zainteresowaniem cieszy się plazma niskotemperaturowa wytwarzana przy ciśnieniu atmosferycznym tub obniżonym. Źródłami plazmy wytwarzanej przy ciśnieniu atmosferycznym są zwykle wyładowania łukowe, koronowe, barierowe lub mikrofalowe. Tak uzyskiwana plazma ma temperaturę od kilkuset do kilku tysięcy kelwinów. Zimną plazmę o temperaturze już od ok. 300 K uzyskuje się zwykle w wyładowaniach jarzeniowych. Są one wytwarzane w zbiornikach próżniowych, między elektrodami zasilanymi ze źródeł prądu stałego (DC) lub przemiennego o częstotliwości radiowej (RF) albo też z generatorów mikrofalowych i MW).
Wyładowania jarzeniowe mogą być wytwarzane w całej objętości komory próżniowej lub lokalnie. Z ekonomicznego punktu widzenia, do zastosowań technologicznych preferowane są układy proste i względnie tanie w eksploatacji. Takie właściwości mają reaktory plazmowe z wyładowaniami ślizgowymi (ang. „gliding discharges”). Charakteryzują się one małą objętością zjonizowanego gazu plazmotwórczego, co umożliwia uzyskanie względnie wysokiej sprawności elektrycznej reaktora, przy jednoczesnym zachowaniu dużej jednorodności plazmy i łatwej regulacji jej parametrów. Podlegający licznym analizom i opisom literaturowym przykład źródła plazmowego i wyładowaniem ślizgowym, wytworzonym strumieniem przepływającego gazu, przedstawiono na fig. 1.
W powyższym rozwiązaniu stosowane są rozbieżne elektrody, umieszczone między dwiema płytkami izolacyjnymi. Wyładowanie, mimo zasilania ze źródła prądu stałego, jest w rzeczywistości wyładowaniem pulsującym: inicjowanym przez przebicie przerwy międzyelektrodowej (w najwęższym odstępie elektrod) i gasnącym po przemieszczeniu się kanału plazmowego na taką odległość, przy której napięcie na wyładowaniu staje się większe od napięcia zapłonowego na początku rozbieżnych elektrod. W takim momencie cykl inicjowania wyładowania zostaje wznowiony.
Charakterystyczną cechą układów takiego typu jest możliwość pracy przy ciśnieniu atmosferycznym jednak ze stałym dopływem gazu plazmotwórczego o ciśnieniu podwyższonym. W naturalny sposób dyskwalifikuje to możliwość pracy reaktora przy obniżonych ciśnieniach roboczych. Plazma na wylocie reaktora ma temperaturę od kilkuset do 3000 K, a układ do stabilnej pracy i ochrony źródła zasilającego przed zwarciem wymaga stosowania szeregowej rezystancji o dużej wartości (20-500 kC). Przy większych prądach roboczych pogarsza to zdecydowanie sprawność energetyczną układu.
Niższą temperaturę plazmy wyładowania jarzeniowego można uzyskać przez obniżenie ciśnienia roboczego reaktora plazmowego. W tym przypadku dla uzyskania wyładowania ślizgowego wykorzystuje się elektrodynamiczne oddziaływanie pola magnetycznego, skierowanego poprzecznie do prądu przepływającego przez kanał plazmowy. Niska temperatura uzyskiwanej plazmy jest szczególnie korzystna do modyfikacji powierzchni polimerów, oraz obróbki membran i włókien tekstylnych, Opracowane technologiczne i laboratoryjne układy tego typu wykorzystują do zasilania reaktora (podobnie jak w reaktorach z podmuchem gazu), wysokonapięciowe źródła prądu stałego z rezystorami stabilizującymi i ograniczającymi prąd wyładowania.
