PL61020B1 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- PL61020B1 PL61020B1 PL116350A PL11635066A PL61020B1 PL 61020 B1 PL61020 B1 PL 61020B1 PL 116350 A PL116350 A PL 116350A PL 11635066 A PL11635066 A PL 11635066A PL 61020 B1 PL61020 B1 PL 61020B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- layer
- grinding wheel
- wheel according
- mixture
- diamonds
- Prior art date
Links
- 239000010432 diamond Substances 0.000 claims description 50
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 claims description 31
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 30
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 30
- 238000000227 grinding Methods 0.000 claims description 29
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 17
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 17
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 16
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 8
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 6
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 5
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 claims description 5
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 5
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 claims description 4
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 claims description 4
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 3
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 3
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 3
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 3
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims 1
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 7
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 5
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 3
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 2
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 2
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 2
- VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N hexamethylenetetramine Chemical compound C1N(C2)CN3CN1CN2C3 VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052580 B4C Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910019054 CoSO4-7H2O Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910019099 CoSO4—7H2O Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910005911 NiSO4-6H2O Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910005910 NiSO4—7H2O Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002666 PdCl2 Inorganic materials 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000004693 Polybenzimidazole Substances 0.000 description 1
- 229910021626 Tin(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- INAHAJYZKVIDIZ-UHFFFAOYSA-N boron carbide Chemical compound B12B3B4C32B41 INAHAJYZKVIDIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- ZGDWHDKHJKZZIQ-UHFFFAOYSA-N cobalt nickel Chemical compound [Co].[Ni].[Ni].[Ni] ZGDWHDKHJKZZIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010431 corundum Substances 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004312 hexamethylene tetramine Substances 0.000 description 1
- 235000010299 hexamethylene tetramine Nutrition 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229960004011 methenamine Drugs 0.000 description 1
- 150000002815 nickel Chemical class 0.000 description 1
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- CLDVQCMGOSGNIW-UHFFFAOYSA-N nickel tin Chemical compound [Ni].[Sn] CLDVQCMGOSGNIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920002480 polybenzimidazole Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 229920003987 resole Polymers 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- HAAYBYDROVFKPU-UHFFFAOYSA-N silver;azane;nitrate Chemical compound N.N.[Ag+].[O-][N+]([O-])=O HAAYBYDROVFKPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011150 stannous chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- AXZWODMDQAVCJE-UHFFFAOYSA-L tin(II) chloride (anhydrous) Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Sn+2] AXZWODMDQAVCJE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 238000001238 wet grinding Methods 0.000 description 1
