RU2012117735A - Способы общей обработки кварцевой оптики для уменьшения оптического повреждения - Google Patents
Способы общей обработки кварцевой оптики для уменьшения оптического повреждения Download PDFInfo
- Publication number
- RU2012117735A RU2012117735A RU2012117735/03A RU2012117735A RU2012117735A RU 2012117735 A RU2012117735 A RU 2012117735A RU 2012117735/03 A RU2012117735/03 A RU 2012117735/03A RU 2012117735 A RU2012117735 A RU 2012117735A RU 2012117735 A RU2012117735 A RU 2012117735A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- aqueous solution
- optical component
- optical
- acid
- damage
- Prior art date
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract 40
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract 29
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims abstract 28
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 12
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 10
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 8
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims abstract 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract 6
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract 6
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 claims abstract 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract 6
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 5
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 claims abstract 5
- -1 fluoride ions Chemical class 0.000 claims abstract 5
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 claims abstract 5
- 239000011707 mineral Substances 0.000 claims abstract 5
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims abstract 5
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 4
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 4
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 claims abstract 4
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims abstract 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract 3
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims abstract 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 claims 3
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 5-(5-carboxythiophen-2-yl)thiophene-2-carboxylic acid Chemical compound S1C(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)S1 DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 claims 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims 2
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 claims 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- NPYPAHLBTDXSSS-UHFFFAOYSA-N Potassium ion Chemical compound [K+] NPYPAHLBTDXSSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 claims 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 claims 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 claims 1
- 150000004673 fluoride salts Chemical class 0.000 claims 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 1
- 150000003016 phosphoric acids Chemical class 0.000 claims 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
- B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
- B29D11/00009—Production of simple or compound lenses
- B29D11/00432—Auxiliary operations, e.g. machines for filling the moulds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
- C03C23/007—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by thermal treatment
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Ophthalmology & Optometry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Weting (AREA)
Abstract
1. Способ уменьшения оптического повреждения в оптическом компоненте, содержащий:воздействие на оптический компонент водным раствором минеральных кислот, включающего, по меньшей мере одну из азотной кислоты (HNO), хлористоводородной кислоты (HCl), хлорной кислоты (HClO), серной кислоты (HSO) или фосфорной кислоты (HPO); инагревание водного раствора, включающего оптический компонент, до температуры в интервале примерно от 50°C до 120°C.2. Способ по п.1, дополнительно содержащий добавление пероксида водорода в водный раствор минеральных кислот.3. Способ по п.2, при этом водный раствор включает примерно от 25% до 50% по массе азотной кислоты и примерно от 2% до 10% по массе пероксида водорода.4. Способ по п.1, дополнительно содержащий промывание оптического компонента высокочистой водой в течение периода более чем примерно 15 минут.5. Способ предотвращения оптического повреждения оптического компонента на основе плавленого кварца, содержащий:помещение оптического компонента на основе плавленого кварца в печь; инагревание оптического компонента на основе плавленого кварца до температуры между 700°C и 1050°C в течение периода между 24 ч и 48 ч.6. Способ ослабления оптического повреждения в оптическом компоненте, содержащий:обеспечение оптического компонента, имеющего область, включающую предшественники оптического повреждения, причем предшественники повреждения включают места повреждения лазером, царапины и химические примеси;помещение оптического компонента в водный раствор, содержащий частицы одного из следующих видов: фтористоводородная кислота, фторид-ионы или бифторид-ионы, причем водный раствор имеет скорость травления;удаление
Claims (20)
1. Способ уменьшения оптического повреждения в оптическом компоненте, содержащий:
воздействие на оптический компонент водным раствором минеральных кислот, включающего, по меньшей мере одну из азотной кислоты (HNO3), хлористоводородной кислоты (HCl), хлорной кислоты (HClO4), серной кислоты (H2SO4) или фосфорной кислоты (H3PO4); и
нагревание водного раствора, включающего оптический компонент, до температуры в интервале примерно от 50°C до 120°C.
