SE431196B - Sett att genom hydrolys av kiseltetrafluorid i en laga framstella finfordelad kiseloxid - Google Patents
Sett att genom hydrolys av kiseltetrafluorid i en laga framstella finfordelad kiseloxidInfo
- Publication number
- SE431196B SE431196B SE8008768A SE8008768A SE431196B SE 431196 B SE431196 B SE 431196B SE 8008768 A SE8008768 A SE 8008768A SE 8008768 A SE8008768 A SE 8008768A SE 431196 B SE431196 B SE 431196B
- Authority
- SE
- Sweden
- Prior art keywords
- silica
- combustion
- hydrolysis
- flames
- cooling
- Prior art date
Links
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 title claims description 7
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 title claims description 7
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 title 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 94
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 46
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 29
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 20
- ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N silicon tetrafluoride Chemical compound F[Si](F)(F)F ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 claims description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 14
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000002737 fuel gas Substances 0.000 claims description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000012263 liquid product Substances 0.000 claims description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 2
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 claims 2
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 14
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 6
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 6
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 5
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 5
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 3
- 101100298295 Drosophila melanogaster flfl gene Proteins 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 2
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 2
- KPZGRMZPZLOPBS-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-2,2-bis(chloromethyl)propane Chemical compound ClCC(CCl)(CCl)CCl KPZGRMZPZLOPBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZUYLZMQTIKGSC-UHFFFAOYSA-N 1-[6-[4-(5-chloro-6-methyl-1H-indazol-4-yl)-5-methyl-3-(1-methylindazol-5-yl)pyrazol-1-yl]-2-azaspiro[3.3]heptan-2-yl]prop-2-en-1-one Chemical compound ClC=1C(=C2C=NNC2=CC=1C)C=1C(=NN(C=1C)C1CC2(CN(C2)C(C=C)=O)C1)C=1C=C2C=NN(C2=CC=1)C AZUYLZMQTIKGSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000052616 bacterial pathogen Species 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 239000000567 combustion gas Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000006735 deficit Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- JTJMJGYZQZDUJJ-UHFFFAOYSA-N phencyclidine Chemical class C1CCCCN1C1(C=2C=CC=CC=2)CCCCC1 JTJMJGYZQZDUJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000012763 reinforcing filler Substances 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B7/00—Halogens; Halogen acids
- C01B7/19—Fluorine; Hydrogen fluoride
- C01B7/191—Hydrogen fluoride
- C01B7/193—Preparation from silicon tetrafluoride, fluosilicic acid or fluosilicates
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J12/00—Chemical processes in general for reacting gaseous media with gaseous media; Apparatus specially adapted therefor
- B01J12/005—Chemical processes in general for reacting gaseous media with gaseous media; Apparatus specially adapted therefor carried out at high temperatures, e.g. by pyrolysis
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/18—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof
- C01B33/181—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by a dry process
- C01B33/183—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by a dry process by oxidation or hydrolysis in the vapour phase of silicon compounds such as halides, trichlorosilane, monosilane
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/18—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof
- C01B33/181—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by a dry process
- C01B33/183—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by a dry process by oxidation or hydrolysis in the vapour phase of silicon compounds such as halides, trichlorosilane, monosilane
- C01B33/184—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by a dry process by oxidation or hydrolysis in the vapour phase of silicon compounds such as halides, trichlorosilane, monosilane by hydrolysis of tetrafluoride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/12—Surface area
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/22—Rheological behaviour as dispersion, e.g. viscosity, sedimentation stability
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Description
fißilïö7ï6ß- 7 som kiseltetrafluorid har man lyckats ställa in partikel- storleken och specifika ytan vid önskade värden inom inter- vallet 50 m2/g till 400 m2/g. I svenska patentet nr. 200 958 anges sambandet mellan lågintensiteten och partikelstorleken och i US patentet nr. 3 660 025 anges sambandet mellan spe- cifika ytan och kiseltetrafluoridkoncentrationen vid för- bränning med syrgasunderskott.
För att åstadkomma stabila lågor med hög intensitet rekom- menderas att lågorna omges med värmereflekterande ytor, s.k. tändvalv, se t.ex. svenska patentet nr. 200 958 och US pa- tentet nr. 4 036 938.
