TWI367510B
(en )
2012-07-01
Multilayer capacitors and method for making the same
EP2126933A4
(en )
2011-07-06
A metal paste for forming a conductive layer
PL2440604T3
(pl )
2017-09-29
Powłoka powierzchni wielowarstwowej z warstwą barierową
IL204625A0
(en )
2010-11-30
Photovoltaic devices including an interfacial layer
GB2497451A8
(en )
2013-06-19
Gate insulator layer for electronic devices
EP2594613A4
(en )
2014-07-23
CONDUCTIVE COATING COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING CONDUCTIVE LAYER USING THE SAME
EP2331761A4
(en )
2013-01-23
COMPOSITE STRUCTURE FOR EXTERNAL INSULATION APPLICATIONS
EP2207189A4
(en )
2012-07-11
ELECTRODE FOR DOUBLE-LAYER ELECTRICAL CAPACITOR AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME
IL195223A0
(en )
2009-08-03
Pharmaceutical form with multilayer separating layer
EP2100316A4
(en )
2015-02-18
ELECTRODE FOR ELECTROCHEMICAL DOUBLE-LAYER CAPACITORS WITH HIGH-SPECIFIC PARAMETERS
IL208503A0
(en )
2010-12-30
Local ip access scheme
EP2170603A4
(en )
2013-05-15
MULTILAYER BARRIER FILM
EP2310907A4
(en )
2014-03-05
CONDUCTIVE MULTILAYER STACK
ZA201102045B
(en )
2012-09-26
Partially metallized film having barrier properties
EP2396171A4
(en )
2017-08-23
Enhanced barrier multifunctional coatings for nylon films
EP2460656A4
(en )
2014-01-15
MULTILAYER GAS BARRIER FILM
PL2144966T3
(pl )
2013-06-28
Struktura wielowarstwowa
PL2842990T3
(pl )
2016-11-30
Mikroporowata folia do kondensatorów dwuwarstwowych
ZA200900374B
(en )
2010-04-28
Method for depositing electrically insulating layers
EE201000042A
(et )
2011-12-15
Ssinikkomposiitelektrood elektrilise kaksikkihi kondensaatorile
GB0901687D0
(en )
2009-03-11
Multilayer coating
ZA201002695B
(en )
2011-01-26
Dielectric fluid for improved capacitor performance
EP2475799A4
(en )
2014-03-12
INSULATED CONDUCTIVE ELEMENT WITH MULTIPLE COATINGS SHAPED SUBSTANTIAL CONTINUOUS BARRIER LAYER
PL2321070T3
(pl )
2013-04-30
Sposób i układ do przygotowania powierzchni za pomocą wyładowań elektrycznych z barierą dielektryczną
TWI370494B
(en )
2012-08-11
Improving the reliability of high-k gate dielectric layers