2. Способ по п.1, дополнительно содержащий добавление пероксида водорода в водный раствор минеральных кислот.
3. Способ по п.2, при этом водный раствор включает примерно от 25% до 50% по массе азотной кислоты и примерно от 2% до 10% по массе пероксида водорода.
4. Способ по п.1, дополнительно содержащий промывание оптического компонента высокочистой водой в течение периода более чем примерно 15 минут.
5. Способ предотвращения оптического повреждения оптического компонента на основе плавленого кварца, содержащий:
помещение оптического компонента на основе плавленого кварца в печь; и
нагревание оптического компонента на основе плавленого кварца до температуры между 700°C и 1050°C в течение периода между 24 ч и 48 ч.
6. Способ ослабления оптического повреждения в оптическом компоненте, содержащий:
обеспечение оптического компонента, имеющего область, включающую предшественники оптического повреждения, причем предшественники повреждения включают места повреждения лазером, царапины и химические примеси;
помещение оптического компонента в водный раствор, содержащий частицы одного из следующих видов: фтористоводородная кислота, фторид-ионы или бифторид-ионы, причем водный раствор имеет скорость травления;
удаление поверхностного слоя с упомянутой области, чтобы минимизировать связанные с травлением побочные продукты предшественников оптического повреждения; и
перемешивание водного раствора с использованием ультразвукового или мегазвукового метода.
7. Способ по п.6, при этом удаление поверхностного слоя содержит удаление от примерно 100 нм до примерно 100 мкм материала с упомянутой области.
8. Способ по п.6, при этом перемешивание осуществляют на частоте в интервале между 100 кГц и 3 МГц.
9. Способ по п.6, дополнительно содержащий помещение оптического компонента в промывочную ванну и ультразвуковое или мегазвуковое перемешивание промывочной ванны.
10. Способ по п.9, при этом промывочная ванна содержит высокочистую воду, причем высокочистая вода представляет собой одну из деионизированной воды или дистиллированной воды.
11. Способ по п.9, при этом оптический компонент промывают струей в течение, по меньшей мере 15 мин.
12. Способ по п.6, при этом водный раствор содержит фтористоводородную кислоту и высокочистую воду.
13. Способ по п.6, дополнительно содержащий установление скорости травления водного раствора ниже, чем скорость удаления побочных продуктов реакции.
14. Способ по п.6, при этом водный раствор практически не содержит катионов, способных образовывать гексафторсиликатные соли с низкой растворимостью в водном растворе.
15. Способ по п.14, при этом катионы включают один или более из натрия (Na+), калия (K+), магния (Mg2+) кальция (Ca2+), бария (Ba2+), цинка (Zn2+), свинца (Pb2+), железа (Fe2+, Fe3+) или алюминия (Al3+).
16. Способ по п.6, дополнительно содержащий добавление дифторида этилендиамина или фторидных солей первичных, вторичных или третичных аммониевых катионов в водный раствор.
17. Способ по п.6, дополнительно содержащий добавление фторида аммония в водный раствор, чтобы стабилизировать концентрацию pH водного раствора.
18. Способ по п.17, при этом водный раствор включает 1,2 моль на литр фтористоводородной кислоты и 3 моль на литр фторида аммония.
19. Способ обработки оптического компонента, содержащий:
воздействие на оптический компонент первым водным раствором минеральных кислот, причем первый водный раствор включает по меньшей мере одну из азотной кислоты (HNO3), хлористоводородной кислоты (HCl), хлорной кислоты (HClO4), серной кислоты (H2SO4) или фосфорной кислоты (H3PO4);
нагревание первого водного раствора, включающего оптический компонент, до температуры в интервале примерно от 50°C до 120°C;
помещение оптического компонента во второй водный раствор, включающий частицы одного из следующих видов: фтористоводородная кислота, фторид-ионы или бифторид-ионы, причем этот водный раствор имеет скорость травления;
удаление поверхностного слоя с области, включающей предшественники оптического повреждения, используя второй водный раствор, чтобы минимизировать связанные с травлением побочные продукты предшественников оптического повреждения; и
перемешивание второго водного раствора с использованием ультразвукового или мегазвукового метода.
