RU2012102082A - Способ нанесения покрытий на бритвы методом атомно-слоевого осаждения - Google Patents
Способ нанесения покрытий на бритвы методом атомно-слоевого осаждения Download PDFInfo
- Publication number
- RU2012102082A RU2012102082A RU2012102082/02A RU2012102082A RU2012102082A RU 2012102082 A RU2012102082 A RU 2012102082A RU 2012102082/02 A RU2012102082/02 A RU 2012102082/02A RU 2012102082 A RU2012102082 A RU 2012102082A RU 2012102082 A RU2012102082 A RU 2012102082A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- coating
- blade
- etching
- razor
- layer deposition
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract 39
- 238000000231 atomic layer deposition Methods 0.000 title claims abstract 12
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract 32
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract 31
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract 19
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract 15
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 claims abstract 2
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 claims abstract 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract 2
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 claims abstract 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract 2
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 claims abstract 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims 4
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229940045985 antineoplastic platinum compound Drugs 0.000 claims 1
- 239000003610 charcoal Substances 0.000 claims 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 claims 1
- PDPJQWYGJJBYLF-UHFFFAOYSA-J hafnium tetrachloride Chemical compound Cl[Hf](Cl)(Cl)Cl PDPJQWYGJJBYLF-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000003058 platinum compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 claims 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J zirconium tetrachloride Chemical compound Cl[Zr](Cl)(Cl)Cl DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B26—HAND CUTTING TOOLS; CUTTING; SEVERING
- B26B—HAND-HELD CUTTING TOOLS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B26B21/00—Razors of the open or knife type; Safety razors or other shaving implements of the planing type; Hair-trimming devices involving a razor-blade; Equipment therefor
- B26B21/54—Razor-blades
- B26B21/58—Razor-blades characterised by the material
- B26B21/60—Razor-blades characterised by the material by the coating material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/006—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterized by the colour of the layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/01—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes on temporary substrates, e.g. substrates subsequently removed by etching
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C16/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
- C23C16/45523—Pulsed gas flow or change of composition over time
- C23C16/45525—Atomic layer deposition [ALD]
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
- C23C16/45523—Pulsed gas flow or change of composition over time
- C23C16/45525—Atomic layer deposition [ALD]
- C23C16/45555—Atomic layer deposition [ALD] applied in non-semiconductor technology
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Forests & Forestry (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)
- Dry Shavers And Clippers (AREA)
Abstract
1. Способ нанесения покрытия на бритвенное лезвие, характеризующийся тем, что на по меньшей мере одно лезвие бритвы, помещенное в вакуумной камере, наносят по меньшей мере одно покрытие из по меньшей мере одного материала, используя при этом процесс атомно-слоевого осаждения, причем упомянутым по меньшей мере, одним покрытием покрывают полностью поверхность по меньшей мере одной боковой стороны режущей части лезвия и по меньшей мере часть поверхности тела лезвия упомянутого по меньшей мере одного лезвия, и производят травление упомянутого по меньшей мере одного покрытия.2. Способ по п.1, характеризующийся тем, что упомянутое травление упомянутого покрытия производят на по меньшей мере одной боковой стороне режущей части лезвия, или на упомянутом теле лезвия, или на упомянутой боковой стороне режущей части и на упомянутом теле лезвия.3. Способ по п.1, характеризующийся тем, что упомянутое травление производят, удаляя упомянутое покрытие до получения режущей кромки лезвия радиусом округления в диапазоне от примерно 15 нм до примерно 40 нм.4. Способ по п.1, характеризующийся тем, что упомянутое травление производят во время упомянутого процесса атомно-слоевого осаждения, или после него, или во время процесса атомно-слоевого осаждения и после него.5. Способ по п.1, характеризующийся тем, что процесс травления включает направленное травление, ионное травление in-situ, химическое травление, радиочастотное травление, плазменное травление, травление, основанное на использовании оптического излучения, или любую их комбинацию.6. Способ по п.1, характеризующийся тем, что нанесенное покрытие является конформным, имеет, в сущности
Claims (25)
1. Способ нанесения покрытия на бритвенное лезвие, характеризующийся тем, что на по меньшей мере одно лезвие бритвы, помещенное в вакуумной камере, наносят по меньшей мере одно покрытие из по меньшей мере одного материала, используя при этом процесс атомно-слоевого осаждения, причем упомянутым по меньшей мере, одним покрытием покрывают полностью поверхность по меньшей мере одной боковой стороны режущей части лезвия и по меньшей мере часть поверхности тела лезвия упомянутого по меньшей мере одного лезвия, и производят травление упомянутого по меньшей мере одного покрытия.