Wyniki badań niskociśnieniowych, ślizgowych wyładowań jarzeniowych prądu stałego wskazały na potencjalne możliwości wykonania prostego mikroreaktora plazmowego, zasilanego prądem przemiennym o częstotliwości sieciowej. Prędkość przemieszczania się wyładowania na rozbieżnych elektrodach, umieszczonych w poprzecznym polu magnetycznym, jest tym większa im większy jest prąd i indukcja pola magnetycznego i maleje dla większych wartości ciśnienia. Dla prostych do wytworzenia ciśnień rzędu p=10-50 kPa, prądów I=10-100 mA i indukcji B«100 mT prędkości te wynoszą od jednego
PL 223 682 B1 do kilku m/s. Dla częstotliwości sieciowej prądu (50 Hz) czas trwania jednej półfali wynosi 10 ms, co oznacza, że w/w warunkach wyładowanie przemieści się na odległość od jednego do kilku centymetrów. Dla mikroreaktora jest to wystarczające do pracy z częstotliwością 50 Hz, a nawet 100 Hz.
Przy odpowiednio wysokiej wartości chwilowej napięcia, inicjowanie wyładowania w reaktorze ślizgowym, zasilanym ze źródła prądu przemiennego lub pulsującego (po wyprostowaniu bez obwodów filtrujących) jest identyczne jak w rozwiązaniach konwencjonalnych. Inaczej przebiega jednak jego gaśnięcie. Jest ono wynikiem naturalnego spadku napięcia źródła zasilającego (na opadającej części sinusoidy), a nie ponownego zapłonu wyładowania w miejscu zbliżenia elektrod. Z punktu widzenia konstrukcji urządzenia istotne jest jego docelowe przeznaczenie. Jeżeli ma ono pracować wyłącznie jako reaktor plazmowy, długość elektrod ma mniejsze znaczenie. W przypadku zastosowań do obróbki technologicznej materiałów (podczas której struga uzyskiwanej plazmy powinna mieć styc zność z obrabianym materiałem), dla przyjętych parametrów pracy (p, I, B), maksymalną długość elektrod należy tak dobrać, aby wyładowanie w czasie 10 ms przepływu prąciu zdołało dotrzeć do krawędzi reaktora.
Istotą wynalazku jest miniaturowe źródło plazmy jarzeniowej, charakteryzujące się tym, że stanowi je zestaw trzech płaskich, zasilanych prądem pulsującym, elektrod ukształtowanych tak, że tworzą dwie rozbieżne przestrzenie wyładowcze, usytuowanych w poprzecznym polu magnetycznym, oddzielonych od płaskich magnesów trwałych izolacyjnymi przekładkami, przy czym magnesy trwałe, obejmujące przestrzeń wyładowczą zwrócone są do siebie przeciwnymi biegunami.
Dzięki zastosowaniu rozwiązania według wynalazku uzyskano następujące efekty techniczno-użytkowe:
• tani i prosty sposób wytwarzania plazmy jarzeniowej do zastosowań badawczych i technologicznych, • wytwarzanie plazmy o niskiej temperaturze i dużej, lokalnej koncentracji, • wytwarzanie plazmy o powtarzalnych parametrach, • łatwość regulacji mocy elektrycznej źródła plazmy, • uzyskanie korzystnego technologicznie kształtu wyładowania - w formie wąskiego „paska plazmowego”, • pracę źródła (jako mikroreaktora) w różnych środowiskach plazmotwórczych, • zastosowanie prostego układu zasilającego w postaci transformatora wysokonapięciowego o dużym rozproszeniu strumienia magnetycznego, • pracę źródła plazmy przy względnie niskich napięciach zasilających, • pracę źródła plazmy przy tzw. niskiej próżni, co umożliwia wykorzystanie urządzenia nawet w ciągłych procesach technologicznych, • łatwość adaptacji do manipulatorów i ramion małych robotów, pracujących wewnątrz zbiorn ików próżniowych.
Rozwiązanie znane ze stanu techniki uwidocznione jest na fig. 1 przedstawiającej wyładowanie ślizgowe prądu stałego wymuszone strumieniem gazu. Przedmiot wynalazku w przykładowym wykonaniu uwidoczniony jest na rysunku, gdzie fig. 2 przedstawia wykrój wzdłużny miniaturowego źródła plazmy jarzeniowej, fig. 3 przedstawia widok z góry miniaturowego źródła plazmy jarzeniowej, fig. 4 przedstawia przekrój poprzeczny miniaturowego źródła plazmy jarzeniowej, a fig. 5 przedstawia przebieg napięć zasilających.