Vid jämförelse av kiseldioxidkvaliteter, som nära överens- stämmer beträffande kemisk sammansättning, kristallstruktur, partikelstorlek och specifik yta, har det visat sig att den kiseldioxid som hittills framställts ur kiseltetrafluorid i vissa avseenden varit underlägsen medan den i andra avse- enden haft fördelar framför kiseldioxid, som framställts ur kiseltetraklorid. Skillnaden i kvalitet har varit speciellt påtaglig vid användning av kiseldioxiden som förtjocknings- :medel för vätskeformiga produkter, t.ex. polyesterkomposi- tioner, färger och lacker. Kiseldioxid, som framställts ur kiseltetrafluord, har hittills haft lägre förtjockningsför- måga, dvs. för att uppnå önskad viskositet och tixotropi har man behövt öka mängden inblandad kiseldioxid.
Vid användning som förstärkande fyllmedel i silikongummi har likaså högre halt av kiseldioxid erfordrats, om denna fram- ställts ur kiseltetrafluorid, för att önskad hårdhet och elasticitetsmodul skall erhållas.
Ur såväl teknisk som ekonomisk synpunkt är det en nackdel att behöva använda högre halt av kiseldioxid. För inblandning av den större mängden kiseldioxid erfordras större blandare ef- tersom kiseldioxiden i torrt tillstånd är mycket voluminös.
Vidare erfordras längre blandningstid med åtföljande högre 901187 6:8- 7 energiförbrukning. Risken för ej önskvärda bieffekter, t. ex. absorption av vatten och accelerator, ökar dessutom.
Eftersom extremt finfördelad kiseldioxid är en relativt sett dyr produkt, är den ekonomiska belastningen av högre halt kiseldioxid uppenbar.
Anledningen till att kiseldioxid, som framställts ur kisel- tetrafluorid, är mindre effektiv än motsvarande produkt, som framställts ur kiseltetraklorid, är ej klarlagd. Det förefaller emellertid troligt att den förstnämnda produkten har lägre aggregeringsgrad, dvs. att primärpartiklarna i ; lägre grad än för kiseldioxid, som framställts ur kiseltet- raklorid, är sammansmälta till vitt förgrenade, kedjeforma- de aggregat.
Det har nu överraskande visat sig att kiseldioxid, som ger mycket god förtjockningsförmåga och hög tixotropi, kan fram- ställas ur kiseltetrafluorid om förbränningen och hydroly- sen genomföres i en eller flera lågor, vilkas bas åtminstone delvis omges av kylytor.
Det har visat sig vara kritiskt att kyla lågans bas, dvs. den del av lågan som är närmast brännarmunstycket, medan det däremot är mindre väsentligt om lågans spets kyles eller ej.
Effektivare kylning och därmed större förtjockningsförmåga hos kiseldioxiden erhålles om förbränningen istället för att genomföras i en större låga uppdelas på ett flertal mindre lågor.
Någon säker förklaring till det ovan angivna förhållandet kan ej lämnas, men det förefaller troligt att om lågbasen kyles utvecklas relativt få groddar till kiseldioxidpartik- lar i denna del av lågan. De relativt få groddarna växer successivt under passagen genom lågan. Vid kollision mel- lan partiklarna fastnar dessa i varandra och växer samman genom fortsatt utfällning av kiseldioxid. Resultatet blir att relativt stora kedjeformade aggregat bildas. åßfüïïfâß- 7 4 Om lågbasen ej kyles utvecklas däremot snabbt ett stort antal groddar till kiseldioxidpartiklar. På grund av det stora antalet groddar utarmas lågan snabbt på kiseltetra- fluorid och möjligheterna till bildning av stora aggregat minskar. Resultatet blir kiseldioxid med låg partikelstor- lek (hög specifik yta) och låg aggregeringsgrad.
