PL227192B1 - Sposób magnetronowego nanoszenia powłok, zwłaszcza na elementy kompozytowe oraz układ do magnetronowego nanoszenia powłok, zwłaszcza na elementy kompozytowe - Google Patents

Sposób magnetronowego nanoszenia powłok, zwłaszcza na elementy kompozytowe oraz układ do magnetronowego nanoszenia powłok, zwłaszcza na elementy kompozytowe

Info

Publication number
PL227192B1
PL227192B1 PL406491(22)20131213A PL40649113A PL227192B1 PL 227192 B1 PL227192 B1 PL 227192B1 PL 40649113 A PL40649113 A PL 40649113A PL 227192 B1 PL227192 B1 PL 227192B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
magnetron
cassette
mask
magazine
coating
Prior art date
Application number
PL406491(22)20131213A
Other languages
English (en)
Other versions
PL406491A1 (pl
Inventor
Jerzy Bryk
Łukasz Mazur
Original Assignee
Centrum Badawcze Clear Air Spółka Z Ograniczoną Odpowiedzialnością
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Centrum Badawcze Clear Air Spółka Z Ograniczoną Odpowiedzialnością filed Critical Centrum Badawcze Clear Air Spółka Z Ograniczoną Odpowiedzialnością
Priority to PL406491(22)20131213A priority Critical patent/PL227192B1/pl
Publication of PL406491A1 publication Critical patent/PL406491A1/pl
Publication of PL227192B1 publication Critical patent/PL227192B1/pl

