RU2012136472A - Способ очистки для установок нанесения покрытий - Google Patents

Способ очистки для установок нанесения покрытий Download PDF

Info

Publication number
RU2012136472A
RU2012136472A RU2012136472/02A RU2012136472A RU2012136472A RU 2012136472 A RU2012136472 A RU 2012136472A RU 2012136472/02 A RU2012136472/02 A RU 2012136472/02A RU 2012136472 A RU2012136472 A RU 2012136472A RU 2012136472 A RU2012136472 A RU 2012136472A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
coating
layer
release layer
auxiliary surfaces
release
Prior art date
Application number
RU2012136472/02A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2554838C2 (ru
Inventor
Петер НЕФФ
Original Assignee
Эрликон Трейдинг Аг
Трюббах
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Эрликон Трейдинг Аг, Трюббах filed Critical Эрликон Трейдинг Аг
Publication of RU2012136472A publication Critical patent/RU2012136472A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2554838C2 publication Critical patent/RU2554838C2/ru

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24CABRASIVE OR RELATED BLASTING WITH PARTICULATE MATERIAL
    • B24C1/00Methods for use of abrasive blasting for producing particular effects; Use of auxiliary equipment in connection with such methods
    • B24C1/003Methods for use of abrasive blasting for producing particular effects; Use of auxiliary equipment in connection with such methods using material which dissolves or changes phase after the treatment, e.g. ice, CO2
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/564Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24CABRASIVE OR RELATED BLASTING WITH PARTICULATE MATERIAL
    • B24C1/00Methods for use of abrasive blasting for producing particular effects; Use of auxiliary equipment in connection with such methods
    • B24C1/04Methods for use of abrasive blasting for producing particular effects; Use of auxiliary equipment in connection with such methods for treating only selected parts of a surface, e.g. for carving stone or glass
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/4401Means for minimising impurities, e.g. dust, moisture or residual gas, in the reaction chamber
    • C23C16/4407Cleaning of reactor or reactor parts by using wet or mechanical methods

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

1. Способ очистки вспомогательных поверхностей установок нанесения покрытий, содержащий следующие этапы:- нанесение антиадгезионного слоя на вспомогательные поверхности камеры для нанесения покрытия, предшествующее нанесению покрытия,- обработка вспомогательных поверхностей с помощью струйной обработки сухим льдом и/или способа очистки струями снега CO, следующая за нанесением покрытия.2. Способ по п.1, отличающийся тем, что антиадгезионный слой содержит суспензию порошка в летучем растворителе.3. Способ по п.1, отличающийся тем, что антиадгезионный слой включает в себя металлический слой, который существенно толще, чем слой, наносимый в процессе нанесения покрытия.4. Способ по п.1, отличающийся тем, что антиадгезионный слой представляет собой слой, антиадгезионное воздействие которого основано на эффекте лотоса.

Claims (4)

1. Способ очистки вспомогательных поверхностей установок нанесения покрытий, содержащий следующие этапы:
- нанесение антиадгезионного слоя на вспомогательные поверхности камеры для нанесения покрытия, предшествующее нанесению покрытия,
- обработка вспомогательных поверхностей с помощью струйной обработки сухим льдом и/или способа очистки струями снега CO2, следующая за нанесением покрытия.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что антиадгезионный слой содержит суспензию порошка в летучем растворителе.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что антиадгезионный слой включает в себя металлический слой, который существенно толще, чем слой, наносимый в процессе нанесения покрытия.
4. Способ по п.1, отличающийся тем, что антиадгезионный слой представляет собой слой, антиадгезионное воздействие которого основано на эффекте лотоса.
RU2012136472/02A 2010-01-25 2010-12-22 Способ очистки для установок нанесения покрытий RU2554838C2 (ru)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102010005762A DE102010005762A1 (de) 2010-01-25 2010-01-25 Reinigungsverfahren für Beschichtungsanlagen
DE102010005762.2 2010-01-25
PCT/EP2010/007971 WO2011088884A1 (de) 2010-01-25 2010-12-22 Reinigungsverfahren für beschichtungsanlagen

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2012136472A true RU2012136472A (ru) 2014-03-10
RU2554838C2 RU2554838C2 (ru) 2015-06-27

Family

ID=43706705

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2012136472/02A RU2554838C2 (ru) 2010-01-25 2010-12-22 Способ очистки для установок нанесения покрытий