Kylytorna kan anordnas antingen så att varje enskilt brännar- munstycke omges av kylytor, t.ex. enligt figur 1 eller så att en grupp av brännarmunstycken omges av en gemensam kylyta, t.ex. enligt figur 2. Temperaturen hos kylytorna bör hållas över daggpunkten för de avgaser som bi finns annars att kondensat kan utfällas, ldas vid lågan. Risken vilket kan förorsa- ka korrosion pâ kylytorna och försämring av kiseldioxidens egenskaper. Vid stigande temperatur minskas kylytornas kylan- de effekt och därmed förmåga att förbättra kiseldioxidens för- tjockningsförmâga. På grund härav bör kylytornas temperatur hållas under 5oo°c .
Temperaturen hos de kylande ytorna kan hållas nere med hjälp av konventionella metoder, t.ex. med hjälp av kylluft, kyl- vätska eller kokande vätska. En speciellt förmånlig kylmetod' är att låta vatten, eventuellt under tryck, koka inne i kyl- elementen, varvid vattenångan och därmed det bortförda värmet kan tillvaratas. Ett annat lämpligt sätt att hålla temperatu- ren hos kylytorna nere är att kyla dessa med kylda avgaser från förbränningsprocessen, vilka befriats från sin halt av kiseldioxid. Dessa avgaser kan sedan användas för att spola brännkammarens väggar och därigenom hindra avsättning av ki- seldioxid.
Förbränningen och hydrolysen av kiseltetrafluoriden kan genom- föras enligt kända metoder och med utnyttjande av brännare av känd konstruktion, t.ex. i enlighet med svenska patentet 200 958. Partikelstorleken och specifika ytan hos kis dioxiden kan regleras enligt kända metoder, 200 958 eller US-patentet nr. 3 660 025. nr. el- t.ex. enligt svenska patentet nr.
Som bränngas kan alla brännbara vätehaltiga gaser inklusive ren vätgas användas, t.ex. kolväten, alkoholer eller bland- ningar därav. Under förutsättning att vattenånga införes i 8@0”0'8'768.- 7 lågan kan även vätefria bränngaser, t.ex. kolmonoxid, använ- das. Speciellt goda förtjockningsegenskaper hos kiseldi- oxiden erhålles vid användning av ren vätgas eller gas- blandningar, som innehåller över 60 vol% vätgas.
De från lågan kommande reaktionsprodukterna bör lämpligen kylas till ca 600°C, varefter kiseldioxiden separeras från de gasformiga komponenterna. Dessa delar av processen kan lämpligen utföras enligt svenska patentet nr. 227 783.
Fluorhalten i avgaserna kan tillvaratas enligt kända metoder, t.ex. enligt svenska patentet nr. 396 060.
Med hänvisning till figur 3 lämnas nedan en beskrivning hur uppfinningen lämpligen kan utföras.
I en brännare 1, som är utrustad med ett flertal munstycken 2, inledes en blandning av bränngas, kiseltetrafluorid och primärluft genom rörledning 3. Varje brännarmunstyoke omges av ett koncentriskt placerat, cylinderformat kylelement 4, vilket kyles med kokande vatten, som tillföres genom rörled- ning 5, och vilket är anslutet till rörledning 6, genom vil- ken den bildade vattenångan bortföres. I mellanrummet mellan brännarmunstyckena 2 och kylelementen 4 inledes sekundärluft, vilken tillföres genom rörledningen 7. De av kylelementen om- slutna brännarna mynnar i en brännkammare 8, som är utformad som en cylinder med kylmantel.
De från brännarna kommande reaktionsprodukterna utgöres av avgaser från förbränningen och hydrolysen av kiseltetrafluo- rid samt extremt finfördelad kiseldioxid, som är suspende- rad i avgaserna. Avgaserna och den medföljande kiseldioxiden kyles i en tubkylare 9, i vilken reaktionsprodukternas tem- peratur nedbringas till ca 600°C.
Den finfördelade kiseldioxiden separeras därefter i cyklon-A _8-O'Û*87 68- 7 avskiljare (ej utritade), varefter avgasernas halt av flu- orväte tillvaratas genom absorption i vatten.
Såsom nämnts ovan utmärkes den enligt uppfinningen erhåll- na kiseldioxidprodukten av stor förtjockningsförmâga, dvs. hög aggregeringsgrad.