Links

Landscapes

  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest sposób magnetronowego nanoszenia powłok, zwłaszcza na elementy kompozytowe oraz układ do magnetronowego nanoszenia powłok, zwłaszcza na elementy kompozytowe, stosowany w szczególności do powłokowania kompozytów stosowanych w lotnictwie.
Znany jest z polskiego opisu patentowego nr PL 211397 sposób otrzymywania warstw za pomocą impulsowego procesu rozpylania magnetronowego, w którym po osiągnięciu krytycznej wartości mocy wydzielanej w targecie, przy której ilość jonów materiału rozpylanego jest zdolna do podtrzymania wyładowania, wyłącza się dopływ gazu roboczego, a wyładowanie jarzeniowe podtrzymuje się wyłącznie jonami materiału rozpylanego, przy czym magnetron zasila się impulsami, pomiędzy którymi występuje przerwa o czasie mniejszym niż czas zaniku plazmy.
Z innego polskiego opisu zgłoszeniowego nr P.396389 znany jest sposób nanoszenia warstw w wielotargetowym układzie do rozpylania magnetronowego, w szczególności przeznaczony do wytwarzania warstw jednoskładnikowych lub wieloskładnikowych albo wielowarstw. Sposób polega na tym, że w jednym cyklu technologicznym, w wyniku rozpylania co najmniej jednego targetu, nanosi się na podłoża umieszczone na stoliku, co najmniej jedną warstwę materiału targetu i/lub produktów reakcji materiału targetu i gazu reaktywnego, doprowadzanego wlotami do komory próżniowej.
Natomiast z patentu europejskiego EP1626433 znane jest urządzenie do rozpylania magnetronowego, cylindryczna katoda i sposób nakładania cienkich warstw wieloskładnikowych na podłoże. Sposób wg opisu charakteryzuje się tym, że cylindryczna katoda zawiera co najmniej dwa segmenty z różnych materiałów i podczas nanoszenia warstwy wieloskładnikowej na podłoże wokół wzdłużnej osi obraca się ją za pomocą leżącego wewnątrz układu magnesów, podłoże prowadzi się podczas rozpylania przed cylindryczną katodą. Prędkość podłoża dobiera się w zależności od wydajności rozpylania i odległości cylindrycznej katody od podłoża tak, że na podłożu ustala się żądana grubość warstwy wieloskładnikowej, oraz obrotową prędkość cylindrycznej katody dobiera się w zależności od prędkości podłoża tak, że poszczególne segmenty targetu rozpyla się szybko jeden po drugim, różne składniki materiałowe nakładają się na siebie lokalnie na podłożu i ulegają wymieszaniu, zaś na podłożu osadza się w ten sposób warstwę wieloskładnikową. Urządzenie do rozpylania magnetronowego, wg opisu, charakteryzuje się tym, że środki do obracania cylindrycznej są dopasowane do tego, by obracać cylindryczną katodę w zasadzie w sposób ciągły z prędkością zależną od prędkości podłoża, w związku z czym materiały targetowe mieszają się na podłożu i w ten sposób za pomocą współrozpylania magnetronowego na podłożu osadzana jest warstwa wieloskładnikowa.
Z innego patentu europejskiego EP 1697555 znany jest sposób i urządzenie do napylania magnetronowego. Sposób osadzania cienkich warstw wg tego opisu charakteryzuje się tym, że warstwa metalu przeważnie złożona jest z jednego pierwiastka, który ma liczbę masową większą niż przeciętna liczba masowa materiału pomocniczego podłoża. Magnetronowe urządzenie powlekające natomiast charakteryzuje się tym, że podłoże pomocnicze jest przeznaczone do osadzania na nim za pomocą pierwszego magnetronu warstwy metalicznej, która ma większą liczbę masową niż przeciętna liczba masowa materiału podłoża pomocniczego.
Z amerykańskiego opisu patentowego nr US 7,520,965 znany jest system i magnetronowe urządzenie do powlekania za pomocą rozpylania jonowego zapewniające powłokę wewnętrznej powierzchni wydrążonej w obrabianym materiale. Urządzenie zawiera zespół magnesu, pozycjonowany zasadniczo w napylającym materiale tarczy /targetu/ umieszczoną wewnątrz przedmiotu obrabianego, promieniowo do wewnątrz od wewnętrznej powierzchni przedmiotu obrabianego. Urządzenie zawiera również konstrukcję nośną wspierającą wiele magnesów w taki sposób, że magnesy są obwodowo oddalone od siebie a na obwodzie skierowane jest pole magnetyczne na materiał tarczy napylania jonowego.
Sposób magnetronowego nanoszenia powłok, zwłaszcza na elementy kompozytowe, według wynalazku, polegający na nanoszeniu powłok za pomocą rozpylania magnetronowego z zastosowaniem targetów i masek, charakteryzuje się tym, że ukształtowany przestrzennie detal umieszcza się, korzystnie za pomocą manipulatora transportującego, w odpowiedniej kasecie, wyposażonej w zdefiniowaną dla danego detalu maskę. Maska zawiera odkryte obszary do naniesienia powłoki. Następnie z magazynu kaset maskujących, korzystnie za pomocą manipulatora transportującego pobiera się kasetę z maską, po czym detal wraz z kasetą i maską przemieszcza się do urządzenia magnetronowego, gdzie wcześniej umieszcza się pobrany z magazynu targetów, dedykowany do danej maski target. Następnie nanosi się w urządzeniu magnetronowym powłokę, po czym kasetę wraz z detalem
PL 227 192 B1 przenosi się do magazynu kaset, gdzie oddziela się detal od maski. Następnie detal przekazuje się do następnej kasety z kolejną, zdefiniowaną dla kolejnych obszarów maską, a następnie cykl ten wielokrotnie powtarza się, aż do momentu gdy wszystkie zdefiniowane pola detalu, korzystnie kompozytowego zostaną pokryte zdefiniowaną powłoką.
Układ do magnetronowego nanoszenia powłok, zwłaszcza na elementy kompozytowe, według wynalazku, zawierający magazyny, urządzenie magnetronowe oraz manipulator, charakteryzuje się tym, że manipulator transportujący jest umieszczony centralnie pomiędzy urządzeniem magnetronowym a magazynem kaset i magazynem targetów oraz pomiędzy magazynem detali, korzystnie kompozytowych, do obróbki a magazynem detali po obróbce, przy czym manipulator transportujący jest połączony z elementami układu funkcjonalnie.
