PL433636A1 - Przepływowy, niskotemperaturowy reaktor plazmowy - Google Patents

Przepływowy, niskotemperaturowy reaktor plazmowy

Info

Publication number
PL433636A1
PL433636A1 PL433636A PL43363620A PL433636A1 PL 433636 A1 PL433636 A1 PL 433636A1 PL 433636 A PL433636 A PL 433636A PL 43363620 A PL43363620 A PL 43363620A PL 433636 A1 PL433636 A1 PL 433636A1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
valve
flow
low
cathode
temperature plasma
Prior art date
Application number
PL433636A
Other languages
English (en)
Inventor
Mariusz Adam Szczepański
Ludomir Wojciech Duda
Zygmunt Piotrowski
Jan Ludomir Duda
Original Assignee
21 Stopni Spółka Z Ograniczoną Odpowiedzialnością
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 21 Stopni Spółka Z Ograniczoną Odpowiedzialnością filed Critical 21 Stopni Spółka Z Ograniczoną Odpowiedzialnością
Priority to PL433636A priority Critical patent/PL433636A1/pl
Publication of PL433636A1 publication Critical patent/PL433636A1/pl

Links

Landscapes

  • Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)

Abstract

Przedmiotem zgłoszenia jest przepływowy, niskotemperaturowy reaktor plazmowy mający zastosowanie do prowadzenia reakcji substratów w fazie gazowej, w szczególności do wytwarzania jednoatomowych cząstek z gazów o budowie dwuatomowej. Reaktor może mieć zastosowanie medyczne, a także użytkowe przy dezynfekowaniu urządzeń wentylacyjnych. Przepływowy, niskotemperaturowy reaktor plazmowy, posiadający komorowy korpus (1), który zaopatrzony jest w wlotowy króciec (6) gazu zaworem (7) i wylotowy króciec (8) gazu z zaworem (9), katodę (3) zasilaną zasilaczem (12), charakteryzuje się tym, że przynajmniej jedna katoda (3) jest osadzona w komorowym korpusie (1) tak że jej kraniec jest skierowany czołowo do szczeliny pomiędzy biegunami zespołu magnesów anody (4), tak że w wyniku zapalenia wirującego łuku elektrycznego powstałego pomiędzy katodą (3) a zespołem magnesów anody (4) tworzy się stożek plazmy (11), przy czym korzystnie jest tak że wlotowy króciec (6) gazu zaworem (7) i wylotowy króciec (8) gazu z zaworem (9) zamontowane są po przeciwnych stronach zespołu magnesów anody (4).
PL433636A 2020-04-23 2020-04-23 Przepływowy, niskotemperaturowy reaktor plazmowy PL433636A1 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL433636A PL433636A1 (pl) 2020-04-23 2020-04-23 Przepływowy, niskotemperaturowy reaktor plazmowy

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL433636A PL433636A1 (pl) 2020-04-23 2020-04-23 Przepływowy, niskotemperaturowy reaktor plazmowy

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL433636A1 true PL433636A1 (pl) 2021-10-25

Family

ID=78572507

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL433636A PL433636A1 (pl) 2020-04-23 2020-04-23 Przepływowy, niskotemperaturowy reaktor plazmowy

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL433636A1 (pl)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE60221535D1 (de) Zwei-frequenz-plasmaätzreaktor mit unabhangiger kontrolle für dichte, chemie und ionenenergie
JP2010043357A5 (pl)
ITMI20090402A1 (it) Sistema di pompaggio combinato comprendente una pompa getter ed una pompa ionica
CN103533733B (zh) 大气压磁场增强型低温等离子体电刷发生装置
CN206271656U (zh) 霍尔离子源
EP1452486A3 (en) Manufacturing apparatus for carbon nanotube
PL433636A1 (pl) Przepływowy, niskotemperaturowy reaktor plazmowy
TWI836551B (zh) 用於處理廢氣的等離子裝置
ATE320660T1 (de) Mikrowellen-plasmagenerator
BR0309400A (pt) Usina de energia de célula de combustìvel
CN108289364A (zh) 一种水循环散热的介质阻挡放电等离子体助燃装置
CN220963234U (zh) 绝缘气针及射频离子源
CN212593582U (zh) 一种病毒防护面罩
CN106892406A (zh) 一种臭氧发生装置
CN206783314U (zh) 一种臭氧发生装置
RU2007111268A (ru) Устройство для получения тепловой энергии и парогазовой смеси
KR200366588Y1 (ko) 음이온 발생기
CN208898504U (zh) 一种管式放电臭氧发生装置
CN108281340A (zh) 直流放电离子源
CN224212409U (zh) 一种臭氧发生管的管帽及臭氧发生装置
CN212259423U (zh) 一种可调节浓度的电弧等离子体气体发生器
KR20230064973A (ko) 플라즈마 활성수 제조장치
CN222776358U (zh) 等离子体产生装置及等离子体加工设备
CN222914726U (zh) 壳体组件、等离子体产生装置及等离子体加工设备
CN206843580U (zh) 一种双面大面积bdd电极制备cvd的设备