Någon enkel och tillförlitlig metod att mäta aggregerings- graden hos kiseldioxiden finns ej. En metod är att i elektron- mikroskop mäta längden och bredden av ett stort antal en- skilda aggregat och att ta längden hos dessa eller eventu- ellt längden dividerad med bredden som ett mått på aggre- geringsgraden. Metoden är dock mycket tidskrävande och lider dessutom av den väsentliga nackdelen att den ej säger någon- ting om aggregatens styrka.
Ur praktisk synpunkt är det både enklare och mera upplysande att bestämma kiseldioxidens förmåga att förtjocka någon lämp- ligt vald vätska. Eftersom opolymeriserad polyester ur kom- mersiell synpunkt är viktigast har denna vätska valts för be- stämningen. För att eliminera inflytandet av variationer i polyesterns polymeriseringsgrad och polaritet utföres bestäm- ningen enligt nedanstående metod. l viktdel kiseldioxid blandas med 100 viktdelar polyester, varefter kiseldioxiden dispergeras omsorgsfullt med hjälp av en kolloidkvarn. Viskositeten hos den erhållna blandningen bestämmes med hjälp av en Brookfield viskosimeter LVT vid l2 r/min och 25°C. Enligt samma metod bestämmas viskositeten för en blandning av polyester och "normal" kiseldioxid. Detta standardprov användes genomgående för alla mätningarna i ut- föringsexemplen. viskositeten föréprovet x 100 Viskositeten för standardprovet Förtjockningstal = De i marknaden förekommande kiseldioxidkvaliteterna, som framställts genom hydrolys av kiseltetraklorid i gaslågor,- ßßi0aea7e s -ärr har förtjockningstal, som varierar mellan 70 och 160. Högst förtjockningstal har vanligen kiseldioxid med en specifik yta av 200 m2/g och med låg skrymdensitet. Denna kvalitet användes därför vanligen som förtjockningsmedel för poly- esterkompositioner, färger och lacker mm.
Den kiseldioxid som hittills framställts genom hydrolys av kiseltetrafluorid i lågor har haft förtjockningstal av 60- -l20. Även i detta fall har bäst förtjockningseffekt erhål- lits vid specifika ytor av 200-250 m2/g och för produkter med låg skrymdensitet, dvs. ca 50 g/l.
Vid framställning av kiseldioxid medelst sättet enligt upp- finningen erhålles förtjockningstal varierande mellan 150 och 300, vilket ur både teknisk och ekonomisk synpunkt är mycket värdefullt.
Uppfinningen åskådliggöres närmare medelst följande ut- föringsexempel.
Exemgel la I apparatur enligt figur 3 användes en brännare med sex munstycken. Genom rörledning 3 tillfördes följande gasmäng- aer <2o°c, ibarn Bränngas (s9,o % H2+ 11,0 a call) 285 1113/11 Kiseltetrafluorid 49,7 " Primärluft 815 " Genom rörledning 7 tillfördes: Sekundärluft 272 " Brännarmunstyckena och de tillförda gasflödena var så av- passade att intensiva lågor med hög turbulens erhölls. Kyl- aeøsveà-7 ytorna 4 hölls vid en temperatur av ca l60°C med hjälp av kokande vatten, som stod under 6 bar övertryck.
Brännkammarens väggar 8 kyldes med hjälp av luft till en temperatur av ca 30000 och i kylaren 9 kyldes avgaserna och kiseldioxiden med hjälp av kokande vatten till 6l0°C. Den erhållna kiseldioxiden separerades i tre seriekopplade cyk- loner, varefter avgasernas halt av fluorväte och kiseltet- rafluorid tillvaratogs genom absorption i vatten. Den er- hållna kiseldioxiden vägdes och analyserades, varvid de i tabell l angivna värdena erhölls. I Exempel lb Som jämförelse utfördes ett försök med samma apparatur och samma gasmängder som ovan, dock med den skillnaden att kyl- ytorna 4 tagits bort. De härvid erhållna resultaten anges i tabell 1.
Av tabellen framgår att kylningen av lågorna medfört en väsentlig förbättring av kiseldioxidens förtjockningsför- måga.