2. Способ по п.1, характеризующийся тем, что упомянутое травление упомянутого покрытия производят на по меньшей мере одной боковой стороне режущей части лезвия, или на упомянутом теле лезвия, или на упомянутой боковой стороне режущей части и на упомянутом теле лезвия.
3. Способ по п.1, характеризующийся тем, что упомянутое травление производят, удаляя упомянутое покрытие до получения режущей кромки лезвия радиусом округления в диапазоне от примерно 15 нм до примерно 40 нм.
4. Способ по п.1, характеризующийся тем, что упомянутое травление производят во время упомянутого процесса атомно-слоевого осаждения, или после него, или во время процесса атомно-слоевого осаждения и после него.
5. Способ по п.1, характеризующийся тем, что процесс травления включает направленное травление, ионное травление in-situ, химическое травление, радиочастотное травление, плазменное травление, травление, основанное на использовании оптического излучения, или любую их комбинацию.
6. Способ по п.1, характеризующийся тем, что нанесенное покрытие является конформным, имеет, в сущности, равномерную толщину, гладкую морфологию поверхности и практически нулевую пористость.
7. Способ по п.1, характеризующийся тем, что нанесенное покрытие имеет толщину в диапазоне от примерно 0,1 нм до примерно 500 нм.
8. Способ по п.1, характеризующийся тем, что процесс атомно-слоевого осаждения включает этапы, на которых:
(a) наносят первый монослой из первого материала на по меньшей мере одно бритвенное лезвие,
(b) наносят второй монослой из второго материала на упомянутое по меньшей мере одно бритвенное лезвие, и
(с) повторяют этапы (а) и (b) до получения оптимальной толщины упомянутого по меньшей мере одного покрытия.
9. Способ по п.8, характеризующийся тем, что в качестве первого и второго материалов используют один и тот же материал.
10. Способ по п.8, характеризующийся тем, что этапы (а) или (b) дополнительно содержат этапы, на которых:
создают вакуум в упомянутой вакуумной камере,
вводят в упомянутую камеру первый осаждаемый прекурсор для формирования адсорбционного слоя на упомянутом по меньшей мере одном лезвии,
очищают вакуумную камеру и
вводят в упомянутую камеру второй осаждаемый прекурсор для получения монослоя упомянутого материала на упомянутом по меньшей мере одном бритвенном лезвии.
11. Способ по п.10, характеризующийся тем, что первый осаждаемый прекурсор содержит хлорид циркония, хлорид гафния, хлорид алюминия, хлорид титана или любую их комбинации, а второй осаждаемый прекурсор содержит водяной пар.
12. Способ по п.1, характеризующийся тем, что процесс атомно-слоевого осаждения ведут в течение от примерно 1 мин до примерно 10 ч, а упомянутое травление ведут в течение от примерно 2 мин до примерно 1 ч.
13. Способ по п.1, характеризующийся тем, что упомянутое бритвенное лезвие содержит сталь, хром, алмазоподобный углерод, аморфный алмаз, соединения хрома и платины, титан, нитрид титана, ниобий или любые их комбинации.
14. Бритвенное лезвие, сформированное с применением способа по п.1.
15. Бритвенное лезвие, содержащее по меньшей мере одно покрытие, включающее по меньшей мере один слой материала, сформированный с использованием процесса атомно-слоевого осаждения, при этом одно покрытие из упомянутых по меньшей мере одного покрытия подвергнуто травлению.
