RS61855B1 - Rastvor za uklanjanje raznih vrsta naslaga - Google Patents

Description

Opis

OBLAST PRONALASKA

[0001] Pronalazak se odnosi na čišćenje naslaga različite prirode sa metalnih, staklenih i keramičkih površina industrijske opreme i može se koristiti za uklanjanje takvih naslaga, kao što su oksidi metala (gvožđa, hroma, nikla, itd.), naslage karbonata i soli, asfalt-katran-parafinske naslage i naslage masne prirode, naslage organske i biološke prirode (naslage bakterija).

STANJE TEHINKE PRONALASKA

[0002] Poznat je postupak tečnog hemijskog prečišćavanja LCP kako je stavljeno na uvid javnosti u objavljenoj EP 0277 781 A1, koji se sastoji od sledećeg: za proces čišćenja, koristi se rastvor za pranje koji sadrži H2SO4i H2O2, nakon čega sledi ispiranje i sušenje. Ovim postupkom rastvor za pranje i metal koji se čisti održavaju se u zagrejanom stanju i kontroliše se trajanje tretmana. Ovaj postupak se efikasno koristi za uklanjanje kamenca nastalog visokotemperaturnim termomehaničkim tretmanom bakarnih šipki. Mane ovog postupka su upotreba vrućih rastvora, zagrevanje uzorka koji se čisti i nestabilnost vremena oksidacije vrućih rastvora deterdženta.

[0003] Postupak nije prilagodljiv i primenljiv je samo za čišćenje površina bakarnih šipki. Poznat je LCP postupak kako je stavljen na uvid javnosti u opisu pronalaska u patentnoj prijavi RU 94-021419/02 "postupak čišćenja bakarne površine", objavljenoj prema odobrenom patentu RU 2077 788 C1, koji se sastoji od rastvora za pranje koji sadrži 45 - 75 g/l persumporne kiseline dobijene elektrohemijskom obradom vodenog 25 - 50% rastvora sumporne kiseline.

[0004] Tretman se izvodi nakon zagrevanja rastvora do 100 - 120 °C tokom 3 -7 min. Rastvor za pranje, iz LCP procesa, prati ispiranje proizvoda u vodi i njihovo sušenje.

[0005] Ovaj postupak ima nekoliko značajnih nedostataka: zahteva veštačko zagrevanje rastvora deterdženata, što rezultuje pojačavanjem njihove agresivnosti i toksičnosti. Takođe ima nestabilan kapacitet oksidacije i, kao posledica toga, nestabilan tok procesa delovanja rastvora za čišćenje na površinu koju treba tretirati. Pored toga, ovaj postupak je u vezi sa značajnim troškovima za neutralizaciju i korišćenje industrijskih otpada.

[0006] Poznat je postupak upotrebe peroksida sa kompleksirajućim jedinjenjima u dezinfekcionim kompozicijama [RU 2 360 415 C1, JSC «NPP «Biohimmash» (RU), publ. 10.07.2009, MPK A01N25/22], naznačen time da se vodonik-peroksid imobilisan na kompleksirajućem agensu koristi za obradu površina za dezinfekciju.1,5 kg mehanički aktiviranog kompleksirajućeg agensa se pomeša sa 5 kg peroksida i razblaži dodavanjem 301 vode uz dodavanje surfaktanta. Nedostatak ovog postupka je uska specifičnost primene: upotreba samo u dezinfekciji, odsustvo inhibitora oksidacije metala i složenost površinske obrade. Po tehničkoj suštini najbliža predmetnom pronalasku je postupak [američki patent br. 4,636,282, GREAT LAKES CHEMICAL CORP (SAD), publ.13.01.1987, IPC C23F1/18], koji se sastoji od rastvora za pranje u procesu čišćenja koji sadrži 8 - 12 mas% H2SO40,004 - 0,02 M po molu sumporne kiseline aditivnog jedinjenja koje odgovara formuli (I), stabilizujući aditiv i 0,5 M H2O2. Čišćenje u ovom rastvoru vrši se na 50 °C, nakon čega se proizvodi isperu vodom i osuše. Prednost ovog postupka je efikasno uklanjanje nečistoća rastvorljivih u kiselinama sa površine, tj. dobijanje sjajne površine. Mane ovog postupka su njegova neuniverzalnost (primenljiva samo za graviranje bakra), upotreba vrućih rastvora i specijalnih rastvora za graviranje sa stabilizujućim dodacima.

