RU1788096C - Электролит золочени - Google Patents
Электролит золочениInfo
- Publication number
- RU1788096C RU1788096C SU914944982A SU4944982A RU1788096C RU 1788096 C RU1788096 C RU 1788096C SU 914944982 A SU914944982 A SU 914944982A SU 4944982 A SU4944982 A SU 4944982A RU 1788096 C RU1788096 C RU 1788096C
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- electrolyte
- coatings
- polyacrylic acid
- gold
- potassium
- Prior art date
Links
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 title claims abstract description 21
- VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N hexamethylenetetramine Chemical compound C1N(C2)CN3CN1CN2C3 VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 claims abstract description 11
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 claims abstract description 11
- 235000010299 hexamethylene tetramine Nutrition 0.000 claims abstract description 9
- 239000004312 hexamethylene tetramine Substances 0.000 claims abstract description 9
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000011591 potassium Substances 0.000 claims abstract description 7
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 22
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 5
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 3
- -1 monosubstituted potassium phosphate Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 abstract description 13
- 239000010931 gold Substances 0.000 abstract description 13
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 12
- 229960004011 methenamine Drugs 0.000 abstract description 8
- LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K tripotassium phosphate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])([O-])=O LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K 0.000 abstract description 8
- 229910000160 potassium phosphate Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 235000011009 potassium phosphates Nutrition 0.000 abstract description 4
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 abstract description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUSNOPLQVRUIIM-UHFFFAOYSA-N 4-amino-2-(4,4-dimethyl-2-oxoimidazolidin-1-yl)-n-[3-(trifluoromethyl)phenyl]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C1NC(C)(C)CN1C(N=C1N)=NC=C1C(=O)NC1=CC=CC(C(F)(F)F)=C1 FUSNOPLQVRUIIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001397173 Kali <angiosperm> Species 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000003929 acidic solution Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000010835 comparative analysis Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 238000002848 electrochemical method Methods 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000012493 hydrazine sulfate Substances 0.000 description 1
- 229910000377 hydrazine sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010979 pH adjustment Methods 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- NNFCIKHAZHQZJG-UHFFFAOYSA-N potassium cyanide Chemical compound [K+].N#[C-] NNFCIKHAZHQZJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 239000001509 sodium citrate Substances 0.000 description 1
- NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K sodium citrate Chemical compound O.O.[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- AGGKEGLBGGJEBZ-UHFFFAOYSA-N tetramethylenedisulfotetramine Chemical compound C1N(S2(=O)=O)CN3S(=O)(=O)N1CN2C3 AGGKEGLBGGJEBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/48—Electroplating: Baths therefor from solutions of gold
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Abstract
Использование: осаждение золота гальваническим путем.. Сущность изобретени электролит содержит, г/л: кали дициано- (1)-аурат 5,0-10,0, калий фосфорнокислый однозамещенный 30,0-40,0; гексаметилен- тетрамин 1,0-3,0; кислота полиакрилова 1,2-4,8. 1 табл,
Description
Изобретение относитс к области нанесени металлических покрытий гальваническим путем и предназначено дл осаждени золота на издели радиоэлектронной техники .
Золотые покрыти широко примен ютс в радиоэлектронных отрасл х промышленности как функциональные. Они обладают комплексом свойств: способность к пайке, коррозионна стойкость, термоустойчивость . На все эти свойства значительное вли ние оказывает пористость; менее пористые покрыти обладают лучшими характеристиками, Снижение пористости осадка вл етс актуальной задачей при осаждении золота..
Известен электролит дл нанесени золотых покрытий (1) следующего состава, г/л:
Кали дициано-(1)-эурат
(в пересчете на
металл)4-10
Калий Цианистый
(свободный)10-20
Из данного электролита можно наносить золотые покрыти при катодной плотности тока 0,1-0,3 А/дм2. Однако такие растворы имеют рН 11-12, что делает их непригодными дл осаждени покрытий на издели , содержащие стекло и керамику, т. к, эти материалы нестойки в щелочах.
Как показали патентные исследовани , основным видом электролитов, примен емых в отечественной практике, вл ютс кислые растворы. Кислые электролиты не содержат агрессивных веществ, разрушаю- клей пластмассы, и не вли ют на диэлектрические свойства последней.
В литературе описан кислый состав на основе лимонной кислотыД2). следующего состава, г/л:
Кали дициано-(1)-аурат (в пересчете на металл)8 Кислота лимонна 40 Лимоннокислый натрий 40 Сульфат гидразина 3-6. Данный электролит эксплуатируетс при катодной плотности тока 0,5-1.0 А/дм2, выход по току колеблетс 30-40%. Однако. при длительной эксплуатации нитратных ванн, в них, вследствие корректировки рН,
kj
;
Ч
00
00
о
ю
о
накапливаютс лимонна кислота и продукты ее окислени , что снижает катодный выход по току, ухудшает работоспособность ванны и качество осаждаемых покрытий.