20. Способ по п.19, дополнительно содержащий:
помещение оптического компонента в печь; и
нагревание оптического компонента до температуры между 700°C и 1050°C в течение периода между 24 ч и 48 ч.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US12/572,220 | 2009-10-01 | ||
| US12/572,220 US8313662B2 (en) | 2009-10-01 | 2009-10-01 | Methods for globally treating silica optics to reduce optical damage |
| PCT/US2010/049856 WO2011041188A2 (en) | 2009-10-01 | 2010-09-22 | Methods for globally treating silica optics to reduce optical damage |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2012117735A true RU2012117735A (ru) | 2013-11-10 |
| RU2543844C2 RU2543844C2 (ru) | 2015-03-10 |
Family
ID=43382311
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2012117735/03A RU2543844C2 (ru) | 2009-10-01 | 2010-09-22 | Способ общей обработки кварцевой оптики для уменьшения оптического повреждения |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8313662B2 (ru) |
| EP (1) | EP2483213B1 (ru) |
| JP (2) | JP2013506616A (ru) |
| KR (1) | KR101431928B1 (ru) |
| CA (1) | CA2773334A1 (ru) |
| RU (1) | RU2543844C2 (ru) |
| WO (1) | WO2011041188A2 (ru) |
Families Citing this family (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20120276714A1 (en) * | 2011-04-28 | 2012-11-01 | Nanya Technology Corporation | Method of oxidizing polysilazane |
| CN104321289B (zh) * | 2011-11-10 | 2017-04-19 | 康宁股份有限公司 | 玻璃的酸强化 |
| DE102011086563B4 (de) * | 2011-11-17 | 2019-03-21 | Interpane Entwicklungs-Und Beratungsgesellschaft Mbh | Verfahren zur Ausbildung einer Diffusionssperrschicht an einer Glasoberfläche und entsprechend behandeltes Glassubstrat |
| US20140138359A1 (en) * | 2012-11-20 | 2014-05-22 | Lawrence Livermore National Security, Llc | Method and system for damage reduction in optics using short pulse pre-exposure |
| FR3006684B1 (fr) | 2013-06-07 | 2016-10-21 | Commissariat Energie Atomique | Procede de traitement d'une surface et dispositif mis en œuvre |
| LT2013108A (lt) * | 2013-10-07 | 2015-04-27 | Uab "Optida" | Būdas padidinti lazeriu indukuotos pažaidos slenkstį ėsdinant optinius padėklus |
| CN105481259B (zh) * | 2015-12-08 | 2019-04-12 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 提升熔石英光学元件损伤阈值的后处理方法 |
| US10865477B2 (en) * | 2016-02-08 | 2020-12-15 | Illinois Tool Works Inc. | Method and system for the localized deposit of metal on a surface |
| CN105669040B (zh) * | 2016-04-11 | 2017-12-29 | 西南科技大学 | 光学损伤元件损伤增长的抑制装置和抑制方法 |
| CN105948519B (zh) * | 2016-05-11 | 2019-02-22 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 一种熔石英激光损伤的无热残余应力修复方法 |
| FR3056578B1 (fr) | 2016-09-23 | 2018-12-07 | Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives | Procede pour ameliorer la tenue au flux laser d'un composant optique. |
| CN107021650B (zh) * | 2017-05-19 | 2019-10-08 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 提高熔石英光学元件抗紫外激光损伤的方法 |
| US11740454B2 (en) | 2018-03-26 | 2023-08-29 | Lawrence Livermore National Security, Llc | Etching of water-sensitive optics with water-in-oil emulsions |