[0007] US2004101461 (A1) stavlja na uvid javnosti vodeni rastvor koji sadrži vodonik-peroksid u količini od 20 - 70 mas%, kompleksirajući agens na bazi fosfonske kiseline u količini od 10 -60% (na osnovu količine vodonik-peroksida) i vodu. Rastvor ima široku primenu i može se koristiti za beljenje, čišćenje, dezinfekciju, sterilizaciju i oksidaciju, posebno za upotrebu u zasićenju tla kiseonikom (predloženo). Ovaj rastvor za čišćenje odabran je kao prototip.

[0008] Nedostaci prototipa su nedovoljna efikasnost rastvora kada se koristi za čišćenje metalnih površina, posebno nemogućnost uklanjanja metalnih oksida.

[0009] Dalje tehnološko stanje tehnike, koje nije relevantno za patentibilnost ovog pronalaska, kako je definisano u priloženim patentnim zahtevima, citirano je u izveštaju o evropskoj pretrazi prema DE 10352 466 A1, US 6686 324 B2, EP 0845 526 A2 i WO 2006/015626 A1.

IZLAGANJE SUŠTINE PRONALASKA

[0010] Pronalazak je izložen u priloženim patentnim zahtevima. Tehnička rešenja opisa koja ne spadaju u obim pomenutih patentnih zahteva data su samo u ilustrativne svrhe i nisu deo ovog pronalaska. Opšta svrha grupe pronalazaka je stvaranje nove kompozicije za efikasno uklanjanje naslaga različite prirode sa različitih površina opreme i proizvoda, posebno metalnih i/ili nemetalnih površina, na primer stakla, keramike i polimernih površina.

[0011] Opšti tehnički rezultat grupe pronalazaka je povećanje efikasnosti delovanja rastvora (stepen prečišćavanja) za čišćenje naslaga različite prirode uz istovremeno smanjenje agresivnosti rastvora na materijale opreme i predmeta (strukturni materijali). Sledeći tehnički rezultat u slučaju čišćenja metalnih površina je formiranje sloja visoko otpornog na koroziju na površini predmeta koji treba da se čisti od metala i njihovih legura.

[0012] Dati zadatak i zahtevani tehnički rezultat postižu se rastvorom za uklanjanje naslaga različite prirode kako je definisano u patentnim zahtevima, posebno rastvorom definisanim u patentnom zahtevu 1, koji sadrži vodonik-peroksid, kompleksirajući agens, kaliksaren i vodu u sledećem kvantitativnom odnosu, mas%: vodonik-peroksid, 2 - 90; kompleksirajući agens, 3 - 30 i pri čemu je kompleksirajući agens u obliku polibaznih organskih kiselina, njihovih natrijumovih soli ili derivata fosforne kiseline; kaliksaren, 0,01 - 10; voda, ravnoteža.

[0013] U jednom alternativnom tehničkom rešenju pronalaska, rastvor prema pronalasku dalje sadrži organsku kiselinu u količini od 3 do 30 mas%, pri čemu se sirćetna kiselina koristi kao organska kiselina, kao i mravlja kiselina, propionska kiselina, butanska kiselina, oksalna kiselina, limunska kiselina, sulfaminska kiselina, adipinska, vinska, mlečna, anhidridi pomenutih kiselina ili bilo koja njihova moguća kombinacija.