Manipulator transportujący ma postać robota przemysłowego, w którym obrót korpusu realizowany jest za pomocą przekładni falowej, natomiast pochylenie ramienia dolnego odbywa się za pomocą przekładni śrubowej tocznej. Pochylenie ramienia górnego, łożyskowanego obrotowo w górnej części ramienia dolnego, realizowane jest przez układ silnik - przekładnia śrubowa toczna - układ dźwigniowy, pochylenie przegubu realizowane jest przez układ napędowy, którego oś znajduje się w punkcie obrotu ramienia dolnego. Człon ramienia dolnego jest zamocowany obrotowo w ułożyskowanym wsporniku korpusu, natomiast obrót przegubu realizowany jest analogicznie jak pochylenie przegubu za pomocą zespołu prętów i tarcz obrotowych.
Korzystnie, do tarczy przegubu na końcu ramienia górnego mocowane są chwytaki lub narzędzia technologiczne.
Korzystnie, magazyn kaset maskujących zbudowany jest z obrotowej tarczy, na której na obwodzie umieszczone są gniazda kaset maskujących, wyposażone w zatrzaski przytrzymujące.
Korzystnie, targety w magazynie targetów umieszczone są w gniazdach, w układzie pionowym jeden nad drugim.
Częstym problemem przy produkcji kompozytowych materiałów konstrukcyjnych, zwłaszcza dla lotnictwa, jest wykonanie powierzchni o zróżnicowanych właściwościach, np. część powierzchni o właściwościach elektroprzewodzących, a część o właściwościach izolacyjnych (ekranujących). Dlatego też, uszlachetniana powierzchnia kompozytu musi być wykonana w dwóch lub więcej etapach metodą rozpylania magnetronowego. W pierwszym etapie, wykonuje się proces metalizowania powierzchni w celu uzyskania powłoki przewodzącej, a w drugim etapie, proces wykonania powłoki ekranującej itd. Utrudnieniem tego procesu jest tzw. maskowanie powierzchni, która nie powinna być powłokowana w danym etapie.
Sposób według wynalazku umożliwia nanoszenie warstw na dowolnie ukształtowane elementy kompozytowe oraz pozwala na wykonanie na jednym elemencie konstrukcyjnym o dowolnie ukształtowanej strukturze geometrycznej, niezależnych od siebie powłok o różnych pożądanych właściwościach, bez konieczności łączenia kilku składowych kompozytów, na którym powłoki o różnych właściwościach wykonywane były dotychczas oddzielnie. Dzięki temu zachowane zostają parametry wytrzymałościowe kompozytu, które w przypadku łączenia brzegowego kompozytów drastycznie się obniżają. Zastosowanie masek w sposobie magnetronowego nanoszenia powłok, według wynalazku umożliwia nanoszenie powłok o różnych właściwościach w bezpośrednim sąsiedztwie co daje szansę na produkcję elementów konstrukcyjnych o zróżnicowanych właściwościach funkcjonalnych tj.: przewodzących, magnetycznych i izolacyjnych, w tym ekranujących, przy zachowaniu wysokich parametrów wytrzymałościowych dzięki braku ingerencji w strukturę wewnętrzną kompozytu. Natomiast, sposób umożliwi również na stworzenie zautomatyzowanego, synchronicznego ciągu technologicznego, sterowanego cyfrowo, praktycznie bez ingerencji człowieka.
Przedmiot wynalazku został uwidoczniony w przykładzie wykonania na rysunku, na którym fig. 1 - przedstawia schemat układu, fig. 2 - widok przestrzenny manipulatora transportującego, fig. 3 widok od góry magazynu kaset, fig. 4 - widok od przodu magazynu targetów, fig. 5 - schemat przebiegu procesu nakładania warstw.
Manipulator transportujący 1 jest umieszczony centralnie pomiędzy urządzeniem magnetronowym 2 a magazynem kaset 3 i magazynem targetów 4 oraz pomiędzy magazynem detali 5, korzystnie kompozytowych, do obróbki a magazynem detali po obróbce 6, przy czym manipulator transportujący 1 jest połączony z elementami 2, 3, 4 i 5 układu funkcjonalnie.
Manipulator transportujący 1 ma postać robota przemysłowego, w którym obrót korpusu 11 realizowany jest za pomocą przekładni falowej, natomiast pochylenie ramienia dolnego 12 odbywa się za pomocą przekładni śrubowej tocznej 13. Pochylenie ramienia górnego 16, łożyskowanego obroto4
PL 227 192 B1 wo w górnej części ramienia dolnego, realizowane jest przez układ silnik - przekładnia śrubowa toczna - układ dźwigniowy 14. Pochylenie przegubu 15 realizowane jest przez układ napędowy, którego oś znajduje się w punkcie obrotu ramienia dolnego 12. Człon ramienia dolnego 12 jest zamocowany obrotowo w ułożyskowanym wsporniku korpusu 11, natomiast obrót przegubu 15 realizowany jest analogicznie jak pochylenie przegubu 15 za pomocą zespołu prętów i tarcz obrotowych. Do tarczy przegubu na końcu ramienia górnego 16 mocowane są chwytaki lub narzędzia technologiczne. Magazyn kaset maskujących 3 zbudowany jest z obrotowej tarczy 31, na której na obwodzie umieszczone są gniazda kaset maskujących 32, wyposażone w zatrzaski przytrzymujące 33. Targety 41, w magazynie targetów 4, umieszczone są w gniazdach 42 w układzie pionowym jeden nad drugim 1.
Ukształtowany przestrzennie detal A umieszcza się korzystnie za pomocą manipulatora transportującego 1 w odpowiedniej kasecie, wyposażonej w zdefiniowaną dla danego detalu maskę Bn, zawierającą odkryte obszary do naniesienia powłoki. Następnie, z magazynu kaset maskujących 3, za pomocą manipulatora transportującego 1 pobiera się kasetę z maską Bn, po czym detal A wraz z kasetą i maską Bn przemieszcza się do urządzenia magnetronowego 2, gdzie wcześniej umieszcza się pobrany z magazynu targetów 4, dedykowany do danej maski target 41. Następnie nanosi się w urządzeniu magnetronowym 2 powłokę, po czym kasetę wraz z detalem A przenosi się do magazynu kaset 3 gdzie oddziela się detal A od maski Bn, po czym detal A przekazuje się do następnej kasety z kolejną, zdefiniowaną dla kolejnych obszarów maską Bn, a następnie cykl ten wielokrotnie powtarza się, aż do momentu gdy wszystkie zdefiniowane pola detalu A kompozytowego zostaną pokryte zdefiniowana powłoką.