16. Бритвенное лезвие, содержащее первое покрытие из первого материала и второе покрытие из второго материала, причем по меньшей мере одно из упомянутых первого или второго покрытий нанесено с использованием процесса атомно-слоевого осаждения, при этом упомянутое второе покрытие нанесено на верхнюю поверхность упомянутого первого покрытия.
17. Бритвенное лезвие по п.16, характеризующееся тем, что упомянутое второе покрытие частично покрывает упомянутое первое покрытие.
18. Бритвенное лезвие по п.16, характеризующееся тем, что упомянутое второе покрытие нанесено с использованием трафарета или маски.
19. Бритвенное лезвие по п.16, характеризующееся тем, что по меньшей мере часть упомянутого второго покрытия удалена путем травления.
20. Бритвенное лезвие по п.16, характеризующееся тем, что упомянутый первый материал имеет первые свойства, а упомянутый второй материал имеет вторые свойства.
21. Бритвенное лезвие по п.16, характеризующееся тем, что упомянутый первый материал имеет первый цвет, а упомянутый второй материал имеет второй цвет.
22. Способ нанесения покрытия на компонент бритвы, включающий этап, на котором
наносят на, по меньшей мере, один компонент бритвы, размещенный в вакуумной камере, по меньшей мере одно покрытие из по меньшей мере одного материала с использованием процесса атомно-слоевого осаждения.
23. Способ по п.22, характеризующийся тем, что упомянутый компонент бритвы включает зажим картриджа или, по меньшей мере, его часть, держатель лезвий или, по меньшей мере, его часть, тело лезвия или, по меньшей мере, его часть, боковую сторону режущей части лезвия или, по меньшей мере, ее часть, согнутое лезвие или, по меньшей мере, его часть, рукоятку бритвы или, по меньшей мере, ее часть или любую комбинацию упомянутых компонентов.
24. Способ по п.22, характеризующийся тем, что дополнительно включает этап травления упомянутого по меньшей мере одного покрытия.
25. Способ по п.22, характеризующийся тем, что упомянутое покрытие имеет толщину от примерно 0,1 нм до примерно 2000 нм.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US12/504,991 | 2009-07-17 | ||
| US12/504,991 US9327416B2 (en) | 2009-07-17 | 2009-07-17 | Atomic layer deposition coatings on razor components |
| PCT/US2010/041304 WO2011008617A1 (en) | 2009-07-17 | 2010-07-08 | Atomic layer deposition coatings on razor |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2012102082A true RU2012102082A (ru) | 2013-08-27 |
| RU2526347C2 RU2526347C2 (ru) | 2014-08-20 |
Family
ID=42799579
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2012102082/02A RU2526347C2 (ru) | 2009-07-17 | 2010-07-08 | Способ нанесения покрытий на бритвы методом атомно-слоевого осаждения |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US9327416B2 (ru) |
| EP (1) | EP2454057B1 (ru) |
| JP (1) | JP5575895B2 (ru) |
| CN (1) | CN102470537B (ru) |
| BR (1) | BR112012001117A2 (ru) |
| IN (1) | IN2012DN00477A (ru) |
| MX (1) | MX339164B (ru) |
| RU (1) | RU2526347C2 (ru) |
| WO (1) | WO2011008617A1 (ru) |