[0014] U još jednom alternativnom tehničkom rešenju pronalaska, inventivni rastvor dalje sadrži stabilizator raspadanja peroksidnog jedinjenja u količini od 1 - 5 mas% pri čemu se natrijum heksametafosfat, kalijum fosfat, natrijum hidrogen fosfat i natrijum dihidrogen fosfat koriste kao stabilizatori razgradnje peroksida.

[0015] U drugom alternativnom tehničkom rešenju pronalaska, inventivni rastvor dalje sadrži površinski aktivno sredstvo u količini od 0,5 - 2,5 mas%., gde se sulfonol, neonol ili njihova smeša koriste kao surfaktant, poželjno u razmeri 2:1.

[0016] Rastvor može dalje sadržati inhibitor u količini od 0,5 - 1,5 mas%.

[0017] Dati zadatak i potreban tehnički rezultat postižu se i usled koncentrovane komponente za dobijanje gore pomenutog rastvora, koji sadrži kompleksirajući agens i kaliksaren u sledećem odnosu, mas%: kompleksirajući agens 60 - 90; kaliksaren 10 - 40.

[0018] Koncentrovana komponenta može sadržati inhibitor u količini od 5 - 15 mas%.

[0019] U još jednom alternativnom tehničkom rešenju pronalaska, koncentrovana komponenta pronalaska dalje sadrži organsku kiselinu u količini od 10 - 85 mas%.

[0020] U još jednom alternativnom tehničkom rešenju pronalaska, koncentrovana komponenta prema pronalasku dalje sadrži stabilizator raspadanja jedinjenja peroksida u količini od 10 do 30 mas%.

[0021] U još jednom alternativnom tehničkom rešenju pronalaska, koncentrovana komponenta pronalaska dalje sadrži površinski aktivno sredstvo kako je definisano u patentnim zahtevima.

[0022] Dati zadatak i potreban tehnički rezultat postižu se i postupkom pripreme rastvora za čišćenje naslaga različite prirode, u kojem se predložena koncentrovana komponenta meša sa vodonik-peroksidom i razblaži vodom.

[0023] Dati zadatak i zahtevani tehnički rezultat takođe se postižu upotrebom rastvora kako je definisano u patentnom zahtevu 13.

[0024] Dati zadatak i potreban tehnički rezultat postižu se i postupkom čišćenja površine od naslaga različite prirode, koji se sastoji u kombinovanju mehaničkog, hemijskog i fizičkohemijskog delovanja na naznačene naslage komponentama rastvora za čišćenje dobijenim interakcijom koncentrovanog rastvora, koji sadrži najmanje kompleksirajući agens i pri čemu je kompleksirajući agens u obliku polibaznih organskih kiselina, njihovih natrijumovih soli ili derivata fosforne kiseline i kaliksarena, sa vodonik-peroksidom, praćeno razređivanjem vodom, što rezultuje intenzivnim stvaranjem gasova na površini i unutar pora pomenutih naslaga sa stvaranjem mehurića poluprečnika od 1,3 • 10<-6>m do 2 • 10<-3>m, koji podržavaju u zoni lokalnog raspadanja temperature do 150 °C i pritiske od 0,1 do 15 MPa, pri čemu je pomenuta površina metalna površina ili nemetalna površina.

