PL64363B1 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- PL64363B1 PL64363B1 PL135451A PL13545169A PL64363B1 PL 64363 B1 PL64363 B1 PL 64363B1 PL 135451 A PL135451 A PL 135451A PL 13545169 A PL13545169 A PL 13545169A PL 64363 B1 PL64363 B1 PL 64363B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- aromatic
- nickel
- coatings
- bath
- additives
- Prior art date
Links
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- -1 aromatic sulfonic acids Chemical class 0.000 claims description 14
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 13
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 7
- ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N coumarin Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)C=CC2=C1 ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 238000005282 brightening Methods 0.000 claims description 4
- 235000001671 coumarin Nutrition 0.000 claims description 4
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- 229960000956 coumarin Drugs 0.000 claims description 3
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 claims description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 2
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- RQCHYJGDSCWRSQ-UHFFFAOYSA-N 2-oxochromene-6-carbaldehyde Chemical class O1C(=O)C=CC2=CC(C=O)=CC=C21 RQCHYJGDSCWRSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 150000004775 coumarins Chemical class 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical class C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001281 polyalkylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N pyridine Substances C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZVLNAGYSAKYMG-UHFFFAOYSA-N pyridine-2-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=N1 KZVLNAGYSAKYMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 150000003456 sulfonamides Chemical class 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
Description
Pierwszenstwo: Opublikowano: 30.1.1972 Eg:. SLUZSCWT 64363 KI. 48 a, 5/46 MKP C 23 b, S/46 Wspóltwórcy wynalazku: Ryszard Kalek, Jan Politowicz Wlasciciel patentu: Poznanska Fabryka Maszyn i Aparatów Przemyslu Spozywczego, Poznan (Polska) Kapiel galwaniczna do wytwarzania blyszczacych powlok niklowych i Przedmiotem wynalazku jest kapiel galwaniczna do wytwarzania blyszczacych powlok niklowych przy zastosowaniu dodatków blaskotwórczych w szerokim zakresie stosowanych gestosci prado¬ wych.W znanych kapielach galwanicznych do nakla¬ dania blyszczacych powlok niklowych dodatki pewnych organicznych zwiazków wspóldzialaja z soba w tworzeniu blyszczacych powlok niklo¬ wych, charakteryzujacych sie gladkoscia przewyz¬ szajaca gladkosc podloza, na którym sa osadzane.Na przyklad w opisie patentowym NRF nr 971335 kapiel do galwanicznego niklowania zawiera w ze¬ stawie dodatków blaskotwórczych zwiazek aroma¬ tyczny zawierajacy siarke z klasy aromatycznych sulfonianów, aromatycznych kwasów sulfonowych, sulfonamidów lub sulfimidów, dalej pochodne ku¬ maryny lub kumaryne oraz zwiazek aromatyczny zawierajacy azot z grupy pochodnych aminopoli- arylowych metanu, polialkilenopoliamin i alkilopo- chodnych pirydyny.Wedlug polskiego opisu patentowego nr 53153 powloki blyszczace i gladkie mozna otrzymywac przez równoczesne stosowanie jako dodatków blas¬ kotwórczych p- toluenosulfonamidu, lub amidu kwasu benzenosulfonowego i kumaryny, lub 6-for- mylokumaryny w zestawieniu z kwasem pirydy- nosulfonowym.Wspólna wada tych znanych kapieli jest wyjat¬ kowa sklonnosc do tworzenia szarych powlok na polach o malej gestosci pradu, co ma szczególne znaczenie w przypadkach pokrywania powloka ni¬ klowa przedmiotów o skomplikowanych ksztaltach, na których powierzchni nastepuje duze zróznico¬ wanie rozkladu gestosci pradowych.Dalsza wada tych kapieli jest tendencja do wy¬ twarzania powlok z zamgleniami na calej po¬ wierzchni pokrywanego przedmiotu.Celem wynalazku jest sporzadzenie kapieli za¬ wierajacej zestaw skladników blaskotwórczych, które pozwola uzyskac powloki niklowe pozbawio¬ ne wymienionych wad, charakteryzujace sie po¬ nadto wysokim polyskiem i duza gladkoscia.Wedlug wynalazku cel ten osiaga sie przez wprowadzenie do konwencjonalnej kapieli prze¬ znaczonej do niklowania matowego, na przyklad