SE443162B - Sett att bilda en i huvudsak svart nickelbeleggning pa ett underlag jemte bad herfor - Google Patents
Sett att bilda en i huvudsak svart nickelbeleggning pa ett underlag jemte bad herforInfo
- Publication number
- SE443162B SE443162B SE8004321A SE8004321A SE443162B SE 443162 B SE443162 B SE 443162B SE 8004321 A SE8004321 A SE 8004321A SE 8004321 A SE8004321 A SE 8004321A SE 443162 B SE443162 B SE 443162B
- Authority
- SE
- Sweden
- Prior art keywords
- bath
- amine
- nickel
- present
- amount
- Prior art date
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 18
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 12
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 9
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 70
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 36
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 34
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 21
- 229910001453 nickel ion Inorganic materials 0.000 claims description 12
- LHIJANUOQQMGNT-UHFFFAOYSA-N aminoethylethanolamine Chemical compound NCCNCCO LHIJANUOQQMGNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 11
- VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N Nickel(2+) Chemical compound [Ni+2] VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 claims description 8
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 7
- -1 magnesium halides Chemical class 0.000 claims description 7
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 6
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-tetramine Chemical compound NCCNCCNCCN VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 claims description 4
- GKQPCPXONLDCMU-CCEZHUSRSA-N lacidipine Chemical compound CCOC(=O)C1=C(C)NC(C)=C(C(=O)OCC)C1C1=CC=CC=C1\C=C\C(=O)OC(C)(C)C GKQPCPXONLDCMU-CCEZHUSRSA-N 0.000 claims description 4
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical class OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 claims description 3
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L sulfite Chemical class [O-]S([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 150000003567 thiocyanates Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000004764 thiosulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910001508 alkali metal halide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052936 alkali metal sulfate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 2
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 2
- 150000008045 alkali metal halides Chemical class 0.000 claims 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims 1
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 claims 1
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 claims 1
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 17
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 241000872198 Serjania polyphylla Species 0.000 description 11
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 7
- 241000080590 Niso Species 0.000 description 6
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 6
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 5
- DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M Sodium laurylsulphate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 3
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000019333 sodium laurylsulphate Nutrition 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical class [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 2
- 239000004081 narcotic agent Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N EtOH Substances CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000004141 Sodium laurylsulphate Substances 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000001464 adherent effect Effects 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 239000007857 degradation product Substances 0.000 description 1
- ZBFQERWPGRDOLK-UHFFFAOYSA-N dodecyl ethoxy sulfate;sodium Chemical class [Na].CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)OOCC ZBFQERWPGRDOLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 238000004134 energy conservation Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 150000004687 hexahydrates Chemical class 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 150000002815 nickel Chemical class 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 150000003138 primary alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- VGTPCRGMBIAPIM-UHFFFAOYSA-M sodium thiocyanate Chemical compound [Na+].[S-]C#N VGTPCRGMBIAPIM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019345 sodium thiosulphate Nutrition 0.000 description 1
- ASEFUFIKYOCPIJ-UHFFFAOYSA-M sodium;2-dodecoxyethyl sulfate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCOCCOS([O-])(=O)=O ASEFUFIKYOCPIJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/12—Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
Description
8004321-9 2 De problem och nackdelar, som hänger samman ned tidigare kända me- toder, övervinnes med hjälp av kompositionen och sättet enligt fö- religgande uppfinning, där badkompositionen kan arbeta över ett brett område med avseende på pH, koncentration, strömtäthet och temperatur, och är anpassningsbar för användning på en mångfald olika, elektriskt ledande underlag för att fortlöpande ge i huvud- sak jämna och likformiga, vidhäftande, i huvudsak svarta nickelbe- läggningar, som ger förbättrat korrosionsmotstånd och som också är nottagliga för olika slags klarlack-toppskikt.
Nyttan och fördelarna med föreliggande uppfinning uppnås genom an- vändning av ett bad av inledningsvis beskrivet slag, där den i badet ,lösliga aminen är närvarande i en mängd för att ge ett nnlförhâllan- de nellan nickel och anun i lösningen av från ca 1:1 till ca 1:4.