[0025] Suština predložene tehnologije čišćenja sastoji se u kombinaciji mehaničkog i hemijskog dejstva na naslage, kao i u kombinaciji kompleksirajućih i površinski aktivnih svojstava u jednom molekulu aktivne komponente (kaliksaren): jedan je kompleksirajući agens, a drugi površinski aktivan. Predložena tehnologija koristi egzotermni efekat razlaganja jedinjenja peroksida sa intenzivnim stvaranjem gasova na površini i unutar naslaga. Ovaj efekat ne dozvoljava zagrevanje rastvora za čišćenje, jer se u te svrhe koristi energija razlaganja. Upotreba kaliksarena u kombinaciji sa jedinjenjima peroksida takođe doprinosi smanjenju apsorpcije čvrstoće naslaga; ovo je poznato kao Rehbinderov efekat. Intenzivno stvaranje gasa pospešuje otpuštanje naslaga i desorpciju sa površine opreme i predmeta koji se čiste. U kombinaciji sa upotrebom kaliksarena koji u svom svojstvu kombinuju kompleksirajuća i površinski aktivna svojstva sa mogućnošću formiranja micelarnih struktura, postiže se potpuni pomak ravnoteže ka rastvaranju naslaga, posebno rastvaranju metalnih oksida tokom čišćenja metalne površine.

DETALJAN OPIS

[0026] Kao što je gore rečeno, suština predložene tehnologije sastoji se u kombinovanju mehaničkog, hemijskog i fizičko-hemijskog delovanja protiv naslaga, a takođe i u kombinovanju kompleksirajućih i površinski aktivnih svojstava u jednom molekulu aktivne komponente.

[0027] To uključuje upotrebu vodonik-peroksida. Razlaganje ovih jedinjenja prati obilno stvaranje gasova sa emisijom energije. Radijus mehurića gasa u reakciji razgradnje vodonik-peroksida kreće se od 1,3·

[0028] 10<-6>m do 2 · 10<-3>m. S jedne strane, radijus mora biti veći od veličine pora naslaga kako bi stvaranje mehurića stvorilo destruktivan efekat na naslage. S druge strane, povećanje površinskog napona neće dozvoliti da rastvor prodre u pore naslaga, pa se u svakom konkretnom slučaju bira srednja optimalna vrednost veličine mehurića. Temperatura u porama naslaga može dostići 150 °C, a pritisak gasova u zoni lokalne razgradnje može dostići vrednosti od 0,1 do 15 MPa. Visoka efikasnost ovog procesa manifestuje se u porama naslaga kada se u maloj zapremini prostora oslobađa značajna količina gasovitih proizvoda. Zapremina oslobođenog gasa proporcionalna je koncentraciji vodonik-peroksida.

[0029] Dakle, naslage su podvrgnute mehaničkom dejstvu, što u kombinaciji sa malim površinskim naponom na sučelju faza omogućava uočavanje Rehbinderovog efekta. Pored toga, efekat egzotermne razgradnje dovodi do zagrevanja rastvora, što rezultuje povećanjem stepena ispoljavanja efekata i toka hemijskih reakcija direktno u porama naslaga.

[0030] Kompozicija za čišćenje sadrži vodonik-peroksid, kompleksirajući agens, kaliksaren i vodu.

[0031] Vodonik-peroksid u količini od 2 - 90 mas% (u zavisnosti od koncentracije početnog rastvora) obezbeđuje procese stvaranja gasova egzotermnim raspadanjem, što zauzvrat destruktivno deluje na naslage. Upotreba kompozicije sa procentom manjim od 2% ne daje potreban efekat (nepotpuno čišćenje). Ne preporučuje se upotreba kompozicije sa procentnim sadržajem većim od 90%, jer u ovom slučaju efekat intenzivnog razlaganja može imati destruktivan efekat na opremu. Koncentracija vodonik-peroksida utiče na zapreminu gasa i temperaturu u porama naslaga. Promenom koncentracije peroksidne komponente dobija se zadati intenzitet stvaranja gasova.

[0032] Kompleksirajući agens se koristi u količini od 3 - 30 mas% kako je definisano u patentnim zahtevima, posebno je moguće koristiti natrijumove soli polibaznih organskih kiselina ili same polibazne organske kiseline, kao što je EDTA, kao i derivate fosfornih kiselina, kao što su NTMP i HEDP. Upotreba helacionog sredstva u koncentraciji manjoj od 3% ne daje potreban efekat formiranja kompleksa, a pri koncentraciji većoj od 30% helaciono sredstvo se ne rastvara u potpunosti.