Claims (6)

1. Sposób magnetronowego nanoszenia powłok, zwłaszcza na elementy kompozytowe, polegający na nanoszeniu powłok za pomocą rozpylania magnetronowego z zastosowaniem targetów i masek, znamienny tym, że ukształtowany przestrzennie detal (A) umieszcza się korzystnie za pomocą manipulatora transportującego (1) w odpowiedniej kasecie, wyposażonej w zdefiniowaną dla danego detalu maskę (Bn), zawierającą odkryte obszary do naniesienia powłoki, po czym z magazynu kaset maskujących (3), korzystnie za pomocą manipulatora transportującego (1) pobiera się kasetę z maską (Bn), po czym detal (A) wraz z kasetą i maską (Bn) przemieszcza się do urządzenia magnetronowego (2), gdzie wcześniej umieszcza się pobrany z magazynu targetów (4), dedykowany do danej maski target (41), a następnie nanosi się w urządzeniu magnetronowym (2) powłokę, po czym kasetę wraz z detalem (A) przenosi się do magazynu kaset (3) gdzie oddziela się detal (A) od maski (Bn), po czym detal (A) przekazuje się do następnej kasety z kolejną, zdefiniowaną dla kolejnych obszarów maską (Bn), a następnie cykl ten wielokrotnie powtarza się, aż do momentu gdy wszystkie zdefiniowane pola detalu (A), korzystnie kompozytowego zostaną pokryte zdefiniowaną powłoką.
2. Układ do magnetronowego nanoszenia powłok, zwłaszcza na elementy kompozytowe, zawierający magazyny, urządzenie magnetronowe oraz manipulator, znamienny tym, że manipulator transportujący (1) jest umieszczony centralnie pomiędzy urządzeniem magnetronowym (2) a magazynem kaset (3) i magazynem targetów (4) oraz pomiędzy magazynem detali (5), korzystnie kompozytowych, do obróbki a magazynem detali po obróbce (6), przy czym manipulator transportujący (1) jest połączony z elementami (2, 3, 4 i 5) układu funkcjonalnie.
3. Układ do magnetronowego nanoszenia powłok, według zastrz. 2, znamienny tym, że manipulator transportowy (1) ma postać robota przemysłowego, w którym obrót korpusu (11) realizowany jest za pomocą przekładni falowej, natomiast pochylenie ramienia dolnego (12) odbywa się za pomocą przekładni śrubowej tocznej (13), pochylenie ramienia górnego (16), łożyskowanego obrotowo w górnej części ramienia dolnego, realizowane jest przez układ silnik - przekładnia śrubowa toczna - układ dźwigniowy (14), pochylenie przegubu (15) realizowane jest przez układ napędowy, którego oś znajduje się w punkcie obrotu ramienia dolnego (12), przy czym człon ramienia dolnego (12) jest zamocowany obrotowo w ułożyskowanym wsporniku korpusu (11), natomiast obrót przegubu (15) realizowany jest analogicznie jak pochylenie przegubu (15) za pomocą zespołu prętów i tarcz obrotowych.
PL 227 192 B1
4. Układ do magnetronowego nanoszenia powłok, według zastrz. 3, znamienny tym, że do tarczy przegubu na końcu ramienia górnego (16) mocowane są chwytaki lub narzędzia technologiczne.
5. Układ do magnetronowego nanoszenia powłok, według zastrz. 2, znamienny tym, że magazyn kaset maskujących (3) zbudowany jest z obrotowej tarczy (31), na której na obwodzie umieszczone są gniazda kaset maskujących (32), wyposażone w zatrzaski przytrzymujące (33).
6. Układ do magnetronowego nanoszenia powłok, według zastrz. 2, znamienny tym, że targety (41) w magazynie targetów (4) umieszczone są w gniazdach (42) w układzie pionowym jeden nad drugim.
PL406491(22)20131213A 2013-12-13 2013-12-13 Sposób magnetronowego nanoszenia powłok, zwłaszcza na elementy kompozytowe oraz układ do magnetronowego nanoszenia powłok, zwłaszcza na elementy kompozytowe PL227192B1 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL406491(22)20131213A PL227192B1 (pl) 2013-12-13 2013-12-13 Sposób magnetronowego nanoszenia powłok, zwłaszcza na elementy kompozytowe oraz układ do magnetronowego nanoszenia powłok, zwłaszcza na elementy kompozytowe

