Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Wiesław WajdafiledCriticalWiesław Wajda
Priority to PL439837ApriorityCriticalpatent/PL439837A1/pl
Publication of PL439837A1publicationCriticalpatent/PL439837A1/pl
Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process
(AREA)
Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds
(AREA)
Semiconductor Memories
(AREA)
Abstract
Przedmiotem zgłoszenia jest maska ochronna, zwłaszcza wielowarstwowa, przeznaczona do ochrony układu oddechowego, zatrzymująca zanieczyszczenia powietrza oraz drobnoustroje. Złożenie nosowego elementu uszczelniającego (5) i zawinięcie go w kierunku wnętrza maski ochronnej powoduje uszczelnienie przestrzeni około-nosowej podczas oddychania.