| CN110548466A (zh) * | 2019-08-29 | 2019-12-10 | 南京理工大学 | 一种沉积层原子级缺陷的飞秒激光修复方法 |
| CN113248121A (zh) * | 2021-06-18 | 2021-08-13 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 提升熔石英元件损伤阈值的后处理方法 |
| CN116462419B (zh) * | 2023-05-08 | 2025-05-13 | 西南科技大学 | 一种提升熔石英元件激光损伤阈值的表面处理工艺 |
| CN116854379A (zh) * | 2023-06-05 | 2023-10-10 | 广东绿展科技有限公司 | 一种玻璃基指纹芯片的减薄方法 |
Family Cites Families (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3650960A (en) * | 1969-05-06 | 1972-03-21 | Allied Chem | Etching solutions |
| JPS55130839A (en) * | 1979-03-29 | 1980-10-11 | Asahi Glass Co Ltd | Uniform etching method of article |
| JPS63107842A (ja) * | 1986-10-24 | 1988-05-12 | Kunio Yoshida | 光学用ガラス基材の製造方法 |
| SU1451115A1 (ru) * | 1987-07-13 | 1989-01-15 | Предприятие П/Я В-2038 | Способ обработки оптических деталей |
| EP0401845B2 (en) * | 1989-06-09 | 2001-04-11 | Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG | Optical members and blanks of synthetic silica glass and method for their production |
| US5325230A (en) * | 1989-06-09 | 1994-06-28 | Shin-Etsu Quartz Products Co., Ltd. | Optical members and blanks of synthetic silica glass and method for their production |
| US5410428A (en) * | 1990-10-30 | 1995-04-25 | Shin-Etsu Quartz Products Co. Ltd. | Optical member made of high-purity and transparent synthetic silica glass and method for production thereof or blank thereof |
| US5616159A (en) * | 1995-04-14 | 1997-04-01 | Corning Incorporated | Method of forming high purity fused silica having high resistance to optical damage |
| EP0914301A4 (en) * | 1996-07-26 | 2000-03-22 | Corning Inc | FUSED SILICA HAVING INCREASED RESISTANCE TO OPTICAL DAMAGE |
| JP3517585B2 (ja) * | 1998-04-23 | 2004-04-12 | 株式会社アドバンスト・ディスプレイ | 液晶表示パネルの製造方法およびこれに用いられる洗浄装置 |
| JP3616610B2 (ja) * | 1998-08-19 | 2005-02-02 | Ｈｏｙａ株式会社 | 磁気記録媒体用ガラス基板、磁気記録媒体及びそれらの製造方法 |
| US6099389A (en) * | 1998-10-05 | 2000-08-08 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Fabrication of an optical component |
| JP3567971B2 (ja) * | 1998-11-10 | 2004-09-22 | 日立プラント建設株式会社 | ガラス基板の洗浄液及び洗浄方法 |
| JP2001342041A (ja) * | 2000-05-31 | 2001-12-11 | Asahi Glass Co Ltd | 光学部材及びその洗浄方法 |
| US6705125B2 (en) * | 2000-10-23 | 2004-03-16 | The Regents Of The University Of California | Reduction of damage initiation density in fused silica optics via UV laser conditioning |
| US6620333B2 (en) * | 2000-10-23 | 2003-09-16 | The Regents Of The University Of California | CO2 laser and plasma microjet process for improving laser optics |
| US6518539B2 (en) * | 2000-10-23 | 2003-02-11 | The Regents Of The University Of California | Method for producing damage resistant optics |
| JP2002286902A (ja) * | 2001-03-26 | 2002-10-03 | Laser Gijutsu Sogo Kenkyusho | レーザー装置における光学素子及びその表面処理方法 |
| WO2002098811A1 (en) * | 2001-06-04 | 2002-12-12 | The Regents Of The University Of California | Combined finishing and uv laser conditioning process for producing damage resistant optics |