kapieli typu Watsa — zestawu dodatków blasko¬ twórczych, zlozonego z trzech zwiazków organicz¬ nych: zwiazku z grupy aromatycznych kwasów sulfonowych lub ich soli, badz aromatycznych sul¬ fonamidów lub tez aromatycznych sulfimidów w ilosci od 0,01 do 10 g/l, kumaryny w ilosci od 0,01 do 3 g/l oraz cyklicznego eteroestru, odpowia¬ dajacego ogólnemu wzorowi przedstawionemu na rysunku, w ilosci od 0,01 do 4 g/l.Wymienione cykliczne etero-estry sa zwiazkami znanymi; otrzymuje sie je przez katalizowana sil¬ nymi kwasami mineralnymi reakcje alifatycznych kwasów hydroksykarboksylowych z formaldehy¬ dem. 6436364363 Kapiel galwaniczna wedlug wynalazku pozwala otrzymywac powloki niklowe o duzej gladkosci, przewyzszajacej gladkosc podloza i wysokim po¬ lysku w calym zakresie praktycznie stosowanych gestosci pradowych, przy czym uzyskane powloki sa wolne od zszarzen i zamglen. Mozliwosc uzys¬ kiwania powlok niklowych o jednolitym wygladzie w calym praktycznie wystepujacym zakresie ge¬ stosci pradu ma szczególne znaczenia przy niklo¬ waniu przedmiotów o skomplikowanym ksztalcie, których zaglebienia stanowiace pola o malych ge¬ stosciach pradowych, sa szczególnie podatne na osadzanie powlok zszarzalych.Ponadto kapiel wedlug wynalazku charaktery¬ zuje sie dobra stabilnoscia pracy oraz latwoscia dozowania dodatków blaskotwórczych.Kapiel wedlug wynalazku jest przedstawiona w przykladach: Przyklad I: siarczan niklawy chlorek niklawy kwas borowy kwas benzenosulfonowy kumaryna metyleno cytrynian 220 g/l 22 g/l 22 g/l 1 g/l 0,2 g/l 0,3 g/l 15 temperatura kapieli pH kapieli gestosc pradu Przyklad II: siarczan niklawy chlorek niklawy kwas borowy kwas naftalenodwusulfonowy 2,6(2,7) kumaryna metyleno winian temperatura kapieli pH kapieli gestosc pradu — 40 °C -4,4 — 3 A/dcm2 — 390 g/l — 30 g/l — 30 g/l — 2 g/l — 0,1 g/l — 0,2 g/l — 55°C — 3 — 5 A/dcm2 PL PL
Claims (1)
1. Zastrzezenie patentowe Kapiel galwaniczna do wytwarzania blyszcza¬ cych powlok niklowych przy zastosowaniu dodat¬ ków blaskotwórczych, znamienna tym, ze dodatki te stanowia zwiazki z grupy aromatycznych kwa¬ sów sulfonowych lub ich soli, badz aromatycz¬ nych sulfonamidów lub tez aromatycznych sulfi- midów w ilosci 0,01—10 g/l, kumaryne w ilosci 0,01—3 g/l oraz cykliczny eteroester, odpowiada¬ jacy ogólnemu wzorowi przedstawionemu na ry¬ sunku w ilosci 0,01—4 g/l. gdzie: R-H;CH3;CH2C00H;CH20H;CH-O 0 U CH2 PZG w Pab. zam. 1840-71, nakl. 230 egz. PL PL
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL64363B1 true PL64363B1 (pl) | 1971-12-31 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US2837472A (en) | Brighteners for electroplating baths | |
| US2830014A (en) | Electroplating process | |
| US2910413A (en) | Brighteners for electroplating baths | |
| US3725220A (en) | Electrodeposition of copper from acidic baths | |
| US4421611A (en) | Acetylenic compositions and nickel plating baths containing same | |
| US3729393A (en) | Electrodeposition of copper | |
| US4036711A (en) | Electrodeposition of copper | |
| US3471271A (en) | Electrodeposition of a micro-cracked corrosion resistant nickel-chromium plate | |
| US2840517A (en) | Nickel-iron-zinc alloy electroplating | |
| CA1083078A (en) | Alloy plating | |
| US3691027A (en) | Method of producing corrosion resistant chromium plated articles | |
| US2469727A (en) | Electrodeposition of nickel | |
| US3075899A (en) | Baths for the production of metal electroplates | |
| US3414493A (en) | Electrodeposition of copper | |
| US2389135A (en) | Electrodeposition of metals | |
| US2427280A (en) | Nickel electroplating composition | |
| US3401097A (en) | Electrodeposition of nickel | |
| US5560814A (en) | Use of thiouronium salts as brighteners for aqueous acidic electronickelization baths | |
| US2782153A (en) | Nickel electrodeposition | |
| US5438140A (en) | Production of nickelized shaped articles | |
| GB1438552A (en) | Electrodeposition of bright nickel-iron or nickel-cobalt- iron deposits | |
| US2805194A (en) | Bright copper plating | |
| US3514380A (en) | Chromium plating from a fluosilicate type bath containing sodium,ammonium and/or magnesium ions | |
| US3661731A (en) | Electrodeposition of bright nickel | |
| DE1190287B (de) | Waessriges Bad fuer die galvanische Vernickelung |