Badlösliga aminer, lämpliga för detta ändamål har formeln R -» NH- /'_'(cH2)n - Nlfjm - (cH2)P - x - R' där n, m och p är heltal och n är 2 eller 3, m är 1, 2 eller 3 och p är 2 eller 3, X är O eller NH samt R och R', som kan vara lika el- ler olika, är H, -CH CH = CH 2 -CH CH2CH2S03 eller ~CH2?HCH2OH. 2' 2 OH Typiska för sådana aminer är trietylentetramin, dipropylentriamin och 2-(2-aminoetylamino)-etanol.
Badet kan vidare valfritt innehålla mörkmedel, dvs ämnen som förhö- jer det mörka utseendet hos det utfällda skiktet, innehållande al- kalimetallsalter av svavel-innehållande föreningar, såsom tiocyana- ter, tiosulfater, bisulfiter, sulfiter och liknande, som kan vara närvarande i mängder av upp till 25 g/l. Badet kan dessutom valfritt innehålla badlösliga inerta salter för att öka badets ledningsför- måga, ävensom små kontrollerade mängder av vätnedel av de slag som konventionellt används i nickelbad för elektroplätering.
I enlighet med förfarandeaspekterna av föreliggande uppfinning kan elektropläteringsbadet arbeta vid en temperatur av från rumstempe- ratur (21°C) upp till ca 65°C över ett strömtäthetsområde av från , 2 n . . . ca 0,2 A/dm? upp till ca 2,7 A/dm . Utfallningstiderna kan variera från ca 1 minut upp till ca 10 nunuter i beroende av badsamnansätt- ning och processvariabler. 8004521-9 Ytterligare fördelar och förmåner med föreliggande uppfinning kom- mer att framgå vid en genomläsning av föreliggande beskrivning av de föredragna utföringsformerna i förbindelse med de särskilda ut- föringsexemplen som ges nedan.
Det nya elektropläteringsbadet enligt föreliggande uppfinning för utfällning av s.k. svartnickelbeläggningar eller -skikt innehåller en vattenhaltig lösning, vilken som sina väsentliga beståndsdelar in- nehåller en kontrollerad effektiv nängd nickeljoner i konbination med' en badlöslig andn, närvarande i en kontrollerad nängd i beroende av koncentrationen av nickeljoner som.är närvarande. Nickeljonkoncent~ rationen kan i stort variera från ca 2 g/l upp till ca 25 g/l med mängder varierande från ca 6 g/l upp till ca 10 g/l såsom föredragna.
En koncentration av nickeljoner högre än ca 25 g/l är i vissa fall icke önskvärd, eftersom den bildade nickelbeläggningen tenderar att få ett-grått utseende vid sådana högre koncentrationer. Nickeljoner- na kan länpligen införas i badet i form av badkompatibla och lösliga nickelsalter, såsom nickelsulfat, nickelhalogenidsalter, nickelsul- fonat, nickelfluoborat och liknande. Av dessa utgör nickelsulfat i form av hexahydratet en föredragen källa. Nickelhalogenidsalterna kan på ett tillfredsställande sätt användas då en nickelanod används i badet, men är icke önskvärda då inerta anoder, såsom kolanoder, används, detta på grund av utvecklingen av notsvarande halogenidgas vid anoden. Nickelsulfat ger en ytterligare fördel, då en nickelanod används genom att lösningen icke lika lätt angriper ytan på anoden och stegringen av nickeljonkoncentration i badet sker väsentligt långsam- mare, vilket ytterligare förenklar kontrollen av badet.
Den andra väsentliga beståndsdelen i elektropläteringsbadet är en amin som är konbinerbar med och löslig i badet samt har formeln R - NH - /_(cH2>n - Najm - (CHQP - X - R' där n, m och p är heltal och n är 2 eller 3, m är 1, 2 eller 3 och p är 2 eller 3, X är O eller NH samt R och R', som kan vara lika eller olika, är H, -CHZCH = CI-IZ, -CH2CH2CH2SO3 eller -CHZCEHCHZOI-I.