[0033] Kaliksaren rastvorljiv u vodi opšte formule koristi se u količini od 0,1 - 10%. Poželjno je da se koriste kaliksareni opšte formule:

[0034] Upotreba kaliksarena naznačene strukture omogućava efikasno vezivanje jona teških elemenata, uključujući radioaktivne, formirajući sa njima jake komplekse. Moguće je koristiti bilo koje strukture gornjeg sastava. Za metalne površine poželjna su jedinjenja sa brojem monomernih jedinica 6 ili 8, jer u ovom slučaju unutrašnja šupljina molekula odgovara radijusu teških elemenata. Upotreba kaliksarena u koncentraciji manjoj od 0,01% ne daje kompleksirajući efekat. Ako se koncentracija poveća (više od 10%), ne primećuje se poboljšanje svojstava čišćenja.

[0035] Upotreba derivata kaliksarena rastvorljivih u vodi koji u svom svojstvu kombinuju kompleksirajuće i površinski aktivno svojstvo, omogućava znatno povećanje efikasnosti čišćenja. Konkretno, u slučaju metalnih površina, metalni joni su vezani i prebačeni u micelarnu fazu (rano nije predloženo).

[0036] Organska kiselina se može dodatno uvesti u količini od 3 - 30 mas%, na primer sirćetna kiselina, mravlja kiselina, propionska kiselina, butanska kiselina, oksalna kiselina, limunska kiselina, sulfaminska kiselina, adipinska kiselina, vinska kiselina, mlečna kiselina, anhidridi navedenih kiselina, ili bilo koja njihova moguća kombinacija.

[0037] Upotreba organskih kiselina dodatno povećava efikasnost razgradnje vodonik-peroksida stvaranjem perokso kiselina. Ovaj opseg koncentracija pruža maksimalan efekat. Korišćenjem nedostatka ili viška reaktanata, nivo pH medija neće pospešiti kompleksiranje i kontrolisano razlaganje jedinjenja peroksida.

[0038] Dodatno mehaničko dejstvo na naslage postiže se razgradnjom peroksidnih jedinjenja niza karboksilnih kiselina C1-C6, a takođe i dikarboksilnih C2-C6, trikarboksilnih, tetrakarboksilnih kiselina. Na primer, upotreba monokarboksilnih kiselina kao što su sirćetna kiselina i mravlja kiselina najoptimalnija je za dalje povećanje efikasnosti prečišćavanja kamenca. U svrhu proizvodnje stabilnih kompleksa sa jonima gvožđa, naročito je optimalna upotreba dikarboksilnih kiselina, poput oksalne i adipinske, ili trikarboksilnih kiselina, na primer limunske kiseline. Upotreba tetrakarboksilne kiseline EDTA i/ili njenih soli najoptimalnija je kao univerzalno kompleksirajuće sredstvo. Ovi primeri specifičnih kiselina dati su u svrhu ilustracije tehničkog rešenja grupe pronalaska i nisu namenjeni ograničavanju obima pronalaska. Ove primere kiselina ne bi trebalo tumačiti kao ograničavanje obima grupe pronalazaka za koju se traži zaštita, koja je definisana patentnim zahtevima. Sve karboksilne kiseline koje se koriste u ovoj tehnologiji su biorazgradive.

[0039] Stabilizator razgradnje peroksidnih jedinjenja može se dodatno uvesti u sastav u količini od 1 - 5%, na primer natrijum heksametafosfat ili slične soli fosforne kiseline, kao što su kalijum fosfat, natrijum hidrogen fosfat, natrijum dihidrogen fosfat. Kada se stabilizator koristi u koncentraciji manjoj od 1%, razgradnja se dešava naglo i ne kontroliše se, dok više od 5% ne obezbeđuje adekvatno stvaranje gasa. Brzina stvaranja gasa tokom razlaganja jedinjenja peroksida uglavnom zavisi od koncentracije stabilizatora raspadanja.