- 229910052845 zircon Inorganic materials 0.000 description 1
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Description
Pierwszenstwo: 22.IX.1965 dla zastrz. 1—6, 9, 10, 12 02.11.1966 dila zastrz. 7, 8, 11, 13, 14 Szwecja Opublikowano: 10.XII.1970 61020 KI. 80 b, 11/30 MKP C 04 b, 31/16 UKD Wlasciciel patentu: Scandiament Aktiebolag, Robertsfors i(Szwecja) Sciernica zawierajaca diamenty Przedmiotem wynalazku jeslt sciernica zawiera¬ jaca diamenty.Znane sciernice skladaja sie z tarczy metalowej, do której przytwierdzony jest wieniec, w postaci pierscienia z materialu sciernego. Material scierny stanowia diamenty zwiazane zywica organiczna.Wada tych sciernic jeislt to, ze diamenty sa slabo zwiazane z zywica. Wlasciwosci wiazace zywicy pogarszaja sie pod wplywem ciepla, powstajacego podczas szlifowania. W zwiazku z powyzszym ziarna materialu sciernego w sciernicy wykrusza¬ ja sie i nastepuje szybkie zuzycie sciernicy.Celem wynalazku jest unikniecie powyzej opi¬ sanych wad sciernic.Stwierdzono, ze aby otrzymac dobrej jakosci sciernice nalezy stosowac material scierny za¬ wierajacy diamenty naturalne lub syntetyczne po¬ kryte warstwa metalu lub warstwa mieszaniny metali o grubosci od 0,5jj, do 25|i najkorzystniej od 5\x do 20\i. Mozna stosowac warstwe metalu takiego jak nikiel, kobalt, srebro, miedz, molib¬ den, tytan, glin, mangan, kadm, cyna, cynk, chrom, wolfram, zelazo, cyrkon, stopy lub miesza¬ niny zawierajace co najmniej jeden z tych metali, na przyklad cyna—nikiel. Korzystnie nalezy sto¬ sowac ziarna diamentowe, na przyklad diamenty syntetyczne, przechodzace przez sito druciane o przeswicie co najwyzej 420 mikronów, pokryte warstwa metalu o grubosci od 10m- do 15^i. 10 15 25 Sciernice zawierajace takie ziarna diamentowe w porównaniu do sciernic znanych wykazuja lepsza sprawnosc szlifowania i wieksza trwalosc.Skutecznosc szlifowania sciernicy jest -czesto okre¬ slona terminem „wielkosc scierania", który jest stosunkiem miedzy obojetnoscia materialu startego a obojetnoscia zuzytego materialu sciernicy.Stwierdzono, ze sciernice wedlug wynalazku wy¬ kazuja znacznie wieksza wielkosc scierania niz sciernice, zawierajace nie pokryte metalem ziar¬ na diamentowe.Stwierdzono równiez, ze optymalna „wielkosc scierania" osiaga isie gdy ziarna diamentowe po¬ kryte sa warstwa metalu o grubosci miedzy 5li a 20^. Przy grubosci warstwy od lO^i do 15\x istnieja szczególnie korzystne warunki dla szli¬ fowania na mokro. Poza tym na skutek zwieksze¬ nia powierzchni ziaren sciernych, cieplo wywia¬ zujace sie podczas szlifowania jest przenoszone z ziarn na wieksza mase zywicy co zapobiega pogar¬ szaniu sie wlasnosci wiazacych zywicy.Ponizej podano przyklady przygotowania ziarn diamentowych.Przyklad I. Powleczono niklem ziarna dia¬ mentowe. Diamenty rozproszono w wodnym roz- . tworze soli niklowej, zawierajacej 230 g/l NiS04-6HzO, 300 g/l (NH4)2S04 i 130 ml/1 amonia¬ ku. Redukcje prowadzono w atmosferze wodoru, pod cisnieniem 20 atm, w autoklawie wyposazo¬ nym w mieszadlo. Dodano niewielkie ilosci antra- 6102061020 chinonu i utrzymywano temperature 160°C—170°C.Proces prowadzono tak dlugo dopóki grubosc warstwy metalu na diamentach nie osiagnela 10|li.Przyklad II. Naczynie reakcyjne napelniono roztworem zawierajacym w jednym litrze 300 g (NH4)2S04, 140 g CoS04-7H20, 90 m] amoniaku oraz NiS04 • 6H20, w takiej ilosci, ze stezenie wy¬ nosilo 9 g niklu w litrze. Do tego roztworu, w którym zostaly umieszczone ziarna diamentowe "wprowadzono wodór pod cisnieniem 13,5 atm, w temperaturze 200—210°C. Po uplywie 150 minut powstala na ziarnach diamentowych powloka ko- baltowo-niklowa. Warstwa miala grubosc okolo 5*i i zawierala 39,0% Co, oraz 4,3% Ni w stosunku do wagi diamentu.Przyklad III. 25 karatów ziarn diamento¬ wych oczyszczono dzialajac na nie mieszanina zlo¬ zona ze stezonego kwasu azotowego i kwasu chlo¬ rowodorowego, a nastepnie starannie wyplukano w wodzie destylowanej, po czym aktywowano je dwoma roztworami wodnymi 5 g SnCh + 10 ml HCl/1 i 0,2 g PdCl2 + 1 ml HCl/1. Tak przygoto¬ wane diamenty zostaly nastepnie w temperaturze 70°C zanurzone w wodnym roztworze zawieraja¬ cym 30 g/l NiS04-7H20, 10 g/l NaOCOCH3-3 H*0 i 10 g/l NaHzPOa-HfeO. Dodajac kwas CH3COOH ustalono pH 5.Przyklad IV. Ziarna diamentów syntetycz¬ nych zostaly oczyszczone przez wygotowanie w stezonym HN03 i wyplukane w wodzie destylo¬ wanej. Nastepnie ziarna diamentowe posrebrzono przez redukcje isirebra z roztworu amoniakalnego azotanu srebra i czynnika redukcyjnego. Grubosc otrzymanej warstwy byla mniejsza niz 0,25|i. Ce¬ lem srebrzenia bylo nadanie elektrycznej prze¬ wodnosci ziarnom diamentowym. 