| US6754429B2 (en) * | 2001-07-06 | 2004-06-22 | Corning Incorporated | Method of making optical fiber devices and devices thereof |
| JP2002288823A (ja) * | 2002-03-14 | 2002-10-04 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 情報記録媒体用基板の製造方法 |
| JP2007109744A (ja) * | 2005-10-11 | 2007-04-26 | Tokuyama Corp | 基板洗浄液 |
| JP4946960B2 (ja) * | 2008-04-10 | 2012-06-06 | 旭硝子株式会社 | 合成石英ガラスおよびその製造方法 |
-
2009
- 2009-10-01 US US12/572,220 patent/US8313662B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2010
- 2010-09-22 WO PCT/US2010/049856 patent/WO2011041188A2/en not_active Ceased
- 2010-09-22 KR KR1020127011157A patent/KR101431928B1/ko active Active
- 2010-09-22 JP JP2012532194A patent/JP2013506616A/ja active Pending
- 2010-09-22 CA CA2773334A patent/CA2773334A1/en not_active Abandoned
- 2010-09-22 RU RU2012117735/03A patent/RU2543844C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2010-09-22 EP EP10761094.1A patent/EP2483213B1/en active Active
-
2014
- 2014-07-31 JP JP2014156619A patent/JP5982435B2/ja active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US8313662B2 (en) | 2012-11-20 |
| US20110079931A1 (en) | 2011-04-07 |
| WO2011041188A2 (en) | 2011-04-07 |
| JP2013506616A (ja) | 2013-02-28 |
| JP2015027938A (ja) | 2015-02-12 |
| CA2773334A1 (en) | 2011-04-07 |
| EP2483213A2 (en) | 2012-08-08 |
| EP2483213B1 (en) | 2016-03-02 |
| KR20120100961A (ko) | 2012-09-12 |
| WO2011041188A3 (en) | 2011-07-14 |
| JP5982435B2 (ja) | 2016-08-31 |
| KR101431928B1 (ko) | 2014-08-19 |
| RU2543844C2 (ru) | 2015-03-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2012117735A (ru) | Способы общей обработки кварцевой оптики для уменьшения оптического повреждения | |
| JP4069961B2 (ja) | 電子ディスプレイおよび基材の洗浄およびエッチング用組成物 | |
| KR100815856B1 (ko) | 평판디스플레이를 구성하는 유리의 식각액 조성물 | |
| CN1608037A (zh) | 含有多成分的玻璃基板用的微细加工表面处理液 | |
| KR101407988B1 (ko) | 에칭액 및 실리콘 기판의 표면가공 방법 | |
| WO2015013360A1 (en) | Methods of treating glass surfaces | |
| KR20120089570A (ko) | 세정액 및 세정 방법 | |
| KR20110027704A (ko) | 무알칼리 유리 기판의 에칭 방법 및 표시 장치 | |
| CN103663988B (zh) | 光纤预制棒表面处理的混酸及处理方法 | |
| JP2020513481A5 (ru) | ||
| TWI443074B (zh) | 電子機器用保護玻璃的玻璃基板之製造方法及其製造裝置，暨氟鋁酸鹼金屬鹽之除去方法及其裝置 | |
| KR20160122031A (ko) | 불소 함유 폐슬러리로부터 불화나트륨의 제조 방법 | |
| KR20080098772A (ko) | Ｐｄｐ, ｌｃｄ, ｏｌｅｄ 등의 실리콘 기판용 세정 및식각 조성물 | |
| CN113003942A (zh) | 一种环保型玻璃蚀刻液及其制备方法和应用 | |
| RU2013128610A (ru) | Раствор электролита и электрохимические способы модификации поверхности | |
| KR101713598B1 (ko) | 실리콘계 스케일 제거용 세정액 조성물 | |
| JP5195394B2 (ja) | エッチング液の再生方法 | |
| KR100415261B1 (ko) | 전자표시장치및기판용세정및식각조성물 | |
| KR101180517B1 (ko) | 폐액을 이용한 유리 표면의 식각방법 및 식각용 조성물 | |
| CN107793038A (zh) | 一种玻璃基板薄化工艺预处理液 | |
| KR20090020815A (ko) | 실리콘/실리콘산화물의 세정 및 식각 조성물 | |
| JP2002069493A (ja) | ガラスの洗浄方法 | |
| TW201311576A (zh) | 氫氟酸廢液回收再使用的處理方法（三） | |
| KR20090043899A (ko) | 불순물 제거용 세정액 및 이를 이용한 불순물 제거방법 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20190923 |