Известен состав кислого электролита не содержащий лимонную кислоту, вз тый нами за прототип(З).
Состав электролита, г/л:
Калий дициано-(1)-аурат
(в пересчете на металл) ,8
Калии фосфорнокислый
однозамещенный 30 .Фосфорна кислота .,
до рН 3,5
Сульфат гидрозина .5.
Из данного электролита можно получать качественные осадки при плотност х тока 1 А/дм2. Однако, как показали проведенные исследовани , золотые покрыти , полученные из такого электролита, обладают значительной пористостью, что существенно снижает функциональные свойства покрытий. Кроме этого данный электролит позвол ет наносить золотые покрыти с выходом по току не более 40-45%, что вл етс существенным недостатком в услови х массового, производства.
Цель предлагаемого изобретени - снижение пористости золотого покрыти и повышение катодного выхода по току.
Существо изобретени заключаетс в том, что в электролит дл нанесени золотых покрытий, содержащий дициано-(1)- аурат кали и калий фосфорнокислый однозамещенный введены гексаметилен- тетрамин и полиакрилова кислота при следующем соотношении компонентов, г/л:
Дициано-(1)-аурат кали
(в пересчете на
металл)5,0-10,0
Калий фосфорнокислый
однозаме-. .
щенный30,0-40,0
Гексаметилен-.
тетрамин1,0-3,0
Полиакрилова
кислота1,2-4,8.
Из данного электролита можно наносить золотые покрыти при катодной плотности тока 1-3 А/дм (оптимально 2). Температура раствора 20-30°С. Катодный выход по току в области рабочих плотностей тока составл ет 75-80%. Используемый в растворе гексаметилентетрамин с общей формулой CeHi2N4 выпускаетс химической промышленностью согласно ТУ 6-09-09- 353-74. Полиакрилова кислота имеет общую формулу (-СН-СН-) и выпускаетс
СООИ
промышленностью в соответствии с ТУ МХП в виде 37% солевого раствора.
Приготовление электролита провод т обычным путем, использу компоненты мэрок ХЧ и ЧДА.
Особенностью предлагаемого состава вл етс наличие в нем гексаметилентетрз- мина и полиакриловой кислоты. Причем, как показали проведенные нами исследовани ,
0 в отсутствии полиакриловой кислоты введение гексаметилентетрамина не оказывает заметного вли ни на пористость покрыти и катодный выход по току. Следовательно, на данные свойства существенно вли ет
5 продукт взаимодействи гексаметилентет- рэмина и полиакриловой кислоты, который внедр сь в двойной электрический слой, способствует равномерному распределению ионов золота в нем и снижению пори0 стости покрыти . Кроме этого, адсорбци полиакриловой кислоты, гексаметилентетрамина и продуктов их взаимодействи на поверхности электрода приводит к увеличению перенапр жени выделени водорода
5 и, как следствие этого, к повышению катодного выхода по току дл выделени золота. Сопоставительный анализ с прототипом позвол ет сделать вывод, что за вл емый состав электролита отличаетс от
0 известного введением новых компонентов, а
именно: гексаметилентетрамина и полиакриловой кислоты. Таким образом, за вл емое техническое решение соответствует критерию новизна,
5 Известно применение полиакриловой кислоты в растворе химического золочени дл повышени адгезии покрытий к медной основе, (За вка №4432890/2702, пол. реш. от 27,11,89 г.).
0Применение аминов в электролитах золочени также известно, но с целью получени покрытий с высокой твердостью и блеском. Совместное использование иоли- акриловой кислоты и гексаметилентетрами5 на в гальванотехнике дл уменьшени пористости покрытий и повышени катодного выхода по току.
Результаты исследований приведены в табл.1.
0 Осаждение проводилось при помощи источника питани посто нного тока 55-46 в ванне объемом 0,5 л. Определение рЫ электролита производили ионометром универсальным ЭВ-74. Обрабатываемый мате5 риал - никель (фольга). Электролит готовилс следующим образом: расчетное количество кали фосфорнокислого одноза- мещенного раствор ли в дистиллированной воде, затем добавл ли расчетное количество гексаметилентетрамина и.полиакриловой кислоты, рН раствора корректировали фосфорной кислотой до рабочих значений. После чего в полученный раствор вводили дициэноаур ат кали и объем доводилс до литра. Процесс осаждени покрытий вели при комнатной температуре 18-25°С, катодной плотности тока 2 А/дм . Аноды платиновые . Толщина покрыти 3 ± 0,2 мкм.
Результаты исследований приведены в табл. 1.
Пористость покрытий определ лась по методике, описанной в работе Г, Райчевски, Т. Милушёва и др. Количественный электрохимический метод определени пористости гальванических покрытий.
