RU2000354C1 - Устройство дл обработки изделий тлеющим разр дом - Google Patents

Устройство дл обработки изделий тлеющим разр дом

Info

Publication number
RU2000354C1
RU2000354C1 SU5035477A RU2000354C1 RU 2000354 C1 RU2000354 C1 RU 2000354C1 SU 5035477 A SU5035477 A SU 5035477A RU 2000354 C1 RU2000354 C1 RU 2000354C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
zone
cathode
plates
glow
distance
Prior art date
Application number
Other languages
English (en)
Inventor
Сергей Николаевич Кучанов
Original Assignee
КучановС.Н.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by КучановС.Н. filed Critical КучановС.Н.
Priority to SU5035477 priority Critical patent/RU2000354C1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2000354C1 publication Critical patent/RU2000354C1/ru

Links

Landscapes

  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)

Abstract

Изобретение относитс  к устройствам дл  обработки изделий тлеющим разр дом при нанесении вакуумных покрытий. Устройство содержит токоподвод с составным катодом (К), содержащем как минимум две замкнутые пластины (П) с параллельными образующими. Одна из П выполнена сплошной , а остальные - с отверсти ми (О) по всей поверхности. Рассто ние (Р) между П выбираетс  равным не менее удвоенного Р между поверхностью К и зоной отрицательного свечени . Размер О и Р между ними выбираетс  в пределах Р от поверхности К до зоны отрицательного свечени . Данное выполнение К обеспечивает возникновение эффекта полого К в полости П, а также повышенную плотность плазмы положительного столба тлеющего разр да в пространстве со стороны П с О, где обеспечиваетс  эффективна  обработка изделий. 1 ил.

