RO87878B - Reper pentru pozitionarea automata a unui substrat de semiconductor si procedeu pentru fabricarea acestuia - Google Patents

Reper pentru pozitionarea automata a unui substrat de semiconductor si procedeu pentru fabricarea acestuia

Info

Publication number
RO87878B
RO87878B RO111968A RO11196883A RO87878B RO 87878 B RO87878 B RO 87878B RO 111968 A RO111968 A RO 111968A RO 11196883 A RO11196883 A RO 11196883A RO 87878 B RO87878 B RO 87878B
Authority
RO
Romania
Prior art keywords
corrosion
edges
isotropic
trenches
ditches
Prior art date
Application number
RO111968A
Other languages
English (en)
Other versions
RO87878A (ro
Inventor
Petre Westphal
Christian Bayer
Lothar Andritzko
Rainer Pforr
Georg Waldmann
Original Assignee
Veb Zentrum Fur Forschung Und Technologie Mikroelektronik
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Veb Zentrum Fur Forschung Und Technologie Mikroelektronik filed Critical Veb Zentrum Fur Forschung Und Technologie Mikroelektronik
Publication of RO87878B publication Critical patent/RO87878B/ro
Publication of RO87878A publication Critical patent/RO87878A/ro

Links

Landscapes

  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

Inventia se refera la un reper pentru pozitionarea automata a unui szbstrat de semiconductor fata de o masca sau de un sablon aferent, precum si la un procedeu pentru fanricarea acestuia, utilizate în industria dispozitivelor semiconductoare. reperul conform inventiei, este constituit din adîncituri execuatte ca cel putin doua santuri de coordonare încrucisate, dispuse perpendicular si simetric fata de axele lor marcaje de dimensiuni diferite, cere se succed periodic si alternativ si ale caror muchii structurale adiacente se ating între ele, aceste marcaje constînd din santuri lungi, ale caror muchii putîn fi marit prin divizarea santurilor sau prin dublarea santurilor scurte. procedeul, conforn inventiei, prevede o corodare suplimentara izotropa a structurii adiacente ale structurii se ating în interiorul santurilor de corodare, iar suprafata muchiilor de corodare prezinta o înasprire, corodarea izotropa realizîndu-se concomitent cu cea antizotropa si folosind un agent de corodare din polisiliciu.
RO83111968A 1982-09-02 1983-08-31 Reper pentru pozitionarea automata a unui substrat de semiconductor si procedeu pentru fabricarea acestuia RO87878A (ro)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DD24296382A DD206450A1 (de) 1982-09-02 1982-09-02 Justiermarke zur automatischen positionierung eines halbleitersubstrates und verfahren zu ihrer herstellung

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RO87878B true RO87878B (ro) 1985-12-01
RO87878A RO87878A (ro) 1985-12-20

Family

ID=5540977

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RO83111968A RO87878A (ro) 1982-09-02 1983-08-31 Reper pentru pozitionarea automata a unui substrat de semiconductor si procedeu pentru fabricarea acestuia

Country Status (4)

Country Link
BG (1) BG48907A1 (ro)
DD (1) DD206450A1 (ro)
HU (1) HU189741B (ro)
RO (1) RO87878A (ro)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4134291A1 (de) * 1991-10-17 1993-04-22 Bosch Gmbh Robert Verfahren zur exakten ausrichtung von masken zum anisotropen aetzen von dreidimensionalen strukturen aus siliziumwafern

Also Published As

Publication number Publication date
BG48907A1 (en) 1991-06-14
DD206450A1 (de) 1984-01-25
RO87878A (ro) 1985-12-20
HU189741B (en) 1986-07-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3381459D1 (de) Verfahren zum fuellen mit silizium von graeben in halbleitersubstraten.
IT7926808A0 (it) Processo per formare diffusioni aventi strette dimensioni in un corpo di silicio.
AT365694B (de) Verfahren zum errichten von schaechten, insbesondere fuer abwasserkanaele, und nach dem verfahren hergestellter schacht
ZA774105B (en) Process for manufacturing concrete of high corrosion resistance
BR7700348A (pt) Bloco de derivacoes de seccionamento para sistemas de telecomunicacoes
ES539844A0 (es) Un metodo de investigar,mediante diagrafia elemental,un ya- cimiento terreo atravesado por un pozo de sondeo
IT1079704B (it) Processo per purificare silicio
FR2349786A1 (fr) Outil d'enlevement du beton
JPS5219401A (en) Civil engineering machine
RO87878B (ro) Reper pentru pozitionarea automata a unui substrat de semiconductor si procedeu pentru fabricarea acestuia
DE3475453D1 (en) Method of manufacturing a semiconductor device and semiconductor device manufactured by the use of such a method
GB1491306A (en) Method for automatic determination of dip of formations traversed by a borehole
GB1542534A (en) Vehicle for civil engineering work
DE3671812D1 (de) Verfahren zum einebnen der oberflaeche einer halbleitervorrichtung, die siliziumnitrid als isolierendes material verwendet.
IT1052390B (it) Perfezionamento nei procedimenti di fabbricazione di dispositivi a semiconduttori in particolare di incisione per erosione ionica
IT1039957B (it) Processo per la preparazione diun fluoruro di perfluoroalcossi propionile di composizione c9 f 1604eper la contemporanea preparazione di difluorofosforani
YU301876A (en) Method of producing hybrid oxide for semiconductor devices
JPS577933A (en) Manufacture of semiconductor device
JPS5298013A (en) Method of manufacturing concrete block having special surface conditios
JPS5331721A (en) Method of surface finishing concrete blocks
JPS56169329A (en) Manufacture of integrated circuit
JPS57128949A (en) Electric resistance device
JPS52142813A (en) Temporary construction method of under water civil engineering work
JPS56101746A (en) Mask aligning method
JPS5450900A (en) Manufacturing process of cylindrical magnetic domain element