OH Typiska aminer, lämpliga för användning i badet, som motsvarar den ovan angivna formeln är trietylentetramin, i vilken R och R' är H, X är NH samt n, m och p är 2, dipropylentriamin, i vilken R och R' 8004321-9 är H, X är NH, m är 1 samt n och p är 3, och 2-(2-aninoetylamino)- etanol, i vilken R och R' är H, X är O, m är 1 samt n och p är 2.
Koncentrationen av aminen kontrolleras i relation till den mängd nickeljoner som är närvarande i badet. Molförhållandet mellan nickel- joner och amin som är närvarande i lösningen kan variera från ca 1:1 upp till ca 1:4, företrädesvis 1:1,5 till ca 1:2,5, ned förhållan- den av ca 1:2 såsonnsärskilt tillfredsställande. Molförhållanden överstigande ca 1:4 är icke önskvärda, eftersom den höga koncentra- tionen av andn förhindrar utfällning av nickel från badet, medan för- hållanden mindre än ca 1:1 icke ger någon i huvudsak svart nickelbe- läggning.
Förutom nickeljonerna och aminen som väsentliga beståndsdelar kan badet dessutom, son en valfri beståndsdel, innehålla badlösliga, kompatibla och inerta salter för att förbättra elektrolytens led- ningsförnåga. Sådana ledningssalter innefattar typiskt alkalimetall- sulfat och halogenider, ävensom nagnesiunsulfat och nagnesiunhalo- genidsalter. Uttrycket "alkalimetall" används här i sin breda bety- delse för att inkludera alkalinetallerna_natrium, kalium och litium, ävensom anmonium.
Sådana ledningssalter eller blandningar därav kan användas i nång- der av upp till löslighetsgränsen därför ned mängder varierande från ca 30 g/l upp till ca 50 g/l såsom föredragna.
En ytterligare valfri beståndsdel i badet är ett mörkmedel enligt ovanstående definition, som är närvarande i kontrollerade nängder för att på så sätt ytterligare förbättra det nörka utseendet eller den svarta finishen hos beläggningen. Mörkmedel som är länpliga att använda är alkalinetallsalter av svavel-innehållande föreningar, inkluderande tiocyanater, tiosulfater, bisulfiter, sulfiter eller liknande, ävensom blandningar därav. Dä de används kan sådana nörk- medel utnyttjas i mängder av upp till ca 25 g/l, även om mängder av ca 1 g/l till ca 5 g/l vanligtvis är att föredraga. Normalt är koncentrationer av sådana nörkmedel högre än ca 25 g/l icke önskvär- da, detta på grund av de nedbrytningsprodukter som bildas genom an- vändning av sådana höga koncentrationer, som i vissa fall kan för- sänra jänmheten och täckförnågan hos svartnickelbeläggningen. Dess- utom uppnås icke några speciella fördelar genom användning av såda- na ännen i nängder större än 25 g/l i jämförelse ned vad son erhål- 8004521-9 les vid användning av mindre mängder, som t.ex. ca 5 g/l.
Som en ytterligare valfri beståndsdel kan elektropläteringsbadet innehålla vilket som helst av ett antal badkompatibla vätmedel i ef- fektiva mängder av de olika slag som konventionellt används i för- nicklingslösningar. Normalt används vätmedel av den anjoniska typen i koncentrationer upp till ca 200 mg/l, även om mängder av ca 50¶g/l till ca 100 mg/l är att föredraga. Typiska för lämpliga vätmedel som kan användas är sulfater av primära alkoholer, innehållande 8-18 kol- atomer, såsom natriumlaurylsulfat, natriumlauryletoxisulfater eller -sulfonater och liknande.
I enlighet med förfarandeaspekterna av föreliggande uppfinning kan badets driftstemperatur variera från rumstemperatur (21°C) upp till ca 6500 med temperaturer av från ca 27°C till ca 32°C såsom särskilt föredragna ur energibevaringssynpunkt. Den speciella temperatur som kommer till användning kommer att variera för uppnâende av optimala svarta nickelskikt i beroende av den speciella komposition och de driftsförhållanden som används.
Det vattenhaltiga badet kontrolleras inom ett pH-område av från ca 4 upp till ca 12 med ett pH-område av ca 6 till ca 10 såsom föredra- get. Justering till lämpligt pH kan uppnås med användning av syror, såsom svavelsyra och saltsyra a ena sidan, eller genom användning av en bas, såsom en alkalimetallhydroxid, inklusive ammoniumhydroxid.