Description

Изобретение относитс  к обработке материалов в тлеющем разр де при нанесении вакуумных покрытий, в частности в микроэлектронике , оптике, изготовлении товаров народного потреблени .
Известно устройство, содержащее токо- провод и электроды в виде плоских пластин, расположенных в вакуумной камере (см . В.А.Брнештейн и др. О действии тлеющего разр да на поверхность стекла. Физика и хими  обработки материалов, 1979, № 4, с. 147), При использовании таких электродов эффективность обработки обеспечиваетс  в случае помещени  изделий в узкой области отрицательного свечени  тлеющего разр да , параллельно плоскости катода, В промышленных услови х размещение изделий в зоне отрицательного свечени  св зано с большими трудност ми как в силу небольшой толщины самой зоны (не более 1-2 мм)
так и по причине Изменени  положени  зоны в зависимости от величины давлени  в камере. Кроме того, дл  изделий не плоской конфигурации их размещение в зоне отрицательного свечени  вообще невозможно, и поэтому дл  обеспечени  равномерности обработки они размещаютс  в зоне плазмы положительного столба тлеющего разр да, где энерги  ионов и электронов разр да значительно ниже.
Известно устройство, содержащее токоподвод и катод в виде спирали (см . авт.св. СССР №388061). Така  конструкци  катода позвол ет эффективней использовать электроны , эмиттированные с боковых поверхностей спирали в пространстве между ее витками, и тем самым увеличить интенсивность ионизации газа и скорость распылени  материала катода. Однако при использовании такой конструкции катода
с
ю о о о
СА)
ел
N
о
дл  обработки материала имеют место те же недостатки, что и дл  предыдущего примера . Кроме того . более интенсивное воздействие разр да, обеспечиваемое конструкцией катода, ориентировано как в сторону обрабатываемого издели , так и в противоположную от издели  сторону, что снижает эффективность использовани  мощности разр да.
В литературе описано устройство, со- держащее токопровод и электрод полой цилиндрической формы с отверсти ми в боковой поверхности, обращенными в сторону обрабатываемого издели  (см. Ройх И.Л. и Колтунова А.Н. Защитные вакуумные покрыти  на стали, М., 1971). В описанной конструкции электрода с выбранными размерами внутренней полости, отверстий и рассто ний между ними разр д оказывает
с  сосредоточенным исключительно в его внутренней полости, а показатели воздействи  разр да на обрабатываемое изделие ниже, чем дл  плоского электрода, т.к. при одинаковом напр жении на электродах обе
их конструкций дл  полого электрода внеш- и   часть разр да оказываетс  значительно шунтированной разр дом в полости, тем самым существенно снижаетс  эффективность обработки издели , расположенного с внешней стороны от цилиндрического по- лого электрода.
Целью изобретени   вл етс  создание электрода, обеспечивающего более эффективную обработку изделий за пределами зоны отрицательного свечени  в большей части объема камеры, путем повышени  плотности плазмы положительного столба тлеющего разр да и эффективности использовани  мощности разр да.
Цель достигаетс  тем, что в устройстве дл  обработки изделий тлеющим разр дом, содержащем катод с токоподводом, полостью и зоной отрицательного свечени , полость катода образована не менее чем двум  замкнутыми пластинами с параллель- ными образующими, причем одна из пластин выполнена сплошной, а другие - с отверсти ми по всей поверхности. Рассто ние между пластинами выбираетс  равным не менее чем удвоенному рассто нию от поверхности катода до зоны отрицательного свечени , а размер отверстий и рассто ние между ними выбираютс  в пределах рассто ни  от поверхности катода до зоны
отрицательного свечени .
При такой конструкции катода электроны , эмиттированные с внутренних, параллельно расположенных поверхностей пластин, начинают осциллировать в полости между сплошной пластиной и сплошны5
Ю 15
0
5 0
5
40 45 50
55
ми участками пластин с отверсти ми, оттал киваемые этими поверхност ми, наход щимис  под отрицательным потенциалом При выбранном рассто нии между пластинами электроны, до момента изменени  направлени  своего движени , успевают набрать энергию, достаточную дл  ионизации газа. Вследствие этого в процессе колебаний каждый электрон обеспечивает многократную ионизацию в пространстве между пластинами , что вызывает лавинообразный рост количества самих электронов, и как следствие, дополнительное повышение степени ионизации газа в этом пространстве. В результате ток разр да резко увеличиваетс  (до 10 раз). При выбранном размере отверстий в пластинах обеспечиваетс  возможность выхода электронов из ловушки, образованной встречными электрическими пол ми параллельных пластин. При выбранном рассто нии между отверсти ми обеспечиваетс  условие максимального выхода электронов в зону обрабатываемого издели . Таким образом обеспечиваетс  прохождение повышенного тока через положительный столб тлеющего разр да со стороны пластин тлеющего разр да. Увеличение тока сопровождаетс  значительным ростом интенсивности свечени  газа и степени воздействи  плазмы положительного столба тлеющего разр да на обрабатываемое изделие.
На чертеже изображено устройство дл  обработки изделий тлеющим разр дом в случае использовани  двух пластин параллельными плоскост ми.
Токоподвод 1 присоедин етс  к сплошной пластине 2 и пластине 3 с отверсти ми, зафиксированными друг относительно друга при помощи ограничителей 4 на выбранном рассто нии. Траектори  5 движени  электронов пересекает зону 6 отрицательного свечени  между пластинами и выходит в пространство, где располагаетс  обрабатываемое изделие 8. В качестве второго электрода служат стенки камеры 9.
Через токоподвод 1 подаетс  отрицательный потенциал на пластины 2 и 3 с ограничителем4 .Электроны, эмиттированные за счет вторичной электронной эмиссии с внутренней поверхности одной из пластин, ускор ютс  в направлении противоположной пластины. При достижении электронами энергии ионизации, в момент их столкновени  с атомами газа, обеспечиваетс  возможность ионизации этих атомов, в результате которой по вл ютс  дополнительные электроны При дальнейшем движении электронов они тормоз тс  встречным полем противоположной пластины, останавливаютс  и начинают движение в обратном направлении, обеспечива  новые акты ионизации, и так до того момента, пока не вылет т из этого полузамкнутого пространства через отверсти  пластины 3 по траектории 5. В результате действи  этих факторов происходит эффективна  ионизаци  газа с формированием зоны отрицательного свечени  в полости между пластинами и лавинообразное размножение электронов. Ток разр да резко возрастает, возникает эффект полого катода , обусловленный асцилл цией внутри полости значительного количества быстрых электронов, которые, вырыва сь через отверсти  пластины 3. обеспечивают повышенную плотность плазмы положительного столба тлеющего разр да в обширном пространства 7. ориентированном перпендикул рно плоскости катода в направлении пластины 3 с отверсти ми. В этом пространстве легко размещаютс  издели  8 самой различной конфигурации. Использование в качестве второго электрода (анода) стенок камеры 9 практически не сказываетс  на размерах и направленности пространства 7
5
0
5