Families Citing this family (33)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8642122B2 (en) * | 2009-01-12 | 2014-02-04 | The Gillette Company | Formation of thin uniform coatings on blade edges using isostatic press |
| US8628821B2 (en) * | 2009-01-12 | 2014-01-14 | The Gillette Company | Formation of thin uniform coatings on blade edges using isostatic press |
| EP2495081B1 (de) * | 2011-03-01 | 2014-05-07 | GFD Gesellschaft für Diamantprodukte mbH | Schneidewerkzeug mit Klinge aus feinkristallinem Diamant |
| EP2495080B1 (de) * | 2011-03-01 | 2014-05-21 | GFD Gesellschaft für Diamantprodukte mbH | Schneidwerkzeug mit Klinge aus feinkristallinem Diamant |
| US20130031794A1 (en) * | 2011-08-05 | 2013-02-07 | Duff Jr Ronald Richard | RAZOR BLADES WITH ALUMINUM MAGNESIUM BORIDE (AlMgB14)-BASED COATINGS |
| WO2013186427A1 (en) * | 2012-06-15 | 2013-12-19 | Picosun Oy | Coating a substrate web by atomic layer deposition |
| US11148309B2 (en) * | 2013-06-05 | 2021-10-19 | The Gillette Company Llc | Razor components with novel coating |
| WO2016015771A1 (en) * | 2014-07-31 | 2016-02-04 | Bic-Violex Sa | Razor blade coating |
| BR112017010922B1 (pt) * | 2014-12-22 | 2021-07-06 | Bic-Violex Sa | Lâmina para barbeamento e depilação |
| US9925678B2 (en) * | 2014-12-30 | 2018-03-27 | The Gillette Company Llc | Razor blade with a printed object |
| US10315323B2 (en) | 2015-01-08 | 2019-06-11 | The Gillette Company Llc | Razor cartridge with a printed lubrication control member |
| US20170033458A1 (en) * | 2015-07-28 | 2017-02-02 | Google Inc. | Multi-Beam Antenna System |
| US11230025B2 (en) * | 2015-11-13 | 2022-01-25 | The Gillette Company Llc | Razor blade |
| CN105506581B (zh) * | 2015-12-15 | 2019-03-19 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 一种应用原子层沉积技术制备薄膜的实现方法 |
| US10675772B2 (en) * | 2016-06-29 | 2020-06-09 | The Gillette Company Llc | Printed lubricious material disposed on razor blades |
| US10384360B2 (en) * | 2016-06-29 | 2019-08-20 | The Gillette Company Llc | Razor blade with a printed object |
| US11654588B2 (en) | 2016-08-15 | 2023-05-23 | The Gillette Company Llc | Razor blades |
| JP6789319B2 (ja) * | 2016-12-26 | 2020-11-25 | 京セラ株式会社 | 刃物 |
| US10766157B2 (en) | 2017-02-13 | 2020-09-08 | The Gillette Company Llc | Razor blades |
| CN106939414B (zh) * | 2017-03-01 | 2019-08-30 | 秦皇岛博硕光电设备股份有限公司 | 基材上生长AlMgB14膜层的方法及采用该方法制得的制品 |
| CN108300997A (zh) * | 2018-03-30 | 2018-07-20 | 镇江东艺机械有限公司 | 一种基于pvd技术的高速切削刀具及制造方法 |
| EP3639991A1 (en) * | 2018-10-19 | 2020-04-22 | Edgewell Personal Care Brands, LLC | Razor blade and method of making it |
| US10994379B2 (en) * | 2019-01-04 | 2021-05-04 | George H. Lambert | Laser deposition process for a self sharpening knife cutting edge |
| EP3714913A1 (en) | 2019-03-29 | 2020-09-30 | Picosun Oy | Color coding |
| US11338321B2 (en) * | 2019-05-09 | 2022-05-24 | The Gillette Company Llc | Method for modifying coated razor blade edges |
| EP3999289A1 (en) * | 2019-07-17 | 2022-05-25 | Anchor Manufacturing Group, Inc. | Non-metallic razor blades and razor assemblies therefor |