Elektroutfällningen av svartnickelskiktet kan åstadkommas genom an- vändning av en genomsnittlig strömtäthet varierande från ett så lågt värde som ca 0,2 A/dmz upp till ca 2,7 A/dmz. Företrädesvis kontrol- leras strömtätheten inom ettpmråde av ca 0,5 A/dmz till ca 1,6 A/dmz.
Varaktigheten av utfällningen kan i stort variera från så kort tid som ca 1 minut upp till ca 10 minuter, i beroende av den speciella badsammansättning som används, typen av det använda underlaget, ty- pen av finish som önskas och den speciella strömtäthet som används.
Normalt är utfällningstider varierande från ca 2 minuter till ca 3 minuter tillfredsställande.
Elektroutfällningen av det svarta nickelskiktet kan på ett tillfreds- ställande sätt uppnås på elektriskt ledande metallunderlag, inklu- sive nickel, koppar, mässing, galvaniskt utfälld zink, kadmium och 8004321-9 liknande. I avsikt att uppnå en glänsande, klar, i huvudsak svart nickelbeläggning är det att föredraga att underlaget från början har en blank yta, bildad antingen genom utfällning av ett blankt skikt på ytan eller åstadkommen på mekanisk väg, såsom polering el- ler liknande. Allteftersom underlaget blir mindre blankt, tenderar den resulterande nickelbeläggningen att bli allt gråare.
För att ytterligare belysa kompositionen och sättet enligt förelig- gande uppfinning_ges nedanstående utföringsexempel. Det skall för- stås att dessa exempel enbart ges i belysande syfte och icke är att betrakta som begränsande ramen för uppfinningen, sådan denna beskri- vits ovan och definieras i patentkraven.
Exempel_1 En elektropläteringslösning tillblandades, bestående av 26 g/l NiSO4. 6 H20 och 26 g/l trietylentetramin. Lösningens pH justerades till 12 med Na0H. Ett nypreparerat blankförnicklat arbetsstycke nedsänk- tes i lösningen och kopplades som katod. Kolstavar kopplades som ano- der. Arbetsstycket elektropläterades under 2-3 minuter vid en ström- täthet av 1,6 A/dmz och en temperatur av 24°C. Det utfällda skiktet var jämnt och likformigt svart med bra vidhäftning till underlaget.
Exempel 2 En elektropläteringslösning tillblandades, bestående av 26 g/l NiSO3. 6 H20 och 26 g/l dipropylentriamin. Lösningens pH justerades till 4 med HZSO4. Ett nypreparerat, blankförnicklat arbetsstycke nedsänktes i lösningen och elektropläterades under 2-3 minuter vid en strömtät- het av 1,6 A/dmz och en temperatur av 24°C. Det utfällda skiktet var jämnt och likformigt svart med bra vidhäftning till underlaget.
Exempel 3 En elektropläteringslösning tillblandades, bestående av 26 g/l NiSO4. 6H2O och 21 g/l 2-(2-aminoetylamino)-etanol. Lösningens pH justera- des till 12 med NaOH. Ett nypreparerat, blankförnicklat arbetsstycke nedsänktes i lösningen och elektropläterades under 2-3 minuter vid en strömtäthet av 1,6 A/dmz och en temperatur av 24°C. Det utfällda skiktet var jämnt och likformigt svart med bra vidhäftning till un- derlaget.
Exempel 4 En elektropläteringslösning tillblandades, bestående av 26 g/l NiSO4. 6 H20, 21 g/l 2-(2-aminoetylamino)-etanol och 5 g/l NaCNS. Lösningens 8004321-9 pH justerades till 12 med NaOH. Ett nypreparerat, blankförnicklat arbetsstycke nedsänktes i lösningen och elektropläterades under 2-3 minuter vid en strömtäthet av 1,6 A/dmz och en temperatur av 24oC.
Det utfällda skikter var jämnt och likformigt svart med bra vidhäft- ning till underlaget.