Claims (3)

  1. с плазмой повышенной плотности. Формирование же разр да со стороны свободной поверхности сплошной пластины 3 практически отсутствует, что обеспечивает эффективное использование мощности разр да дл  обработки поверхности издели . Формула изобретени  1.Устройство дл  обработки изделий тлеющим разр дом, содержащее полый катод с зоной отрицательного свечени  и с токоподводом, отличающеес  тем, что катод образован не менее чем двум  замкнутыми пластинами с параллельными образующими , причем одна из пластин сплошна , а другие - с отверсти ми по всей поверхности,
  2. 2.Устройство поп.1.отличающее- с   тем. что рассто ние между пластинами равно не менее чем удвоенному рассто нию от поверхности катода до зоны отрицательного свечени .
  3. 3.Устройство поп.1,отличающее- с   тем, что диаметр отверстий и рассто ние между ними наход тс  в пределах рассто ни  от поверхности катода до зоны отрицательного свечени .
SU5035477 1992-04-01 1992-04-01 Устройство дл обработки изделий тлеющим разр дом RU2000354C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU5035477 RU2000354C1 (ru) 1992-04-01 1992-04-01 Устройство дл обработки изделий тлеющим разр дом

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU5035477 RU2000354C1 (ru) 1992-04-01 1992-04-01 Устройство дл обработки изделий тлеющим разр дом

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2000354C1 true RU2000354C1 (ru) 1993-09-07

Family

ID=21600906

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU5035477 RU2000354C1 (ru) 1992-04-01 1992-04-01 Устройство дл обработки изделий тлеющим разр дом

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2000354C1 (ru)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2101383C1 (ru) * 1995-02-21 1998-01-10 Уфимский государственный авиационный технический университет Способ катодного распыления
WO2007013703A1 (en) * 2005-07-26 2007-02-01 Psm Inc. Injection type plasma treatment apparatus and method

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2101383C1 (ru) * 1995-02-21 1998-01-10 Уфимский государственный авиационный технический университет Способ катодного распыления
WO2007013703A1 (en) * 2005-07-26 2007-02-01 Psm Inc. Injection type plasma treatment apparatus and method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Conrads et al. Plasma generation and plasma sources
Lu et al. Atmospheric pressure nonthermal plasma sources
CN100512592C (zh) 等离子加速器装置
US5846608A (en) Process for ion-supported vacuum coating
JP3328498B2 (ja) 高速原子線源
US4551221A (en) Vacuum-arc plasma apparatus
EP0463408A2 (en) Plasma accelerator with closed electron drift
CN106029215B (zh) 用于利用加速的电子加载散装货物的装置
AR025066A2 (es) Metodo para ionizar un vapor de revestimiento en una disposicion de revestimiento por deposicion de vapor, y disposicion de revestimiento por deposicion devapor que usa un catodo con una campana anodica
US12274971B2 (en) Apparatus and method for applying accelerated electrons to gaseous media
SE516336C2 (sv) Apparat för plasmabehandling av ytor
Coll et al. Design of vacuum arc-based sources
US20080191629A1 (en) Focused anode layer ion source with converging and charge compensated beam (falcon)
US3406349A (en) Ion beam generator having laseractivated ion source
US3271556A (en) Atmospheric charged particle beam welding
JPH07501654A (ja) 帯電粒子の加速方法および粒子加速器
RU2000354C1 (ru) Устройство дл обработки изделий тлеющим разр дом
US5519213A (en) Fast atom beam source
US5434469A (en) Ion generator with ionization chamber constructed from or coated with material with a high coefficient of secondary emission
US3619812A (en) Metallic vapor laser
RU2726187C1 (ru) Устройство для обработки изделий быстрыми атомами
RU2096933C1 (ru) Устройство для плазмохимического нанесения покрытия
US3358169A (en) Metastable ion pinch light source
RU1745080C (ru) Источник ионов паров металлов
RU2496283C1 (ru) Генератор широкоаппертурного потока газоразрядной плазмы