[0040] Pored toga, surfaktant se može dodati u količini od 0,5 - 2,5% kako je definisano u patentnim zahtevima. Surfaktant koji se koristi je, na primer, sulfonol zajedno sa neonolom u razmeri 2:1, ali moguće je koristiti ove supstance kao nezavisne komponente surfaktanta. Upotreba surfaktanta omogućava dalje povećanje efikasnosti prečišćavanja rastvora smanjenjem površinskog napona na dodiru tečnost-čvrsta supstanca (rastvor za čišćenje-naslaga). Ovaj efekat nastaje usled apsorpcije molekula surfaktanta na površinu naslage i zbog sličnosti hemijske prirode u molekulima naslaga i surfaktanta. Smanjenje površinskog napona uzrokuje bolju sposobnost vlaženja naslaga kompozicijom za čišćenje, što podrazumeva povećanje kontaktne površine između rastvora i naslaga. Pored toga, gore navedeni efekat omogućava rastvoru da prodre u pore naslaga, što rezultuje mogućnošću isporuke jedinjenja peroksida u pore naslaga sa naknadnim raspadanjem. Izbor surfaktanta je važan zadatak i rešava se individualno u zavisnosti od prirode naslaga. Među opštim slučajevima, može se primetiti da se anjonski surfaktanti kao alkilbenzensulfonske kiseline mogu koristiti u procesima prečišćavanja ulja; katjonski surfaktanti, kao što je cetrimonijum hlorid, mogu se koristiti za uklanjanje naslaga silikatne prirode. Izbor površinski aktivnih supstanci je takođe obzirom na nivo pH rastvora, jer upotreba anjonskih surfaktanata nije pogodna u kiselom medijumu, kao što ni katjonski surfaktanti nisu pogodni u alkalnom medijumu. Upotreba surfaktanta u koncentracijama ispod 0,5% ne daje efekat vlaženja. Koncentracije surfaktanta veće od 2,5% ne utiču na dalje poboljšanje efikasnosti čišćenja. Pored toga, surfaktant olakšava postizanje željenih veličina mehurića.

[0041] Da bi se eliminisao razarajući efekat kompozicije za čišćenje direktno na metalne, staklene i keramičke površine opreme, odgovarajući inhibitori se dodatno koriste u količini od 0,5 - 1,5 %. Ove supstance na površini formiraju nerastvorljivi jak sloj koji štiti površinu od dejstva aktivnih komponenti rastvora. Upotreba inhibitora u manje od 0,5% koncentracija ne daje odgovarajući inhibitorni efekat, a pri koncentraciji većoj od 1,5% ne dovodi do povećanja efikasnosti inhibicije. Konkretno, inhibitori rastvaranja metala sprečavaju oksidaciono dejstvo jedinjenja peroksida i stvaraju zaštitni film otporan na oksidaciju.

[0042] Aktivnost pranja postiže se pumpanjem kompozicije za čišćenje kroz konture opreme ili postavljanjem delova u cirkulatorno kupatilo.

[0043] Primeri uzoraka (videti tabelu 1) pripremljeni su da potvrde kvantitativni sadržaj reagensa u vodenom rastvoru za čišćenje naslaga sa metalnih i nemetalnih površina. Ovi primeri su prošli test za procenu efikasnosti prečišćavanja.

Tabela 1. Primeri (uzorci) rastvora za čišćenje.

