ZA201201020B
(en )
2012-10-31
Barrier layer
EP2126933A4
(en )
2011-07-06
METAL PASTE FOR FORMING A CONDUCTIVE LAYER
PL2440604T3
(pl )
2017-09-29
Powłoka powierzchni wielowarstwowej z warstwą barierową
GB2497451A8
(en )
2013-06-19
Gate insulator layer for electronic devices
EP2594613A4
(en )
2014-07-23
CONDUCTIVE COATING COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING CONDUCTIVE LAYER USING THE SAME
EP2331761A4
(en )
2013-01-23
COMPOSITE STRUCTURE FOR EXTERNAL INSULATION APPLICATIONS
EP2207189A4
(en )
2012-07-11
ELECTRODE FOR DOUBLE-LAYER ELECTRICAL CAPACITOR AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME
SI2046304T1
(sl )
2014-02-28
Farmacevtska oblika z večplastno ločevalno plastjo
EP2100316A4
(en )
2015-02-18
ELECTRODE FOR ELECTROCHEMICAL DOUBLE-LAYER CAPACITORS WITH HIGH-SPECIFIC PARAMETERS
ZA201102045B
(en )
2012-09-26
Partially metallized film having barrier properties
EP2460656A4
(en )
2014-01-15
MULTILAYER GAS BARRIER FILM
PL2144966T3
(pl )
2013-06-28
Struktura wielowarstwowa
PL2842990T3
(pl )
2016-11-30
Mikroporowata folia do kondensatorów dwuwarstwowych
IL196488A0
(en )
2009-09-22
Method for depositing electrically insulating layers
EE201000042A
(et )
2011-12-15
Ssinikkomposiitelektrood elektrilise kaksikkihi kondensaatorile
ZA201002695B
(en )
2011-01-26
Dielectric fluid for improved capacitor performance
EP2489068A4
(en )
2018-03-21
Ic package with non-uniform dielectric layer thickness
PL2321070T3
(pl )
2013-04-30
Sposób i układ do przygotowania powierzchni za pomocą wyładowań elektrycznych z barierą dielektryczną
EP2475799A4
(en )
2014-03-12
INSULATED CONDUCTIVE ELEMENT WITH MULTIPLE COATINGS SHAPED SUBSTANTIAL CONTINUOUS BARRIER LAYER
TWI370494B
(en )
2012-08-11
Improving the reliability of high-k gate dielectric layers
EP2197008A4
(en )
2017-09-27
Electric double-layer capacitor
EP2311915A4
(en )
2011-11-02
COMPOSITION FOR INSULATION LAYER
TWI371798B
(en )
2012-09-01
Forming complementary metal features using conformal insulator layer
GB2451796B
(en )
2010-03-10
Laminated structure with an interlayer
ITMI20102185A1
(it )
2011-06-02
Struttura strato per il collegamento elettrico di componenti semiconduttori