| EP3895857A1 (en) * | 2020-04-16 | 2021-10-20 | GFD Gesellschaft für Diamantprodukte mbH | Shaving device |
| CN115551686B (zh) * | 2020-04-16 | 2025-05-13 | 吉列有限责任公司 | 用于剃刀刀片的涂层 |
| EP4135953B1 (en) | 2020-04-16 | 2026-03-25 | The Gillette Company LLC | Razor blade |
| EP3944936A1 (en) * | 2020-07-31 | 2022-02-02 | Koninklijke Philips N.V. | Tactile wear indicator for a cutting element |
| CN116313715B (zh) * | 2021-12-20 | 2025-08-01 | 中国石油化工股份有限公司 | 涂覆刀片电极的方法、刀片电极、滑动弧等离子体反应器和等离子体转化甲烷的方法 |
| CN115284337A (zh) * | 2022-08-08 | 2022-11-04 | 阳江市五金刀剪产业技术研究院 | 一种儿童辅食刀剪及其制备方法 |
| CN115786872B (zh) * | 2022-11-22 | 2025-01-21 | 中建材光子科技有限公司 | 一种使用预键合方法的表面选择性原子层沉积方法 |
Family Cites Families (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU485283B2 (en) * | 1971-05-18 | 1974-10-03 | Warner-Lambert Company | Method of making a razorblade |
| SE393967B (sv) | 1974-11-29 | 1977-05-31 | Sateko Oy | Forfarande och for utforande av stroleggning mellan lagren i ett virkespaket |
| JPS61106767A (ja) * | 1984-10-29 | 1986-05-24 | Agency Of Ind Science & Technol | 刃物類の刃先表面層改質方法 |
| US5056227A (en) * | 1990-03-19 | 1991-10-15 | The Gillette Company | Razor blade technology |
| US5048191A (en) | 1990-06-08 | 1991-09-17 | The Gillette Company | Razor blade technology |
| US6468642B1 (en) * | 1995-10-03 | 2002-10-22 | N.V. Bekaert S.A. | Fluorine-doped diamond-like coatings |
| US5795648A (en) * | 1995-10-03 | 1998-08-18 | Advanced Refractory Technologies, Inc. | Method for preserving precision edges using diamond-like nanocomposite film coatings |
| IL138710A0 (en) * | 1999-10-15 | 2001-10-31 | Newman Martin H | Atomically sharp edge cutting blades and method for making same |
| US6684513B1 (en) * | 2000-02-29 | 2004-02-03 | The Gillette Company | Razor blade technology |
| JP4741056B2 (ja) * | 2000-06-05 | 2011-08-03 | 株式会社貝印刃物開発センター | 刃部材及びその刃先の製造方法 |
| US20050028389A1 (en) * | 2001-06-12 | 2005-02-10 | Wort Christopher John Howard | Cvd diamond cutting insert |
| KR100914866B1 (ko) * | 2001-07-11 | 2009-08-31 | 코닌클리케 필립스 일렉트로닉스 엔.브이. | 절삭 부재, 면도 헤드, 및 면도 도구 |
| US6720259B2 (en) * | 2001-10-02 | 2004-04-13 | Genus, Inc. | Passivation method for improved uniformity and repeatability for atomic layer deposition and chemical vapor deposition |
| US20040172832A1 (en) * | 2003-03-04 | 2004-09-09 | Colin Clipstone | Razor blade |
| SE527180C2 (sv) * | 2003-08-12 | 2006-01-17 | Sandvik Intellectual Property | Rakel- eller schaberblad med nötningsbeständigt skikt samt metod för tillverkning därav |
| US7673541B2 (en) | 2004-06-03 | 2010-03-09 | The Gillette Company | Colored razor blades |
| KR100614801B1 (ko) * | 2004-07-05 | 2006-08-22 | 삼성전자주식회사 | 반도체 장치의 막 형성방법 |
| CN101035925B (zh) * | 2004-09-08 | 2010-09-08 | 比克-维奥利克斯公司 | 在剃须刀片刀口和剃须刀片上沉积涂层的方法 |
| US20070227008A1 (en) | 2006-03-29 | 2007-10-04 | Andrew Zhuk | Razors |
| GB2445218B (en) * | 2006-09-21 | 2011-05-25 | Smith International | Atomic layer deposition nanocoating on cutting tool powder materials |
-
2009
- 2009-07-17 US US12/504,991 patent/US9327416B2/en active Active
-
2010