Voda Ravno- Ravno- Ravno- Ravno- Ravno- Ravno- Ravno- Ravno- Ravno- Ravnoteža teža teža teža teža teža teža teža teža teža

* Primeri 1 i 7 koji sadrže 15 mas% kaliksarena su samo u ilustrativne svrhe i nisu obuhvaćeni patentnim zahtevima

[0044] Da bi se pripremio rastvor (uzorak) primera 1, koncentrovana komponenta koja sadrži kompleksirajući agens (EDTA) i kaliksaren koji je rastvorljiv u vodi (6 monomernih jedinica) pomešani su sa rastvorom vodonik-peroksida od 36% i razblaženi vodom. Dobijeni rastvor za čišćenje imao je sledeći sastav: vodonik-peroksid (2%), EDTA (4%), kaliksaren koji je rastvorljiv u vodi (15%) i voda (ravnoteža). Dobijeni rastvor je pumpan kroz opremu za razmenu toplote kontaminiranu naslagama karbonata i oksidima gvožđa. Kontrola čistoće izvršena je vizuelnim postupkom i postupkom diferencijalnog pritiska na ulazu i izlazu iz razmenjivača toplote. Rezultati procene efikasnosti prikazani su u Tabeli 2.

[0045] Rastvori primera 2 do 10 pripremljeni su na isti način kao u primeru 1, uz sledeće izuzetke: Kao kompleksirajući agens prema primeru 2, korišćen je NTMP, prema primeru 3 - EDTA, prema primeru 4 - EDTA, prema primeru 5 - NTMP, prema primeru 6 - HEDP, prema primeru 7 - EDTA, prema primer 8 - EDTA, prema primeru 9 - HEDP, prema primeru 10 - NTMP;

natrijum polifosfat je korišćen kao stabilizator peroksidnog razlaganja u primerima 4 - 10; kao surfaktant u primeru 4 korišćen je sulfonol, u primeru 5 - OP-7, u primeru 6 - sulfonol, u primeru 7 - OP-10, u primeru 8 - OP-7, u primeru 9 - sulfonol, u primeru 10 - OP-10.

[0046] Rastvori dobijeni prema primerima 2 - 10 testirani su i procenjeni na isti način kao u primeru 1. Ovi testovi potvrđuju povećanje efikasnosti inventivnog rešenja za uklanjanje naslaga različite prirode uz istovremeno smanjenje agresivnosti rastvora na strukturne materijale.

Claims (15)

Patentni zahtevi

1. Rastvor za čišćenje površine od naslaga različite prirode, koji sadrži vodonik-peroksid, kompleksirajući agens, kaliksaren rastvorljiv u vodi i vodu u sledećem odnosu, mas%:

Vodonik-peroksid 2 - 90

Kompleksirajući agens 3 - 30

Kaliksaren rastvorljiv u vodi 0,01 - 10

Voda,

pri čemu je kompleksirajući agens u obliku polibaznih organskih kiselina, njihovih natrijumovih soli ili derivata fosforne kiseline.

2. Rastvor prema patentnom zahtevu 1, dodatno sadrži jedno od sledećeg:

i) organsku kiselinu u količini od 3 - 30 mas%,

ii) stabilizator raspadanja jedinjenja peroksida u količini od 1 - 5 mas%,

iii) surfaktant u količini od 0,5 - 2,5 mas%, pri čemu je navedeni surfaktant odabran iz grupe koja se sastoji od

- sulfonola, neonola ili njihovih smeša,

- alkilbenzensulfonskih kiselina,

- cetrimonijum hlorida,

iv) inhibitor u količini od 0,5 – 1,5 mas%, pri čemu navedeni inhibitor je inhibitor rastvaranja metala koji sprečava oksidativno dejstvo peroksidnih jedinjenja i koji stvara zaštitni film otporan na oksidaciju.

3. Rastvor prema patentnom zahtevu 2, pri čemu organska kiselina obuhvata sirćetnu kiselinu, mravlju kiselinu, propionsku kiselinu, butansku kiselinu kao organsku kiselinu, oksalnu kiselinu, limunsku kiselinu, sulfaminsku kiselinu, adipinsku kiselinu, vinsku kiselinu, anhidride kiseline ili bilo koju njihovu kombinaciju.