Eëaee-.li En elektropläteringslösning tillblandades, bestående av 26 g/l NiSO4. 6 H20, 21 g/l 2-(2-aminoetylamino)-etanol och 10 g/l Na2S2O3. Lös- ningens pH justerades till 12 med NaOH. Ett nypreparerat arbetsstycke av nickel nedsänktes i lösningen och elektropläterades under 2-3 mi- 2 nutefvid en strömtäthet av 1,6 A/dm och en temperatur av 24°C. Det I utfällda skiktet var jämnt och likformigt svart med bra vidhäftning till underlaget.
Tillsättning av antingen natriumtiocyanat eller natriumtiosulfat till elektropläteringslösningen enligt exemplen 4 och 5 tjänstgjorde som mörkhetsförhöjande ämne och de i exemplen 4 och 5 erhållna nickelbe- läggningarna var mycket mörkare än vad som erhölls med den identiska lösningen i exempel 3, icke innehållande något mörkmedel.
Exempel 6 En elektropläteringslösning tillblandades, bestående av 25 g/l Ni(NH2SO3)2, 21 g/l 2-(2-aminoetylamino)-etanol och 5 g/l NaCNS. pH-värdet justerades till 6 med HZSO4. Ett nypreparerat arbetsstyc- ke av nickel nedsänktes i lösningen och elektropläterades under 2-3 minuter vid en strömtäthet av 1,1 A/dmz och en temperatur av 24°C.
Det utfällda skiktet var jämnt och likformigt svart med bra vidhäft- ning till underlaget.
Exempel 7 En elektropläteringslösning tillblandades, bestående av 23 g/l Ni(BF4)2, 21 g/l 2-(2-aminoetylamino)-etanol och 5 g/l NaCNS. pH justerades till 6 med HZSO4. Ett nypreparerat arbetsstycke av nic- kel nedsänktes i lösningen och elektropläterades under 2-3 minuter vid en strömtäthet av 1,1 A/dmz och en temperatur av 24°C. Det ut- fällda skiktet var jämnt och likformigt svart med bra vidhäftning till underlaget.
Exempel 8 En elektropläteringslösning tillblandades, bestående av 24 g/l Niclg - 5 H20, 21 g/l 2-(2-aminoetylamino)-etanol och 5 g/l NaCNS. 80043421-9 pH justerades till 6 med H2SO4. Ett nypreparerat arbetsstycke av nickel nedsänktes i lösningen och elektropläterades under 2-3 mi- nuter vid en strömtäthet av 1,1 A/dm2 och en temperatur av 24oC.
Det utfällda skiktet var jämnt och likformigt svart med bra vid- häftning till underlaget.
Exempel 9 En elektropläteringslösning tillblandades, bestående av 17 g/l NiSO4 . 6 H20, 14 g/l 2-(2-aminoetylamino)-etanol, 5 g/l NaCNS, 40 g/l Na2SO4 och 0,2 g/l av ett anjoniskt vätmedel, natriumlauryl- sulfat. pH justerades till 6 med HZSO4. Ett nypreparerat arbetsstyc- ke av nickel nedsänktes i lösningen och elektropläterades under 2-3 minuter vid en strömtäthet av 1,1 A/dmz och en temperatur av 24°C.
Det utfällda skiktet var jämnt och likformigt svart med bra vidhäft- ning till underlaget.
Exempel 10 En elektropläteringslösning tillblandades, bestående av 40 g/l NiSO4 . 6 H20, 33 g/l 2-(2-aminoetylamino)-etanol, 5 g/l NaCNS, 30 g/l Na2SO4 och 0,1 g/l av ett anjoniskt vätmedel, natriumlauryl- etoxisulfat. pH justerades till 6 med HZSO4. Ett nypreparerat ar- betsstycke av nickel nedsänktes i lösningen och elektropläterades under 2-3 minuter vid en strömtäthet av 1,1 A/dmz och en temperatur av 24°C. Det utfällda skiktet var jämnt och likformigt svart med bra vidhäftning till underlaget.