Country Status (12)

Country Link
US (1) US20120298139A1 (ru)
EP (1) EP2529040A1 (ru)
JP (1) JP2013518177A (ru)
KR (1) KR20120120944A (ru)
CN (1) CN102812154B (ru)
BR (1) BR112012018524A2 (ru)
CA (1) CA2788448A1 (ru)
DE (1) DE102010005762A1 (ru)
MX (1) MX2012008661A (ru)
RU (1) RU2554838C2 (ru)
SG (2) SG10201500561SA (ru)
WO (1) WO2011088884A1 (ru)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102012003514A1 (de) * 2012-02-24 2013-08-29 Acp-Advanced Clean Production Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von Oberflächen mittels Kohlendioxid-Schnee unter Zufuhr synergetischer Medien
WO2017031571A1 (en) * 2015-08-22 2017-03-02 Novena Tec Inc. Process chamber shielding system and method
FI3879604T3 (fi) * 2018-11-09 2024-12-05 Grinergy Co Ltd Negatiivisen litiummetallielektrodin pintakäsittelymenetelmä
FR3088564B1 (fr) * 2018-11-16 2020-12-25 Safran Aircraft Engines Procede de compactage d'une peinture anti-corrosion d'une piece de turbomachine
CN109663790B (zh) * 2018-12-12 2021-02-19 盐城市国泰混凝土有限公司 一种混凝土搅拌车回厂余料的清洗方法
DE102019110642A1 (de) 2019-04-25 2020-10-29 Vtd Vakuumtechnik Dresden Gmbh Anode für PVD-Prozesse
DE102021105761A1 (de) * 2021-03-10 2022-09-15 Bayerische Motoren Werke Aktiengesellschaft Verfahren zum Trennen oder Wiedergewinnen von Materialien von Elektroden, Verfahren zur Herstellung einer Elektrode sowie Elektrode