Miniaturowe źródło plazmy jarzeniowej, stanowi zestaw trzech płaskich elektrod 1,2 i 3, znajdujących się w poprzecznym polu magnetycznym, oddzielonych izolacyjnymi przekładkami 4 od płaskich magnesów trwałych 5, przy czym magnesy obejmujące przestrzenie wyładowania 6 zwrócone są do siebie przeciwnymi biegunami. Ukształtowanie elektrody 3 jest takie, że z elektrodami 1 i 2 tworzy ona dwa symetryczne, rozbieżne obszary wyładowcze 6 (lewy i prawy na fig. 7).
Wyładowanie jest inicjowane w miejscu zbliżenia elektrod 1 i 3 lub 2 i 3, gdy chwilowa wartość napięcia zasilającego (na narastającej części sinusoidy) przekroczy wytrzymałość elektryczną przerwy międzyelektrodowej. O tym, który z kanałów wyładowczych 6 (lewy czy prawy na fig. 2) zostanie uaktywniony, decyduje obecność napięcia zasilającego na elektrodach 1 i 2 lub 2 i 3. Przepływ prądu w plazmie wyładowania skierowany jest prostopadle do kierunku pola magnetycznego wytwarzanego przez magnesy trwałe 5. Elektrodynamiczne oddziaływanie prądu i pola magnetycznego powoduje w aktualnie aktywnej przestrzeni wyładowczej 6 przemieszczanie się plazmy wyładowania w kierunku zgodnym z regułą Ampere'a, czyli zgodnie z kierunkiem wzrostu rozbieżności elektrod. Przy przyjętym jak na fig. 4 kierunku pola magnetycznego, pokazane na fig. 5 dodatnie półfale napięć zasilających
PL 223 682 B1
UDC1 i UDC2 powodują zainicjowanie wyładowań (oraz przepływ prądu i przemieszczanie się plazmy), naprzemiennie w lewym i prawym obszarze wyładowczym 8. Powstają w ten sposób dwa naprzemiennie pracujące mikroreaktory, zasilane wyprostowanym jednopołówkowo napięciem sinusoidalnym o częstotliwości sieciowej. Taki tryb pracy jest trudny do zrealizowania w klasycznych urządzeniach z wyładowaniami ślizgowymi, zasilanymi prądem stałym. Ponadto, w urządzeniach klasycznych, dla uzyskania cykliczności pracy, plazma wyładowania musi przemieszczać się na znaczną odległość, przy której napięcie na wyładowaniu staje się większe od wytrzymałości elektrycznej przerwy w miejscu zbliżenia elektrod. Zastosowany w przedstawianej konstrukcji sposób zasilania umożliwia samoczynne gaśnięcie wyładowania, gdy wartość napięcia zmniejszy się poniżej wartości niezbędnej do jego podtrzymania. W ten sposób uzyskano możliwość zmniejszenia reaktora w stosunku do urządzeń zasilanych prądem stałym.
Wykorzystanie napięć zasilających o przebiegach pokazanych na fig. 5 pozwala, dla każdego obszaru wyładowczego 6, na cykliczne inicjowanie wyładowania (na narastającym zboczu sinusoidy) i wymuszone jego gaszenie - przy zmniejszeniu się napięcia (na opadającej części odcinka przebiegu sinusoidalnego) do wartości odpowiadającej naturalnemu stanowi gaśnięcia. Jest to powód, dla którego źródło zasilające, nieuwidocznione na rysunku, nie może zawierać filtrów elektrycznych, eliminujących sieciową harmoniczną napięcia zasilającego.
Grubość elektrod 1, 2 i 3 nie jest krytyczna lecz korzystne jest aby zawierała się w przedziale 0,5-2 mm. Rozbieżność elektrod 1, 2 i 3 (przestrzeni wyładowczych 6) nie powinna przekraczać 45° i powinna być tym mniejsza, im bardziej prostoliniowy ma być kształt wytwarzanego odcinka plazmy jarzeniowej. W przypadku zastosowania magnesów trwałych 5, wykonanych z materiałów o bardzo dużej rezystywności (praktycznie dielektrycznych), reaktor może pracować bez przekładek izolacyjnych 4. Obecnie produkowane są magnesy wytwarzające bardzo silne pola magnetyczne (np. m agnesy neodymowe). Przy wykorzystaniu takich magnesów możliwa jest również praca z pojedynczym magnesem trwałym 5, umieszczonym z dowolnej strony elektrod 1, 2 i 3, pod warunkiem zachowania właściwej biegunowości.