75 karatów po¬ srebrzonych ziarn diamentowych wrzucono do obrotowego bebna cylindrycznego, zawierajace¬ go wodny roztwór NiS04-6H20 (140 g/l), NH4C1 (30 g/l), H3BOs (30 g/l). Ponad ziarnami diamento¬ wymi umieszczono anode niklowa, natomiast ka¬ toda byla przylaczona do bebna zawierajacego ziarna diamentowe. Nastepnie wlaczono prad, a gestosc pradu zostala wyregulowana tak, aby uzyskac okolo 20 mA/cm2 w górnej warstwie ziarn diamentowych na wprost, anody. Beben byl obracany z predkoscia 1—2 obrotów na minute.Elektrolize przeprowadzono w przeciagu okolo 24 godzin, po czym ziarna diamentowe zostaly wy¬ jete, wyplukane i wysuszone. Grubosc warstwy wynosila okolo 25m.Ziarna diamentowe powleczone warstwa meta¬ lu wedlug powyzej opisanych przykladów zastoso¬ wano do wyrobu sciernic. Sciernica ta jest przed¬ stawiona schematycznie na fig. 1. Wieniec dia¬ mentowy 14, zawierajacy diamenty zwiazane zy¬ wica, ma szerokosc okolo 3 mm i grubosc okolo 6 mm i jest przytwierdzony do tarczy metalowej 15 z otworem 16. Wieniec diamentowy jest wy¬ konany w nastepujacy sposób.Zywice zawierajaca wypelniacz, zmieszano z powleczonymi metalem ziarnami diamentowymi i sprasowano na zimno, a nastepnie rozgrzano do temperatury Utwierdzania w formie dopóki zywica, nie stwardniala. 10 15 20 25 ao 35 40 45 50 55 60 65 Zastosowano zywice fenolowa typu nowolak (1,2 moli fenolu na 1 mod. formaldehydu) zawie¬ rajaca 16 czesci wagowych heksametylenotetra- miny i 100 czesci wagowych nowolaku. Calosc podgrzano do 110°C, po czym zmielono i zmie¬ szano z wypelniaczem, na przyklad weglikiem krzemu z odrobina tlenku wapnia (zywica — 38,8% wagowych, tlenek wapnia — 1,2% wagowych, weglik krzemu 60% wagowych). Nastepnie do zy¬ wicy dodano pokryte metalem diamenty w takiej ilosci, aby stezenie ziarn diamentowych obliczo¬ nych jako diamenty niemetalizowane wynosilo 72 karaty na cel szescienny wienca diamentowego.Mieszanine ogrzewano w formie w temperatu¬ rze okolo 160° w przeciagu pól godziny wystar¬ czajacej do utwardzenia zywicy. Otrzymana scier¬ nice nastepnie wyjeto z formy, poddano ostatecz¬ nemu utwardzeniu w temperaturze 150°C w prze¬ ciagu 24 godzin i obrobiono na wymagany ksztalt.Zamiast zywic wymienionego rodzaju stosowano równiez zywice fenolowe, typu nowolakowego i rezolowego, zmieszane z wypelniaczami, zywice epoksydowe, zywice poliimidowe, zywice alkidowe, nienasycone zywice poliestrowe, zywice silikono¬ we, polibenzynoimidazolowe, poliamidoimidowe.Optymalna ilosc wypelniacza wynosila 30—95%, w tym szczególnie 40—80% wagowych. Jako wypel¬ niacz stosowano oprócz weglika krzemu równiez korund i weglik boru.Na fig. 2 przedstawiono czesc wienca diamento¬ wego sciernicy obwodowej z ziarnami diamento¬ wymi 11 powleczonymi warstwa metalu 12 i osa¬ dzonymi w utwardzonej zywicy fenolowej 13, wspomnianego typu zywicy nowolak. PL PL
Claims (14)
1. Zastrzezenia patentowe 1. Sciernica zawierajaca diamenty, stanowiaca tarcze z metalu, z osadzonym na tarczy wiencem w postaci pierscienia wykonanego z ziaren dia¬ mentów naturalnych lub syntetycznych, zwiaza¬ nych zywica organiczna, znamienna tym, ze dia¬ menty pokryte sa warstwa metalu lub warstwa mieszaniny metali o grubosci od 0,5 do 25\i.
2. Sciernica wedlug zastirz. 1, znamienna tym, ze grubosc warstwy metalu lub mieszaniny metali wynosi od 5 do 20\i.
3. Sciernica wedlug zastrz. 1, znamienna tym, ze grubosc warstwy metalu lub mieszaniny metali wynosi od 10 do 15|i.
4. Sciernica wedlug zastrz. 1—3 znamienna tym, ze diamenty pokryte isa warstwa niklu lub war¬ stwa mieszaniny metali, w której nikiel stanowi glówny skladnik.
5. Sciernica wedlug zastrz. 1—3 znamienna tym, ze diamenty pokryte sa waristwa kobaltu lub warstwa mieszaniny metali, w której kobalt sta¬ nowi glówny skladnik.