Exempel 11 En elektropläteringslösning tillblandades, bestående av 26 g/l NiSO4 . 6 H20, 21 g/l 2-(2-aminoetylamino)-etanol, 5 g/l NaCNS, 40 g/l Na2SO4 och 0,2 g/l natriumlaurylsulfat. pH justerades till 6 med HZSO4. Ett nypreparerat arbetsstycke av nickel nedsänktes i lösningen och elektropläterades under en tid av 2-3 minuter vid en strömtäthet av 1,1 A/dmz och en temperatur av 65°C. Det utfällda skiktet var svart med bra vidhäftning till underlaget. Även om det klart framgår att uppfinningen, sådan den beskrivits ovan, är bra beräknad för uppnående av de förmåner och fördelar som ovan framhållits, står det klart att uppfinningen kan undergâ modi- fiering, variation och förändring utan att för den skull uppfinnings- idën frångås.
Claims (12)
1. Sätt att bilda en i huvudsak svart nickelbeläggning på ett underlag genom att nickel utfälles elektrolytiskt vid en strömtäthet av 0,2 - 2,7 A/dmz och vid en temperatur av från rumstemperatur upp till 65°C under en tidsperiod som är till- räcklig för utfällning av den önskade beläggningstjockleken från en vattenhaltig lösning som har ett pH av 4 till 12 och innehåller 2 till 25 g/l nickeljoner samt en badlöslig amin, k ä n n e t e c k n a t av att aminen sättes till lösningen i en mängd för att ge ett molförhållande mellan nickel och amin i lösningen av 1:1 till 1:4, varvid aminen motsvarar for- meln R - NH - ¿]ca2)n-Nnjm - (cH2)p-x-R', där n, m och p är heltal och n är 2 eller 3, m är 1, 2 eller 3 och p är 2 eller 3, X är 0 eller NH samt R och R' är lika el- ler olika och är H, -CHZCH = CH2, -CHZCH ZCHZSO3 eller -CH2?HCH2OH. OH
2. Bad för utförande av sättet enligt krav 1, innehållande en vattenhaltig lösning som har ett pH av 4 till 12 och innehåller 2 till 25 g/l nickeljoner samt en badlöslig amin, k ä n n e - - t e c k n a t av att aminen är närvarande i en mängd för att ge ett molförhàllande mellan nickel och amin i lösningen av 1:1 till 1:4, varvid aminen motsvarar formeln R - NH - ÛCHZ)n-Nnjm-(CHQP-x-R' där n, m och p är heltal och n är 2 eller 3, m är 1, 2 eller 3 och p är 2 eller 3, X är O eller NH samt R och R' är lika eller olika och är H, -CHZCH = CH2, -CH2CH2CH2SO3 eller -CHZÉHCHZOH. OH öUU4JZ!“7 IO
3. Bad enligt krav 2, k ä n n e t e c k n a t av att nickel- jonerna är närvarande i en mängd av 6 till 10 g/l.
4. Bad enligt krav 2, kännetecknar. av att aminen är närvarande för att ge ett molförhållande mellan nickel och amin av 1:1,5 till 1:2,5.
5. S. Bad enligt krav 2, k ä n n e t e c k n a t av att aminen är närvarande för att ge ett molförhållande mellan nickel och amin av 1:2.
6. Bad enligt krav 2, k ä n n e t e c k n a t av att det dess- utom innehåller badlösliga och kompatibla, inerta ledningssal- ter, närvarande i en mängd upp till sin löslighetsgräns i badet.
7. Bad enligt krav 6, k ä n n e t e c k n a t av att de bad- lösliga och kompatibla, inerta ledningssalterna valts bland alka- limetallsulfater, alkalimetallhalogenider, magnesiumsulfat, mag- nesiumhalogenider och blandningar därav samt är närvarande i en mängd av 30 till 50 g/l. '
8. Bad enligt krav 2, k ä n n e t e c k n a t av att det dess- utom som mörkhetsförhöjande ämne innehåller en alkalimetall/sva- vel-förening, vald från en grupp bestående av tiocyanater, tiosul- fater, bisulfiter, sulfiter och blandningar därav, närvarande i en mängd upp till 25 g/l.
9. Bad enligt krav 8, k ä n n e t e c k n a t av att det mörk- hetsförhöjande ämnet är närvarande i en mängd av 1 till 5 g/l.
