PL396627A1 - Uklad chlodzenia elektrod w wieloelektrodowym zródle wzbudzenia plazmy mikrofalowej - Google Patents

Uklad chlodzenia elektrod w wieloelektrodowym zródle wzbudzenia plazmy mikrofalowej

Info

Publication number
PL396627A1
PL396627A1 PL396627A PL39662711A PL396627A1 PL 396627 A1 PL396627 A1 PL 396627A1 PL 396627 A PL396627 A PL 396627A PL 39662711 A PL39662711 A PL 39662711A PL 396627 A1 PL396627 A1 PL 396627A1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
electrodes
electrode
microwave
point
tubes
Prior art date
Application number
PL396627A
Other languages
English (en)
Other versions
PL223814B1 (pl
Inventor
Andrzej Ramsza
Krzysztof Jankowski
Edward Reszke
Original Assignee
Instytut Optyki Stosowanej
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Instytut Optyki Stosowanej filed Critical Instytut Optyki Stosowanej
Priority to PL396627A priority Critical patent/PL223814B1/pl
Priority to CN201280049861.8A priority patent/CN103891418B/zh
Priority to EP12758668.3A priority patent/EP2767146A1/en
Priority to PCT/PL2012/000051 priority patent/WO2013055241A1/en
Publication of PL396627A1 publication Critical patent/PL396627A1/pl
Priority to US14/057,706 priority patent/US8829770B2/en
Publication of PL223814B1 publication Critical patent/PL223814B1/pl

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J7/00—Details not provided for in the preceding groups and common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
    • H01J7/24—Cooling arrangements; Heating arrangements; Means for circulating gas or vapour within the discharge space
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H01J37/32192—Microwave generated discharge
    • H01J37/32211—Means for coupling power to the plasma
    • H01J37/3222—Antennas
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H01J37/32192—Microwave generated discharge
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32431—Constructional details of the reactor
    • H01J37/32532—Electrodes
    • H01J37/32568—Relative arrangement or disposition of electrodes; moving means
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/46—Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
  • Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)

Abstract

W jednym z rozwiązań układ chłodzenia składa się z instalacji doprowadzającej i odprowadzającej czynnik chłodzący do elektrod (7) źródła wzbudzenia złożonego z co najmniej trzech identycznych elektrod (7) rozmieszczonych symetrycznie względem osi rurki centralnej (9) doprowadzającej próbkę analityczną. Elektrody (7) są zamocowane w odizolowanym od nich elektrycznie metalowym korpusie (10) tak, że ich wierzchołki (A) są umieszczone przy wylocie rurki centralnej (9), a końce są zwarte w punkcie (B) doprowadzenia mocy ze złączami mikrofalowym (6) osadzonymi w korpusie (10) na przedłużeniu osi wzdłużnej elektrod (7). Złącza mikrofalowe (6) są połączone ze źródłem mocy mikrofalowej, zwłaszcza o częstotliwości 2,45 GHz. Długość każdej elektrody (7) mierzona od jej wierzchołka (A) do punktu (B) doprowadzenia mocy, wynosi 1/4 L, gdzie L jest długością fali mikrofalowej generowanej przez źródło mocy mikrofalowej. Każda elektroda (7) ma wydrążoną podłużną komorę przepływową na czynnik chłodzący połączoną z metalowymi rurkami bocznymi (1, 2), pierwszą i drugą, doprowadzającą i odprowadzającą czynnik chłodzący, przy czym zewnętrzne końce (D, F) tych rurek są zwarte elektrycznie z korpusem (10). Długość każdej rurki bocznej (1, 2) wewnątrz metalowego korpusu (10), mierzona od miejsca połączenia z elektrodą (7) do ścianki zewnętrznej korpusu (10), wynosi 1/4 L, a na całej tej długości rurki boczne (1, 2) są odizolowane od korpusu (10).
PL396627A 2011-10-13 2011-10-13 Układ chłodzenia elektrod w wieloelektrodowym źródle wzbudzenia plazmy mikrofalowej PL223814B1 (pl)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL396627A PL223814B1 (pl) 2011-10-13 2011-10-13 Układ chłodzenia elektrod w wieloelektrodowym źródle wzbudzenia plazmy mikrofalowej
CN201280049861.8A CN103891418B (zh) 2011-10-13 2012-07-07 在多电极微波等离子体激发源中的电极冷却系统
EP12758668.3A EP2767146A1 (en) 2011-10-13 2012-07-07 Electrode cooling system in a multi-electrode microwave plasma excitation source
PCT/PL2012/000051 WO2013055241A1 (en) 2011-10-13 2012-07-07 Electrode cooling system in a multi-electrode microwave plasma excitation source
US14/057,706 US8829770B2 (en) 2011-10-13 2013-10-18 Electrode cooling system in a multi-electrode microwave plasma excitation source

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL396627A PL223814B1 (pl) 2011-10-13 2011-10-13 Układ chłodzenia elektrod w wieloelektrodowym źródle wzbudzenia plazmy mikrofalowej