Exempel 2a och 2b Samma apparatur användes som i exempel l, dock med den skill- naden att brännaren utbytts mot en brännare med tjugo mun- stycken, vilka vid exempel 2a var omgivna av kylytor, som hölls vid l60°C. I exempel 2b var kylytorna borttagna. ' De tillförda flödena av bränngas och luft var samma som i exempel l medan däremot kiseltetrafluoridflödet ökats till 3 60,0 m /h.
Resultatet av försöken återfinns även i tabell l, av vilken framgår att kylningen ger en väsentlig förbättring av för- tjockningstalet. I detta fall har även väsentligt högre spe- cifik yta erhållits vid kylning av lågbasen. 80~0ï8ï7 6 8 - 7 Exempel 3 I detta fall användes tjugo brännarmunstycken, som vardera var utrustade med tolv rör i enlighet med figur 2. Varje brännare var omgiven av en kylmantel, som hölls vid l60°C med hjälp av kokande vatten. Samma gasflöden användes som vid exempel l.
Resultaten av försöket återges i tabell 1, av vilken fram- går att kiseldioxid med en specifik yta av 240 m2/g och med mycket god förtjockningsförmåga erhölls.
Exempel 4 Samma apparatur användes som i exempel 3. I detta fall an- vändes ren vätgas som bränngas och följande gasmängder till- fördes.
Bränngas (lOO% H2) 384 m3/h Kiseltetrafluorid 49,7 " Primärluft 825 “ Sekundärluft 275 " Som framgår av tabell l erhölls i detta fall kiseldioxid med extremt god förtjockningsförmåga (förtjockningstal 288). àoøsvss-7 10 . ww~ .=- ma - - »OH w , W . f .NQN «. @«~ . Hm QQH m . Nflfl . .. mmfi øw mfifl m _ . . QN fm... mwfi . . ._ J. Now 1 »NA wflfl ._ . «~ . .W wofi ß ;; . .-~ . ww OQH ßfi ¶ .mmßfiz . . W wo~. N» NQH NF- f. , www _ . wša _ . w axmm . . E» -mm=Hn«uQh~H@m _ ng» ««««u@@w @~>@~= wwxøfiwfimwwu ¶ .fimmummm ; W . . . w qqmm<æ -
Claims (5)
1. l. Sätt att genom hydrolys av kiseltetrafluorid i en låga framställa finfördelad kiseldioxid med en specifik yta av 50 m2/g till 400 m2/g och med speciellt hög förmåga att höja viskositeten hos vätskeformiga produkter, k ä n n e - t e c k n a t därav, att förbränningen genomföres i en el- ler flera lågor, vilkas bas åtminstone delvis omges av kyl- ytor.
2. Sätt enligt krav l, k ä n n e t e c k n a t därav, att kylytorna har en temperatur, som ligger över de vid för- bränningen alstrade avgasernas daggpunkt men under 500°C.
3. Sätt enligt krav l eller 2, k ä n n e t e c k n a t där- av, att förbränningen genomföras i_lågor, som vardera har en max värmeutveckling av 200 kW.
4. Sätt enligt krav l eller 2, k ä n n e t e c k n a t där- av, att förbränningen genomföras i ett flertal små lågor, som vardera har en max värmeutveckling av 10 kW och vilkas bas åtminstone delvis omges av en eller flera gemensamma kyl- tOr.
5. Sätt enligt något av föregående krav, k ä n n e t e c k - n a t därav, att den vid förbränningen använda bränngasen innehåller 7 60 vol % väte.