Claims (1)
- Zastrzeżenie patentoweMiniaturowe źródło plazmy jarzeniowej, znamienne tym, że stanowi je zestaw trzech płaskich, zasilanych prądem pulsującym, elektrod (1), (2) i (3) ukształtowanych tak, że tworzą dwie rozbieżne przestrzenie wyładowcze (6), usytuowanych w poprzecznym polu magnetycznym, oddzielonych od płaskich magnesów trwałych (5) izolacyjnymi przekładkami (4), przy czym magnesy trwałe (5), obejmujące przestrzeń wyładowczą (6) zwrócone są do siebie przeciwnymi biegunami.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL395405A PL223682B1 (pl) | 2011-06-22 | 2011-06-22 | Miniaturowe źródło plazmy jarzeniowej |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL395405A PL223682B1 (pl) | 2011-06-22 | 2011-06-22 | Miniaturowe źródło plazmy jarzeniowej |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL395405A1 PL395405A1 (pl) | 2013-01-07 |
| PL223682B1 true PL223682B1 (pl) | 2016-10-31 |
Family
ID=47624634
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL395405A PL223682B1 (pl) | 2011-06-22 | 2011-06-22 | Miniaturowe źródło plazmy jarzeniowej |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL223682B1 (pl) |
-
2011
- 2011-06-22 PL PL395405A patent/PL223682B1/pl unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL395405A1 (pl) | 2013-01-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Kogelschatz | Collective phenomena in volume and surface barrier discharges | |
| JPH04242924A (ja) | プラズマ発生装置およびそれを用いたエッチング方法 | |
| CN103533733B (zh) | 大气压磁场增强型低温等离子体电刷发生装置 | |
| JP2007512942A (ja) | エアロゾル電荷変改装置 | |
| ES2399181T3 (es) | Proceso e instalación para la preparación de superficie mediante descarga de una barrera dieléctrica | |
| Amjad et al. | Analysis, design, and implementation of multiple parallel ozone chambers for high flow rate | |
| CN103327722B (zh) | 介质阻挡增强型多电极辉光放电低温等离子体刷阵列发生装置 | |
| US10183881B1 (en) | Systems and methods for treating industrial feedwater | |
| Boulos et al. | Basic concepts of plasma generation | |
| KR101214441B1 (ko) | 수처리용 수중 방전 장치 | |
| US20070175747A1 (en) | Plasma processing method and apparatus thereof | |
| Abidat et al. | Numerical simulation of atmospheric dielectric barrier discharge in helium gas using COMSOL Multiphysics | |
| JP2014210222A (ja) | 液体処理装置 | |
| EP1565044A1 (en) | Plasma-generating device and method of treating a gaseous medium | |
| PL223688B1 (pl) | Miniaturowe źródło plazmy jarzeniowej | |
| KR100997165B1 (ko) | 공기 청정 및 살균용 플라즈마 발생장치에 사용되는 변압기 | |
| PL223686B1 (pl) | Miniaturowe źródło plazmy jarzeniowej | |
| PL223685B1 (pl) | Miniaturowe źródło plazmy jarzeniowej | |
| Naeim et al. | Studying the properties of water activated by hybrid plasma for biological and medical applications | |
| KR20130082343A (ko) | 상압 플라즈마 장치 | |
| Hartmann et al. | Large area pulsed corona discharge in water for disinfection and pollution control | |
| Gasparik et al. | Effect of CO2 and Water Vapors on NO x Removal Efficiency under Conditions of DC Corona Discharge in Cylindrical Discharge Reactor | |
| Shkurenkov et al. | Two-dimensional simulation of an atmospheric-pressure RF DBD in a H2: O2 mixture: discharge structures and plasma chemistry | |
| KR100485816B1 (ko) | 상압 플라즈마 발생장치 | |
| KR102067407B1 (ko) | 플라즈마 발생기 |