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL406491(22)20131213A PL227192B1 (pl) 2013-12-13 2013-12-13 Sposób magnetronowego nanoszenia powłok, zwłaszcza na elementy kompozytowe oraz układ do magnetronowego nanoszenia powłok, zwłaszcza na elementy kompozytowe

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL406491A1 PL406491A1 (pl) 2015-06-22
PL227192B1 true PL227192B1 (pl) 2017-11-30

Family

ID=53396717

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL406491(22)20131213A PL227192B1 (pl) 2013-12-13 2013-12-13 Sposób magnetronowego nanoszenia powłok, zwłaszcza na elementy kompozytowe oraz układ do magnetronowego nanoszenia powłok, zwłaszcza na elementy kompozytowe

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL227192B1 (pl)

Also Published As

Publication number Publication date
PL406491A1 (pl) 2015-06-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102245799B (zh) 用于基片组件的表面处理和/或表面涂敷的设备
JP2012512321A5 (pl)
JP6963551B2 (ja) 真空処理装置及び基板を処理するための方法
TWI498442B (zh) 物理氣相沈積用真空塗層設備
WO2007106732A1 (en) Sputter deposition system and methods of use
TWI720991B (zh) 塗覆製品的設備、裝置和方法
RU2578336C2 (ru) Улучшенный способ совместного распыления сплавов и соединений с использованием двойной с-mag конструкции катода и соответствующая установка
US9885107B2 (en) Method for continuously forming noble metal film and method for continuously manufacturing electronic component
CN102230163A (zh) 镀膜装置
CN1793416A (zh) 金属薄膜复合制备装置及工艺
PL227192B1 (pl) Sposób magnetronowego nanoszenia powłok, zwłaszcza na elementy kompozytowe oraz układ do magnetronowego nanoszenia powłok, zwłaszcza na elementy kompozytowe
JPH11350138A (ja) 基板に薄膜を被着するための真空処理設備及び基板に耐摩耗性の硬質薄膜を成膜する方法
RU2691166C1 (ru) Способ нанесения защитных покрытий и устройство для его осуществления
CN100560786C (zh) 溅镀装置及溅镀方法
CN214496456U (zh) 一种双束激发式金属-气体离子化设备
RU2705834C1 (ru) Способ нанесения покрытий на изделия из материалов, интенсивно окисляющихся в атмосфере воздуха, и установка для его реализации
CN101418429B (zh) 对细长工件进行pvd镀膜的方法
CN207793408U (zh) 一种基于pvd的表面梯度薄膜制备装置
EP2868768B1 (en) Shutter system
TWI417405B (zh) 濺鍍裝置及濺鍍方法
PL221077B1 (pl) Sposób nanoszenia warstw w wielotargetowym układzie do rozpylania magnetronowego
CN108103446A (zh) 一种基于pvd的表面梯度薄膜制备装置
JP6451030B2 (ja) 成膜装置
JPH07180050A (ja) 回転台座付きコリメーションチャンバ
KR20210094226A (ko) 진공증착장치의 턴테이블 고정지그 동작방법