10. Bad enligt krav 2, k ä n n e t e c k n a t av att det dess- utom innehåller upp till 200 mg/l av ett badkompatibelt vätmedel.
11. Bad enligt krav 10, k ä n n e t e c k n a t av att vätmed- let är ett anjoniskt vätmedel och är närvarande i en mängd av 50 till 100 mg/l.
12. Bad enligt krav 2, k ä n n e t e c k n a t av att aminen valts från en grupp bestående av trietylentetramin, dipropylen- triamin, 2-(2-aminoetylamino)-etanol och blandningar därav.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/071,610 US4244790A (en) | 1979-08-31 | 1979-08-31 | Composition and method for electrodeposition of black nickel |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| SE8004321L SE8004321L (sv) | 1981-03-01 |
| SE443162B true SE443162B (sv) | 1986-02-17 |
Family
ID=22102429
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| SE8004321A SE443162B (sv) | 1979-08-31 | 1980-06-10 | Sett att bilda en i huvudsak svart nickelbeleggning pa ett underlag jemte bad herfor |
Country Status (14)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4244790A (sv) |
| JP (1) | JPS5635789A (sv) |
| AR (1) | AR223524A1 (sv) |
| AU (1) | AU531506B2 (sv) |
| BR (1) | BR8005415A (sv) |
| CA (1) | CA1158596A (sv) |
| DE (1) | DE3027982C2 (sv) |
| ES (1) | ES493080A0 (sv) |
| FR (1) | FR2464314A1 (sv) |
| GB (1) | GB2057505B (sv) |
| HK (1) | HK66486A (sv) |
| IT (1) | IT1133029B (sv) |
| MX (1) | MX153749A (sv) |
| SE (1) | SE443162B (sv) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4332647A (en) * | 1980-10-17 | 1982-06-01 | Hooker Chemicals & Plastics Corp. | Composition and method for electrodeposition of black nickel |
| JPS59194918U (ja) * | 1983-06-13 | 1984-12-25 | 田口 武男 | 熱可塑性合成樹脂の筒状フイルム製造装置における可変型サイジングリング |
| DE69220519T2 (de) * | 1991-03-04 | 1998-02-19 | Toda Kogyo Corp | Verfahren zur Plattierung eines Verbundmagneten sowie Verbundmagnet mit einem Metallüberzug |
| WO2012059789A1 (en) | 2010-11-04 | 2012-05-10 | Selektif Teknoloji Sanayi Ticaret Limited Sirketi | Roll to roll manufacturing of solar selective sheets |
| CN108699714A (zh) * | 2016-01-29 | 2018-10-23 | 住友金属矿山株式会社 | 黑化镀液和导电性基板的制造方法 |
| CN109825859A (zh) * | 2019-03-26 | 2019-05-31 | 深圳大学 | 发黑电镀液、金属表面电镀发黑处理方法和金属构件 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2355070A (en) * | 1937-07-03 | 1944-08-08 | Little Inc A | Electrolytic deposition of metal |
| US2662853A (en) * | 1950-11-07 | 1953-12-15 | Harshaw Chem Corp | Electrodeposition of nickel |
| US2836549A (en) * | 1955-01-21 | 1958-05-27 | Elechem Corp | Nickel plating bath containing acetylenic polyamines |
| DE1068970B (de) * | 1957-02-15 | 1959-11-12 | Mond Nickel Co Ltd | Galvanisches Abscheiden schwarzer Nickelüberzüge und Vorbehandlung der zu überziehenden Werkstücke |
| US3386897A (en) * | 1964-09-15 | 1968-06-04 | Barnet D. Ostrow | Electroplasting bright nickel |
-
1979
- 1979-08-31 US US06/071,610 patent/US4244790A/en not_active Expired - Lifetime
-
1980
- 1980-05-07 CA CA000351451A patent/CA1158596A/en not_active Expired
- 1980-05-15 AR AR281058A patent/AR223524A1/es active
- 1980-06-04 FR FR8012459A patent/FR2464314A1/fr active Granted
- 1980-06-05 AU AU59077/80A patent/AU531506B2/en not_active Ceased
- 1980-06-10 SE SE8004321A patent/SE443162B/sv not_active IP Right Cessation
- 1980-07-01 IT IT49123/80A patent/IT1133029B/it active
- 1980-07-03 ES ES493080A patent/ES493080A0/es active Granted