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| SE8008768A SE431196B (sv) | 1980-12-12 | 1980-12-12 | Sett att genom hydrolys av kiseltetrafluorid i en laga framstella finfordelad kiseloxid |
| CA000391730A CA1175637A (en) | 1980-12-12 | 1981-12-08 | Process and apparatus for preparing finely-divided silicon dioxide having good thixotropic properties |
| DE8181850241T DE3169468D1 (en) | 1980-12-12 | 1981-12-11 | Process and apparatus for preparing finely-divided silicon dioxide having high thickening capacity and good thixotropic properties |
| EP81850241A EP0054530B1 (en) | 1980-12-12 | 1981-12-11 | Process and apparatus for preparing finely-divided silicon dioxide having high thickening capacity and good thixotropic properties |
| JP56199972A JPS57140313A (en) | 1980-12-12 | 1981-12-11 | Manufacture of fine silicon dioxide having highly thickened volume-good thixotropy and apparatus |
| US06/575,476 US4559218A (en) | 1980-12-12 | 1984-01-30 | Process and apparatus for preparing finely-divided silicon dioxide having good thixotropic properties |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| SE8008768A SE431196B (sv) | 1980-12-12 | 1980-12-12 | Sett att genom hydrolys av kiseltetrafluorid i en laga framstella finfordelad kiseloxid |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| SE8008768L SE8008768L (sv) | 1982-06-13 |
| SE431196B true SE431196B (sv) | 1984-01-23 |
Family
ID=20342462
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| SE8008768A SE431196B (sv) | 1980-12-12 | 1980-12-12 | Sett att genom hydrolys av kiseltetrafluorid i en laga framstella finfordelad kiseloxid |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4559218A (sv) |
| EP (1) | EP0054530B1 (sv) |
| JP (1) | JPS57140313A (sv) |
| CA (1) | CA1175637A (sv) |
| DE (1) | DE3169468D1 (sv) |
| SE (1) | SE431196B (sv) |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4801437A (en) * | 1985-12-04 | 1989-01-31 | Japan Oxygen Co., Ltd. | Process for treating combustible exhaust gases containing silane and the like |
| GB9410782D0 (en) * | 1994-05-28 | 1994-07-27 | British Nuclear Fuels Plc | The reaction of gases |
| DE19511643A1 (de) * | 1995-03-30 | 1996-10-02 | Das Duennschicht Anlagen Sys | Verfahren und Einrichtung zur Reinigung von schadstoffhaltigen Abgasen durch chemische Umsetzung |
| US6217840B1 (en) | 1995-12-08 | 2001-04-17 | Goldendale Aluminum Company | Production of fumed silica |
| US6193944B1 (en) | 1995-12-08 | 2001-02-27 | Goldendale Aluminum Company | Method of recovering fumed silica from spent potliner |
| US6248302B1 (en) | 2000-02-04 | 2001-06-19 | Goldendale Aluminum Company | Process for treating red mud to recover metal values therefrom |
| US7022299B2 (en) * | 2002-10-15 | 2006-04-04 | National Chung-Hsing University | Exfoliative clay and derivative thereof and method for producing the same |
| DE10340884A1 (de) * | 2003-09-04 | 2005-03-31 | Riebel, Ulrich, Prof. Dr.-Ing. | Verfahren zur Herstellung von Ruß oder anderen Flammenaerosolen und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
| DE102004019575A1 (de) * | 2004-04-20 | 2005-11-24 | Innovent E.V. Technologieentwicklung | Verfahren zur Herstellung von transmissionsverbessernden und/oder reflexionsmindernden optischen Schichten |
| DE102006054156A1 (de) * | 2006-11-16 | 2008-05-21 | Wacker Chemie Ag | Pyrogene Kieselsäure hergestellt in einer Produktions-Anlage mit großer Kapazität |
| DE102008054592A1 (de) * | 2008-12-12 | 2010-06-17 | Wacker Chemie Ag | Pyrogene Kieselsäure hergestellt in einer Produktions-Anlage mit kleiner Kapazität |
| CN105110344B (zh) * | 2015-08-19 | 2017-02-01 | 六盘水师范学院 | 一种煤矸石制气相二氧化硅的方法与装置 |
| US11213848B2 (en) * | 2015-12-11 | 2022-01-04 | Vitro Flat Glass Llc | Nanoparticle coater |
| US11912604B2 (en) * | 2019-08-13 | 2024-02-27 | Sterlite Technologies Limited | Method for fabrication of glass preform |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2535036A (en) * | 1946-09-03 | 1950-12-26 | Cabot Godfrey L Inc | Manufacture of finely divided silica |