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06170735A (ja) * 1992-12-03 1994-06-21 Shin Etsu Chem Co Ltd 多結晶ダイヤモンド砥石の製造方法
JPH1136061A (ja) * 1997-07-17 1999-02-09 Mitsubishi Materials Corp 物理蒸着装置のマスキング治具
JP2000044843A (ja) * 1998-08-04 2000-02-15 Mitsubishi Heavy Ind Ltd コーティング材料及びその製造方法
JP3030287B1 (ja) * 1998-10-09 2000-04-10 株式会社協同インターナショナル 成膜装置のクリーニング方法、スパッタリングターゲットのクリーニング方法及びこれらに使用するクリーニング装置
US6890853B2 (en) * 2000-04-25 2005-05-10 Tokyo Electron Limited Method of depositing metal film and metal deposition cluster tool including supercritical drying/cleaning module
JP3984833B2 (ja) * 2001-01-16 2007-10-03 キヤノン株式会社 現像剤担持体の再生方法
JP4200662B2 (ja) * 2001-02-19 2008-12-24 富士ゼロックス株式会社 画像表示媒体の製造方法
DE10111235A1 (de) 2001-03-08 2002-09-19 Linde Ag Verfahren zur Strahlbehandlung mit Strahlmitteln
ITMI20010134U1 (it) 2001-03-12 2002-09-12 Valentini Guido Platorello operativo di forma sostanzialmente circolare per utensile portatile
JP2002339059A (ja) * 2001-05-16 2002-11-27 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 真空蒸着装置
US20030037879A1 (en) * 2001-08-24 2003-02-27 Applied Materials, Inc. Top gas feed lid for semiconductor processing chamber
JP3876167B2 (ja) * 2002-02-13 2007-01-31 川崎マイクロエレクトロニクス株式会社 洗浄方法および半導体装置の製造方法
US7002790B2 (en) * 2002-09-30 2006-02-21 Medtronic, Inc. Capacitor in an implantable medical device
US6902628B2 (en) * 2002-11-25 2005-06-07 Applied Materials, Inc. Method of cleaning a coated process chamber component
JP4653406B2 (ja) * 2004-03-10 2011-03-16 株式会社アルバック 水崩壊性Al複合材料、水崩壊性Al溶射膜、及び水崩壊性Al粉の製造方法、並びに成膜室用構成部材及び成膜材料の回収方法
US7384486B2 (en) * 2004-03-26 2008-06-10 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Chamber cleaning method
EP1598444B1 (de) * 2004-05-06 2006-11-15 Siemens Aktiengesellschaft Verfahren zum Einstellen der elektrischen Leitfähigkeit einer durch Druck in ihrer elektrischen Leitfähigkeit veränderbaren Beschichtung eines Maschinenbauteils durch Trockeneisstrahlen
DE102006002653B4 (de) 2005-01-27 2009-10-08 Luderer Schweißtechnik GmbH Trockeneisstrahlverfahren
EP1772529A1 (de) * 2005-10-07 2007-04-11 Siemens Aktiengesellschaft Trockene Zusammensetzung, Verwendung derer, Schichtsystem und Verfahren zur Beschichtung
WO2008040819A1 (de) 2006-10-06 2008-04-10 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zur dekontamination mit trockeneis
DE102007033788A1 (de) * 2007-07-09 2009-01-15 Gerd Wurster Vorbehandlungsanlage und Verfahren zur Vorbehandlung von Werkstücken
JP5736317B2 (ja) * 2008-11-20 2015-06-17 エリコン・サーフェス・ソリューションズ・アクチェンゲゼルシャフト,トリュープバッハ コーティング設備のための洗浄方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2013518177A (ja) 2013-05-20
SG182730A1 (en) 2012-08-30
MX2012008661A (es) 2012-10-15
KR20120120944A (ko) 2012-11-02
EP2529040A1 (de) 2012-12-05
WO2011088884A1 (de) 2011-07-28
CN102812154B (zh) 2015-07-15
BR112012018524A2 (pt) 2016-08-23
CA2788448A1 (en) 2011-07-28
US20120298139A1 (en) 2012-11-29
CN102812154A (zh) 2012-12-05
SG10201500561SA (en) 2015-05-28
RU2554838C2 (ru) 2015-06-27
DE102010005762A1 (de) 2011-07-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2012136472A (ru) Способ очистки для установок нанесения покрытий
WO2011146278A3 (en) Textured coating on a component surface
EP2612948A3 (en) Process for coating a turbine rotor and articles thereof
WO2014166492A8 (en) Curing agent for tie-coat composition comprising an amino-silane adduct
WO2009059165A3 (en) Endoprosthesis coating
EP4079935A3 (en) Two-coat single cure powder coating
EP2871002A8 (en) Integrated fluidjet system for stripping, prepping and coating a part
PL2616191T3 (pl) Sposób powlekania powierzchni i zastosowanie wyrobów powlekanych tym sposobem
PL2360213T3 (pl) Przeciwporostowa kompozycja powłokowa, przeciwporostowa błona powłokowa wytworzona z kompozycji, powlekany obiekt zawierający błonę powłokową na powierzchni oraz sposób obróbki przeciwporostowej przez wytworzenie błony powłokowej
EP2287136A3 (en) Methods of Improving Surface Roughness of an Environmental Barrier Coating and Components Comprising Environmental Barrier Coatings Having Improved Surface Roughness
WO2011060045A3 (en) Sol-gel coating for steel and cast iron substrates and methods of making and using same
WO2010086151A8 (de) Zinkdiffusionsbeschichtungsverfahren
MX2020002300A (es) Recubrimientos con alto contenido de sólidos para paneles de construcción.
EP2540976A3 (en) Grit blast free thermal barrier coating rework
AR091708A1 (es) Procedimiento para el revestimiento de sustratos mediante pulverizacion de material objetivo
WO2010031545A3 (en) A wind turbine component
RU2011124886A (ru) Способ очистки для установок для нанесения покрытий
WO2015116123A3 (en) Surface treatments of metal substrates
MX2018007599A (es) Metodos y composiciones para el retiro de recubrimientos de uñas.
WO2010113136A3 (en) A method for applying a coating on a surface to be decorated, in particular a wall, a ceiling or a floor
WO2012148559A3 (en) Wet sanding composition
WO2016003522A3 (en) Coating and surface repair method
MX2020002299A (es) Recubrimientos con alto contenido de sólidos para paneles de construcción.
ATE495217T1 (de) Verfahren zur verringerung der belagbildung von wässrigen beschichtungszusammensetzungen
RU2009126845A (ru) Способ напыления покрытий

Legal Events

Date Code Title Description
HZ9A Changing address for correspondence with an applicant
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20171223