- 1980-07-04 JP JP9159880A patent/JPS5635789A/ja active Granted
- 1980-07-24 DE DE3027982A patent/DE3027982C2/de not_active Expired
- 1980-08-27 BR BR8005415A patent/BR8005415A/pt not_active IP Right Cessation
- 1980-08-29 MX MX183761A patent/MX153749A/es unknown
- 1980-08-29 GB GB8028047A patent/GB2057505B/en not_active Expired
-
1986
- 1986-09-11 HK HK664/86A patent/HK66486A/xx not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3027982A1 (de) | 1981-04-02 |
| GB2057505B (en) | 1983-08-10 |
| CA1158596A (en) | 1983-12-13 |
| IT1133029B (it) | 1986-07-09 |
| GB2057505A (en) | 1981-04-01 |
| HK66486A (en) | 1986-09-18 |
| ES8106023A1 (es) | 1981-07-01 |
| JPS576518B2 (sv) | 1982-02-05 |
| DE3027982C2 (de) | 1986-07-17 |
| US4244790A (en) | 1981-01-13 |
| MX153749A (es) | 1986-12-31 |
| IT8049123A0 (it) | 1980-07-01 |
| AR223524A1 (es) | 1981-08-31 |
| BR8005415A (pt) | 1981-03-10 |
| ES493080A0 (es) | 1981-07-01 |
| AU5907780A (en) | 1981-03-05 |
| FR2464314B1 (sv) | 1985-03-15 |
| JPS5635789A (en) | 1981-04-08 |
| FR2464314A1 (fr) | 1981-03-06 |
| SE8004321L (sv) | 1981-03-01 |
| AU531506B2 (en) | 1983-08-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| BR122019020336B1 (pt) | Banho de galvanização e método eletrodeposição de uma camada de cromo escuro em uma peça de trabalho | |
| GB2144769A (en) | Zinc and zinc alloy electroplating | |
| US2693444A (en) | Electrodeposition of chromium and alloys thereof | |
| SE443162B (sv) | Sett att bilda en i huvudsak svart nickelbeleggning pa ett underlag jemte bad herfor | |
| KR900000283B1 (ko) | Zn-Ni합금도금 강판의 제조방법 | |
| US1969553A (en) | Electrolyte for the deposition of | |
| US4159926A (en) | Nickel plating | |
| US3864227A (en) | Method for the electrolytic refining of copper | |
| US4141803A (en) | Method and composition for electroplating chromium and its alloys and the method of manufacture of the composition | |
| CN106835212A (zh) | 一种无氰电镀纳米晶铜用电镀液及其使用方法 | |
| SE448637B (sv) | Sett och bad for utfellning av ett glanszinkskikt pa ett substrat | |
| US4466865A (en) | Trivalent chromium electroplating process | |
| US4016051A (en) | Additives for bright plating nickel, cobalt and nickel-cobalt alloys | |
| IT8148564A1 (it) | Composizione di bagno e metodo per elettrodepositare leghe di cobalto-zinco simulanti una placcatura di cromo | |
| US3943040A (en) | Microcracked chromium from a bath using an organic sulfur compound | |
| US4411744A (en) | Bath and process for high speed nickel electroplating | |
| CA1142876A (en) | Electrodeposition of nickel-iron alloys | |
| US3984291A (en) | Electrodeposition of tin-lead alloys and compositions therefor | |
| CA1180677A (en) | Bath and process for high speed nickel electroplating | |
| SE447137B (sv) | Galvaniseringsbad for avsettning av svart nickelbeleggning | |
| US3215610A (en) | Method and bath for electrodepositing bright silver | |
| GB2086940A (en) | Composition and Process for High Speed Electrodeposition of Silver | |
| US3287236A (en) | Electrodeposition of copper and solutions therefor | |
| US4428804A (en) | High speed bright silver electroplating bath and process | |
| CA1116121A (en) | Cyanide-free zinc plating bath and process |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| NUG | Patent has lapsed |
Ref document number: 8004321-9 Effective date: 19880318 Format of ref document f/p: F |