4. Rastvor prema patentnom zahtevu 1, pri čemu sadrži u vodi rastvorljive helirajuće agense kao kompleksirajući agens, kao što su polikarboksilne kiseline, njihove natrijumove soli i derivati fosfornih kiselina.

5. Rastvor prema patentnom zahtevu 2, pri čemu stabilizator sadrži natrijum heksametafosfat kao stabilizator razgradnje peroksidnih jedinjenja, kalijum fosfat, natrijum hidrogen fosfat i natrijum dihidrogen fosfat.

6. Rastvor prema patentnom zahtevu 2, pri čemu pomenuti rastvor sadrži smešu sulfonola i neonola u razmeri 2:1.

7. Koncentrovana komponenta za pripremu rastvora prema patentnom zahtevu 1, koja sadrži kompleksirajući agens, pri čemu je kompleksirajući agens u obliku polibaznih organskih kiselina, njihovih natrijumovih soli ili derivata fosforne kiseline i kaliksaren rastvorljiv u vodi, u sledećem odnosu, mas%.:

Kompleksirajući agens 60 - 90

Kaliksaren rastvorljiv u vodi 10 - 40.

8. Koncentrovana komponenta prema patentnom zahtevu 7, koja dodatno sadrži inhibitor u količini od 5 - 15 mas%, pri čemu navedeni inhibitor je inhibitor rastvaranja metala koji sprečava oksidativno dejstvo jedinjenja peroksida i koji stvara zaštitni film otporan na oksidaciju.

9. Koncentrovana komponenta prema patentnom zahtevu 7, koja dodatno sadrži organsku kiselinu u količini od 10 - 85 mas%.

10. Koncentrovana komponenta prema patentnom zahtevu 7, koja dodatno sadrži stabilizator raspadanja jedinjenja peroksida u količini od 10 - 30 mas%.

11. Koncentrovana komponenta prema patentnom zahtevu 7, koja dodatno sadrži surfaktant u količini od 1 - 10 mas%, pri čemu je navedeni surfaktant odabran iz grupe koja se sastoji od - sulfonola, neonola ili njihovih smeša,

- alkilbenzensulfonskih kiselina,

- cetrimonijum hlorida.

12. Postupak pripreme rastvora za čišćenje površine od naslaga različite prirode prema bilo kom od patentnih zahteva 1-6, koji obuhvata mešanje koncentrovane komponente prema patentnom zahtevu 7 sa vodonik-peroksidom, praćeno razređivanjem vodom.

13. Upotreba rastvora prema bilo kom od patentnih zahteva 1-6 ili upotreba rastvora pripremljenog kako je definisano u patentnom zahtevu 12, u postupku čišćenja površina od naslaga različite prirode.

14. Postupak čišćenja površina od naslaga različite prirode koji se sastoji u kombinovanju mehaničkog, hemijskog i fizičko-hemijskog delovanja na naznačene naslage komponentama rastvora za čišćenje dobijenog interakcijom koncentrovanog rastvora, koji sadrži najmanje kompleksirajući agens, pri čemu je kompleksirajući agens u obliku polibaznih organskih kiselina, njihovih natrijumovih soli ili derivata fosforne kiseline i kaliksaren, sa vodonik-peroksidom, praćeno razređivanjem vodom, što rezultuje intenzivnim stvaranjem gasova na površini i unutar pora navedenih naslaga sa stvaranjem mehurića poluprečnika od 1,3 • 10<-6>m do 2 • 10<-3>m, koji podržavaju u zoni lokalnog raspadanja temperature do 150 °C i pritiske od 0,1 do 15 MPa.

15. Upotreba prema patentnom zahtevu 13 ili postupak prema patentnom zahtevu 14, pri čemu je navedena površina metalna površina ili nemetalna površina.

Izdaje i štampa: Zavod za intelektualnu svojinu, Beograd, Kneginje Ljubice 5