- 2010-07-08 EP EP10734400.4A patent/EP2454057B1/en active Active
- 2010-07-08 WO PCT/US2010/041304 patent/WO2011008617A1/en not_active Ceased
- 2010-07-08 JP JP2012520674A patent/JP5575895B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2010-07-08 BR BR112012001117A patent/BR112012001117A2/pt not_active IP Right Cessation
- 2010-07-08 MX MX2012000772A patent/MX339164B/es active IP Right Grant
- 2010-07-08 RU RU2012102082/02A patent/RU2526347C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2010-07-08 IN IN477DEN2012 patent/IN2012DN00477A/en unknown
- 2010-07-08 CN CN201080032040.4A patent/CN102470537B/zh not_active Expired - Fee Related
-
2016
- 2016-03-31 US US15/086,336 patent/US10821619B2/en active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP2454057A1 (en) | 2012-05-23 |
| MX339164B (es) | 2016-05-09 |
| RU2526347C2 (ru) | 2014-08-20 |
| CN102470537B (zh) | 2015-04-01 |
| MX2012000772A (es) | 2012-02-28 |
| CN102470537A (zh) | 2012-05-23 |
| WO2011008617A1 (en) | 2011-01-20 |
| US9327416B2 (en) | 2016-05-03 |
| IN2012DN00477A (ru) | 2015-06-05 |
| US20110010950A1 (en) | 2011-01-20 |
| JP5575895B2 (ja) | 2014-08-20 |
| US10821619B2 (en) | 2020-11-03 |
| US20160207211A1 (en) | 2016-07-21 |
| BR112012001117A2 (pt) | 2016-02-23 |
| EP2454057B1 (en) | 2018-04-18 |
| JP2012533344A (ja) | 2012-12-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2012102082A (ru) | Способ нанесения покрытий на бритвы методом атомно-слоевого осаждения | |
| EP1604049B1 (en) | Method and apparatus for treating a substrate | |
| US6617057B2 (en) | Composite vapor deposited coatings and process therefor | |
| CA2323259C (en) | Atomically sharp edged cutting blades and methods for making same | |
| US5799549A (en) | Amorphous diamond coating of blades | |
| US6076264A (en) | Coated manicure implement | |
| US20170345624A1 (en) | Method and apparatus for reproducing component of semiconductor manufacturing apparatus, and reproduced component | |
| CZ288085B6 (cs) | Holicí břit, holicí jednotka a způsob výroby holicího břitu | |
| RU2011125694A (ru) | Формирование тонких однородных покрытий на кромках бритвенных лезвий с использованием изостатического прессования | |
| CZ289093A3 (en) | Method of forming a shaving cutting edge and the shaving cutting edge | |
| AU8069498A (en) | A method of coating edges with diamond-like carbon | |
| EP1509370B1 (en) | Diamond cutting insert | |
| JP2021500287A (ja) | 単独型の単結晶機械および光学構成要素の生成のための単結晶ダイヤモンド部材の生成方法 | |
| CN106567036B (zh) | 一种手术器械刃口表面的处理方法 | |
| CN110255492A (zh) | 一种硅基底超疏水超亲水区域分布表面及其制备方法和应用 | |
| CN104233217A (zh) | 一种制备金刚石涂层刀具的新方法 | |
| JP2023022633A (ja) | カット刃の製造方法、及びカット刃 | |
| CN107675140B (zh) | 基于微区阻隔法的金刚石刀具织构涂层的制备方法 | |
| KR101766371B1 (ko) | 손톱 미용기 | |
| JP2011129618A (ja) | 薄膜形成装置 | |
| KR20080099907A (ko) | 다이아몬드상 탄소막을 형성하는 방법 | |
| JP2013052481A (ja) | ダイヤモンド工具の製造方法 | |
| CN119836488A (zh) | 用于制备涂覆有中间层和金刚石层的基材的方法 | |
| CN121620269A (zh) | 一种改善半导体内应力的方法 | |
| WO2021081027A1 (en) | Wafer carrier for semiconductor processing |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20180709 |