| DE974793C (de) * | 1952-04-02 | 1961-04-27 | Degussa | Verfahren zur Herstellung von feinverteilten Oxyden |
| US2819151A (en) * | 1954-03-02 | 1958-01-07 | Flemmert Gosta Lennart | Process for burning silicon fluorides to form silica |
| BE609721A (fr) * | 1960-11-03 | 1962-02-15 | Goesta Lennart Flemmert | Méthode de récupération du bioxyde de silicium finement divisé obtenu en faisant réagir en phase gazeuse des composés de silicium et de fluor avec de l'eau |
| US3233969A (en) * | 1961-05-29 | 1966-02-08 | Columbian Carbon | Process for producing pigmentary silica |
| US3361525A (en) * | 1961-11-03 | 1968-01-02 | Laporte Titanium Ltd | Manufacture of oxides of the elements titanium, zirconium, iron, aluminum and silicon |
| US3660025A (en) * | 1970-07-01 | 1972-05-02 | Cities Service Co | Manufacture of pigmentary silica |
| US3969485A (en) * | 1971-10-28 | 1976-07-13 | Flemmert Goesta Lennart | Process for converting silicon-and-fluorine-containing waste gases into silicon dioxide and hydrogen fluoride |
| US4292290A (en) * | 1980-04-16 | 1981-09-29 | Cabot Corporation | Process for the production of finely-divided metal and metalloid oxides |
-
1980
- 1980-12-12 SE SE8008768A patent/SE431196B/sv not_active IP Right Cessation
-
1981
- 1981-12-08 CA CA000391730A patent/CA1175637A/en not_active Expired
- 1981-12-11 DE DE8181850241T patent/DE3169468D1/de not_active Expired
- 1981-12-11 JP JP56199972A patent/JPS57140313A/ja active Granted
- 1981-12-11 EP EP81850241A patent/EP0054530B1/en not_active Expired
-
1984
- 1984-01-30 US US06/575,476 patent/US4559218A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA1175637A (en) | 1984-10-09 |
| EP0054530A1 (en) | 1982-06-23 |
| JPS57140313A (en) | 1982-08-30 |
| DE3169468D1 (en) | 1985-04-25 |
| US4559218A (en) | 1985-12-17 |
| JPS6117766B2 (sv) | 1986-05-09 |
| SE8008768L (sv) | 1982-06-13 |
| EP0054530B1 (en) | 1985-03-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| SE431196B (sv) | Sett att genom hydrolys av kiseltetrafluorid i en laga framstella finfordelad kiseloxid | |
| US6562314B2 (en) | Methods of producing substantially anatase-free titanium dioxide with silicon halide addition | |
| JP5988532B2 (ja) | カーボンブラック、カーボンブラックの製造法および該方法を実施するための装置 | |
| US4250145A (en) | Carbon black reactor with improved burner | |
| US3368871A (en) | Fluidized bed process for the preparation of colloidal silicon carbide | |
| US2971822A (en) | Process for producing carbon black | |
| US3988478A (en) | Carbon black | |
| GB2044738A (en) | Production of silica | |
| US3233969A (en) | Process for producing pigmentary silica | |
| US1999541A (en) | Carbon black production | |
| EP0054531B1 (en) | Process and apparatus for preparing finely-divided silicon dioxide in good yield | |
| KR101057402B1 (ko) | 온도-조절된 반응 챔버에서 발열성 금속 옥사이드의 생산 | |
| US4316881A (en) | Carbon black process utilizing an improved burner | |
| US3236673A (en) | Colloidal silicon carbide and the method of making the same | |
| EP1122212A2 (en) | Composite carbon clack-fumed silica nanostructured particles | |
| US2773744A (en) | Continuous thermal process of making carbon black | |
| US2177551A (en) | Process and apparatus for producing uniform-sized particles | |
| US1987643A (en) | Manufacture of carbon black | |
| US5049369A (en) | Control of a carbon black reactor | |
| KR930005684B1 (ko) | 카본 블랙 응집체의 크기 및 구조의 조절 방법 | |
| US2705189A (en) | Carbon black | |
| US1987644A (en) | Carbon black | |
| US3046095A (en) | Process for carbon black production | |
| JP3400498B2 (ja) | カーボンブラックの製造方法 | |
| RU2179564C1 (ru) | Технический углерод, способ его получения и реактор для получения технического углерода |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| NAL | Patent in force |
Ref document number: 8008768-7 Format of ref document f/p: F |
|
| NUG | Patent has lapsed |
Ref document number: 8008768-7 Format of ref document f/p: F |