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL396627A1 true PL396627A1 (pl) 2013-04-15
PL223814B1 PL223814B1 (pl) 2016-11-30

Family

ID=46832576

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL396627A PL223814B1 (pl) 2011-10-13 2011-10-13 Układ chłodzenia elektrod w wieloelektrodowym źródle wzbudzenia plazmy mikrofalowej

Country Status (5)

Country Link
US (1) US8829770B2 (pl)
EP (1) EP2767146A1 (pl)
CN (1) CN103891418B (pl)
PL (1) PL223814B1 (pl)
WO (1) WO2013055241A1 (pl)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
PL408615A1 (pl) * 2014-06-19 2015-12-21 Instytut Optyki Stosowanej Im. Prof. Maksymiliana Pluty Palnik do rotacyjnego źródła wzbudzenia plazmy
CN106918557A (zh) * 2015-12-25 2017-07-04 无锡市金义博仪器科技有限公司 一种喷射电极结构

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2583250B1 (fr) * 1985-06-07 1989-06-30 France Etat Procede et dispositif d'excitation d'un plasma par micro-ondes a la resonance cyclotronique electronique
GB8713986D0 (en) * 1987-06-16 1987-07-22 Shell Int Research Apparatus for plasma surface treating
US5234565A (en) * 1990-09-20 1993-08-10 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Microwave plasma source
DE4136297A1 (de) * 1991-11-04 1993-05-06 Plasma Electronic Gmbh, 7024 Filderstadt, De Vorrichtung zur lokalen erzeugung eines plasmas in einer behandlungskammer mittels mikrowellenanregung
US5232569A (en) * 1992-03-09 1993-08-03 Tulip Memory Systems, Inc. Circularly symmetric, large-area, high-deposition-rate sputtering apparatus for the coating of disk substrates
US5568015A (en) 1995-02-16 1996-10-22 Applied Science And Technology, Inc. Fluid-cooled dielectric window for a plasma system
JP4610126B2 (ja) * 2001-06-14 2011-01-12 株式会社神戸製鋼所 プラズマｃｖｄ装置
EP2009029B1 (en) * 2007-06-28 2012-11-07 Masarykova univerzita Method of realisation of polyreactions, plasma-chemical polyreactions, their modification and modification of macromolecular substances by the plasma jet with a dielectric capillary enlaced by a hollow cathode
CN101472383A (zh) * 2007-12-28 2009-07-01 中国航天科技集团公司第五研究院第五一〇研究所 一种长寿命微波放电内导体
PL221507B1 (pl) * 2008-06-20 2016-04-29 Edward Reszke Sposób i układ do wytwarzania plazmy

Also Published As

Publication number Publication date
US20140042888A1 (en) 2014-02-13
PL223814B1 (pl) 2016-11-30
CN103891418B (zh) 2015-12-09
CN103891418A (zh) 2014-06-25
WO2013055241A1 (en) 2013-04-18
US8829770B2 (en) 2014-09-09
EP2767146A1 (en) 2014-08-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2009128868A8 (en) System, method and apparatus for coupling a solid oxide high temperature electrolysis glow discharge cell to a plasma arc torch
CN104203477A (zh) 延长的级联等离子枪
PL396627A1 (pl) Uklad chlodzenia elektrod w wieloelektrodowym zródle wzbudzenia plazmy mikrofalowej
CN102025094B (zh) 一种脉冲气体激光器的横向放电装置
CN105472856A (zh) 一种六边形管式结构的低温等离子体发生器
CN103561535A (zh) 一种阵列式微洞阴极气体放电等离子体射流装置
CN104284505A (zh) 常压低温等离子体流水式粉体材料改性系统
US9134274B2 (en) Discharge ionization current detector
RU120309U1 (ru) Микроволновый плазматрон
CN205194655U (zh) 一种电晕放电电离激发装置
RU2009110077A (ru) Устройство для спектрального анализа состава вещества
CN102146902A (zh) 一种高频高压单电极等离子体推进器
CN103871826B (zh) 一种添加选择性检测试剂的介质阻挡放电质谱电离源装置
ITBO20100492A1 (it) Torcia monogas per il taglio al plasma.
CN106793438B (zh) 环式电极变径射流发生装置
RU2285358C2 (ru) Устройство для генерации плазменного потока
CN104470182A (zh) 一种基于表面等离子激元的微波等离子体大气压射流装置
CN204648309U (zh) 一种实验用分体式高压电弧点火装置
CN203445096U (zh) 具备高续流遮断能力的气体放电管
CN101335420A (zh) 一种用于轴快流气体激光器的偏轴进气放电玻璃管
CN110418484B (zh) 一种空气射流放电产生装置
RU2012136495A (ru) Генератор высокочастотного излучения на основе разряда с полым катодом (варианты)
RU2464745C1 (ru) Плазмотрон прямой
ITBO20090496A1 (it) Torcia monogas per il taglio al plasma.
RU2009110076A (ru) Устройство для спектрального анализа состава вещества