6. Sciernica wedlug zastrz. 1—3 znamienna tym, ze diamenty pokryte sa warstwa miedzi lub war¬ stwa mieszaniny metali, w której miedz stanowi glówny skladnik.
7. Sciernica wedlug zastrz. 1—3 znamienna tym, ze diamenty pokryte sa warstwa aluminium lub warstwa mieszaniny metali, w której aluminium stanowi glówny skladnik.61020
8. Sciernica wedlug zaistrz. 1—3 znamienna tym, ze diamenty pokryte sa warstwa tytanu lub warstwa mieszaniny metali, w której tytan sta¬ nowi glówny skladnik.
9. Sciernica wedlug zastrz. 1—3 znamienna tym, ze diamenty pokryte sa warstwa kadmu lub war¬ stwa mieszaniny metali, w której kadm stanowi glówny .skladnik.
10. Sciernica wedlug zastrz. 1—3 znamienna tym, ze 'diamenty pokryte sa warstwa cyny lub war¬ stwa mieszaniny metali, w której cyna ©tanowi glówny skladnik.
11. Sciernica wedlug zastrz. 1—3 znamienna tym, ze diamenty pokryte sa warstwa srebra, molibde¬ nu, manganu, cynku, chromu, wolfromu, zelaza 15 6 lub cyrkonu lub warstwa mieszaniny metali w której srebro, molibden, magnez, cynk, chrom, wolfrom, zelazo lub cyrkon stanowi glówny sklad¬ nik.
12. Sciernica wedlug zastrz. 1—11 znamienna tym, ze ziarna diamentowe zwiazane sa zywica fenolowa.
13. Sciernica wedlug zastrz. 1—12 znamienna tym, ze ziarna diamentowe zwiazane sa zywica nowolakowa.
14. Sciernica wedlug zastrz. 1—14 znamienna tym, ze nie pokryte warstwa metalu lub warstwa mieszaniny metali ziarna diamentów przechodza przez sito druciane o przeswicie do 420h<. Rg. 1 PL PL
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL61020B1 true PL61020B1 (pl) | 1970-08-25 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3904391A (en) | Metal-coated diamonds in synthetic resin bonded grinding wheels | |
| US3929432A (en) | Diamond particle having a composite coating of titanium and a metal layer | |
| US3957461A (en) | Method for preparing diamonds for use with grinding wheels | |
| US3955324A (en) | Agglomerates of metal-coated diamonds in a continuous synthetic resinous phase | |
| CA1322661C (en) | Grinding wheels utilizing polycrystalline diamond or cubic boron nitride grit | |
| US3528788A (en) | Etched metal coated diamond grains in grinding wheels | |
| EP2735404B1 (en) | Cutting wheels, their manufacture and use | |
| JPH06508656A (ja) | 無電解析出金属を有する多層金属被覆ダイヤモンド砥粒 | |
| US3596649A (en) | Abrasive tool and process of manufacture | |
| NL1021962C2 (nl) | Poreus slijpgereedschap en werkwijze voor het maken daarvan. | |
| WO2003084717A1 (en) | Metal-coated abrasives, grinding wheel using metal-coated abrasives and method of producing metal-coated abrasives | |
| ES2739824T3 (es) | Método de chapado de materia en forma de partículas | |
| US20050081454A1 (en) | Metal-coated cubic boron nitride abrasive grain, production method thereof, and resin bonded grinding wheel | |
| CA1194318A (en) | Dry grinding cemented carbide workpieces with silver- coated diamond grit | |
| US4246005A (en) | Diamond aggregate abrasive materials for resin-bonded applications | |
| JP2504418B2 (ja) | 砥石の製造方法 | |
| US3765132A (en) | Free cutting internal diamond grinding wheel | |
| CN100376719C (zh) | 一种金刚石表面镀钛镀镍镀银复合结构及制造方法 | |
| JPH05138537A (ja) | 電着砥石およびその製造方法 | |
| JPS6334069A (ja) | 砥石 | |
| PT1497077E (pt) | Abrasivos revestidos a metal, mó utilizando abrasivos revestidos a metal e método de produzir abrasivos revestidos a metal | |
| KR20050097937A (ko) | 다이아몬드 입자를 위한 자체촉매의 니켈-붕소 코팅프로세스 | |
| JPH10235563A (ja) | 超砥粒及びこれを利用した超砥粒ホイール | |
| EP1702969A1 (en) | Metal-coated cubic boron nitride abrasive grains and method for producing thereof, and resin-bonded grindstone | |
| JPS5930671A (ja) | 金属被覆研摩粒子及びそれを用いた砥石 |