При концентраци х гексаметилентетра0
5
содержании данных компонентов в составе электролита более 3 и 4,4 г/л не исключаетс возможность их включени в осадок, что может привести к изменению функциональных свойств покрытий.
Claims (1)
- Формула изобретени Электролит золочени , включающий ди- циано-(1)-аурат кали , фосфорнокислый од- нозамещенный калий и аминосодержащее соединение, отличающийс тем, что, с целью снижени пористости покрыти и повышени катодного выхода по току, он дополнительно содержит полиакриловую кислоту, а в качестве аминосодержащего соединени - гексаметилентетрамин при следующем соотношении компонентов, г/л:
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| SU914944982A RU1788096C (ru) | 1991-06-13 | 1991-06-13 | Электролит золочени |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| SU914944982A RU1788096C (ru) | 1991-06-13 | 1991-06-13 | Электролит золочени |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU1788096C true RU1788096C (ru) | 1993-01-15 |
Family
ID=21579024
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| SU914944982A RU1788096C (ru) | 1991-06-13 | 1991-06-13 | Электролит золочени |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU1788096C (ru) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1892321A2 (en) | 2006-08-21 | 2008-02-27 | Rohm and Haas Electronic Materials, L.L.C. | A Hard Gold Alloy Plating Bath |
| US20120048740A1 (en) * | 2007-06-06 | 2012-03-01 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Acidic gold alloy plating solution |
-
1991
- 1991-06-13 RU SU914944982A patent/RU1788096C/ru active
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| Покрыти металлические и неметаллические неорганические. ГОСТ9305-84 карта 39. Малышев В, М., Рум нцев Д. В. Золото. М.; Металлурги , 1973 г.. с. 262. Патент DE № 1215467, кл. С 25 D3/48, 1966. * |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1892321A2 (en) | 2006-08-21 | 2008-02-27 | Rohm and Haas Electronic Materials, L.L.C. | A Hard Gold Alloy Plating Bath |
| US20120048740A1 (en) * | 2007-06-06 | 2012-03-01 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Acidic gold alloy plating solution |
| US8357285B2 (en) * | 2007-06-06 | 2013-01-22 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Acidic gold alloy plating solution |
| TWI468556B (zh) * | 2007-06-06 | 2015-01-11 | 羅門哈斯電子材料有限公司 | 酸性金合金電鍍液 |
| US9297087B2 (en) | 2007-06-06 | 2016-03-29 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Acidic gold alloy plating solution |
| US9303326B2 (en) | 2007-06-06 | 2016-04-05 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Acidic gold alloy plating solution |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4008144A (en) | Method for manufacturing of electrode having porous ceramic substrate coated with electrodeposited lead dioxide and the electrode manufactured by said method | |
| US20040195107A1 (en) | Electrolytic solution for electrochemical deposition gold and its alloys | |
| US3500537A (en) | Method of making palladium coated electrical contacts | |
| US4067783A (en) | Gold electroplating process | |
| GB2112397A (en) | Gold plating baths, and polymeric chelate for use therein | |
| Leeds et al. | The effects of plating conditions on porosity in gold electrodeposits | |
| US4447299A (en) | Use of alcohol for increasing the current efficiency of chromium plating | |
| US6103088A (en) | Process for preparing bismuth compounds | |
| RU2538492C1 (ru) | Способ изготовления катодной обкладки танталового объемно-пористого конденсатора | |
| WO2010027021A1 (ja) | 銅‐亜鉛合金電気めっき浴 | |
| Ohsaka et al. | Electroplating of iridium–cobalt alloy | |
| RU2130091C1 (ru) | Способ электроосаждения покрытий сплавом хром-кобальт | |
| Ruffoni et al. | Pulse-plating of Au Cu Cd alloys—I. Experiments under controlled mass transport conditions | |
| RU2205901C1 (ru) | Способ электроосаждения цинка | |
| RU2379381C1 (ru) | Электролит железнения | |
| US4071417A (en) | Process for decreasing the porosity of gold | |
| SU1565920A1 (ru) | Электролит дл осаждени аморфного железо-фосфорного сплава | |
| RU2175999C2 (ru) | Водный электролит блестящего меднения | |
| RU2094541C1 (ru) | Электролит железнения | |
| SU1068547A1 (ru) | Электролит дл осаждени покрытий сплавом серебро-медь | |
| JPH06264281A (ja) | パラジウムメッキ液及び該メッキ液を用いたパラジウムメッキ方法 | |
| SU1055781A1 (ru) | Водный электролит блест щего меднени | |
| SU863721A1 (ru) | Электролит золочени | |
| SU962339A1 (ru) | Способ электролитического осаждени покрытий осмием и иридием | |
| SU574485A1 (ru) | Электролит блест щего лужени |