SE521284C2 - Aluminiumoxidbelagt skärverktyg för metallbearbetning - Google Patents
Aluminiumoxidbelagt skärverktyg för metallbearbetningInfo
- Publication number
- SE521284C2 SE521284C2 SE9901823A SE9901823A SE521284C2 SE 521284 C2 SE521284 C2 SE 521284C2 SE 9901823 A SE9901823 A SE 9901823A SE 9901823 A SE9901823 A SE 9901823A SE 521284 C2 SE521284 C2 SE 521284C2
- Authority
- SE
- Sweden
- Prior art keywords
- hkl
- electrodes
- substrate
- plasma
- coating
- Prior art date
Links
- 238000005555 metalworking Methods 0.000 title claims description 3
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 18
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 16
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 11
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims abstract description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract 2
- 230000011514 reflex Effects 0.000 claims description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 4
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 claims description 3
- 239000000376 reactant Substances 0.000 claims description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 3
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 claims description 2
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 2
- 238000002447 crystallographic data Methods 0.000 claims description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 238000003754 machining Methods 0.000 abstract 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 8
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910010037 TiAlN Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000000678 plasma activation Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/009—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/50—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials
- C04B41/5025—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials with ceramic materials
- C04B41/5031—Alumina
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/52—Multiple coating or impregnating multiple coating or impregnating with the same composition or with compositions only differing in the concentration of the constituents, is classified as single coating or impregnation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
- C04B41/81—Coating or impregnation
- C04B41/85—Coating or impregnation with inorganic materials
- C04B41/87—Ceramics
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
- C04B41/81—Coating or impregnation
- C04B41/89—Coating or impregnation for obtaining at least two superposed coatings having different compositions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/40—Oxides
- C23C16/403—Oxides of aluminium, magnesium or beryllium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/50—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
- C23C16/515—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges using pulsed discharges
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C30/00—Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process
- C23C30/005—Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process on hard metal substrates
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
- Y10T428/263—Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
- Y10T428/264—Up to 3 mils
- Y10T428/265—1 mil or less
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
W U 20 25 30 35 521 284 2 Fig 1 visar frekvens, positiv och negativ pulsamplitud, posi- tiv och negativ puls på/av-tid.
Enligt föreliggande uppfinning föreligger ett skärverktyg för metallbearbetning omfattande ett substrat och en beläggning, var- vid substratet omfattar en kropp bestående av minst 80 vol-% ku- bisk bornitrid utan hårdmetallstöd och beläggningen omfattar åt- minstone ett tunt skikt av aluminiumoxid. Aluminiumoxidskiktet består väsentligen av y-aluminiumoxid, praktiskt taget fritt från sprickor, med en kornstorlek mellan 5 och 200 nm och en tjocklek av 1-15 pm med signifikanta röntgendiffraktionsreflexer från åt- (440) och (400) Det har en hårdhet av åtminstone 20 GPa och en kompressiv spänning av åtminstone 1 minstone ett av kristallplanen.
GPa och en föredragen tillväxtorientering i [440]-riktningen med en texturkoefficient TC¿1,5 definierad av I(hkl) Ä I(hkl) -1 Tfihkl) = 10mm) {n å :oufklfl där I(hkl) = uppmätt intensitet av (hkl)-reflexen IO(hkl) = standardintensitet från ASTM standardpulverdiffrak- tionsdata n = antal reflexer använda i beräkningen och (hkl) reflexer (111), (311), (222), (400) (440). Skiktet ut- fälls med en plasmaaktiverad CVD-metod i vilken plasmat framställs som används är: och av en bipolär, pulsad DC-spänning lagd mellan två elektroder eller två uppsättningar av elektroder i vilka substratkropparna, som skall beläggas, är fästa och elektriskt förbundna, och elektroder- na eller uppsättningarna av elektroder omväxlande verkar som anod och katod. De kemiska reaktanterna är AlCl3, H2 och Ar tillsammans med en syre-donator O2, CO2, CO eller N20. Pulsfrekvensen är mel- lan 5 och 100 kHz, företrädesvis mellan 8 och 20 kHz, pulsampli- tuderna 300 till 1000 V, företrädesvis 600 till 900 V och sub- företrädesvis 550 till 650 OC. y-Al2O3-skiktet ger skäreggarna på verktyget en ytterst jämn strattemperaturen 500 till 800 OC, ytfinhet vilket leder till en bättre ytfinish av arbetsstycket som bearbetas. Den mycket fina ytfinheten kan tillskrivas den mycket fina kristalliniteten av beläggningen. "y-Al2O3"-skiktet kan även delvis innehålla andra faser från "y-serien" såsom 9, Ö och q.
Identifikation av y- och/eller 6-faserna i Al2O3-skikt enligt upp- W U 20 25 30 35 40 521 284 3 finningen kan företrädesvis göras med röntgendiffraktion. Reflexer från (400) och (440) plan av y-Al2O3-skiktet vid 26-vinklarna 45,80 och 66,80 med användning av CuKd-strålning, identifierar entydigt (222), (200) och (311) plan av y-fa- sen kan någon gång identifieras. När y-fasen föreligger i Al2O3- y-fasen. Svagare reflexer från skiktet enligt uppfinningen, identifieras sagda fas med reflexer (200, 20-2) En ytterligare förbättring i skärprestanda kan förväntas om från planen. eggarna av det y-Al2O3-belagda verktyget enligt uppfinningen be- handlas med en mild våt-blästringsprocess eller med eggborstning med borstar baserade på t ex SiC som beskrivs i US 5,86l,2l0.
Den totala beläggningstjockleken enligt föreliggande uppfin- ning varierar mellan 0,5 och 20 um, företrädesvis mellan 1 och 15 pm med tjockleken av de icke-Al2O3-skikten varierande mellan 0,1 och 10 um, företrädesvis mellan 0,5 och 5 pm. Den finkorniga y- Al2O3-beläggningen kan även utfällas direkt ovanpå CBN-verktyget, och tjockleken av sagda y-Al2O3 varierar då mellan 0,5 och 15 pm företrädesvis mellan 1 och 10 pm. Likaledes kan ytterligare be- läggningar av metallnitrider och/eller karbider med metallelemen- tet valt från Ti, Nb, Hf, V, Ta, Mo, Zr, Cr, W och Al utfällas på Al2O3-skiktet. y-Al2O3-skiktet utfälls med en plasmaaktivering av en reak- tionsblandning av de kemiska reaktanterna AlC13, H2 och Ar till- sammans med en syre-donator O2, C02, CO och N20. Företrädesvis är syredonatorn O2. Plasmat framställs genom att lägga på en bipolär, pulsad DC-spänning över två elektroder eller tvâ uppsättningar av elektroder på vilka substratkropparna, som skall beläggas, är fästa och elektriskt förbundna. Alternativt fungerar reaktorväggen som en elektrod. De två elektroderna eller två uppsättningarna av elektroder verkar omväxlande som anod och katod. Ändringen i spän- ningspulsen lagd pà elektroderna mellan positiv och negativ poten- tial har flera fördelar. För det första kommer under den negativa pulsperioden den icke önskvärda uppbyggda elektronladdningen på icke-ledande ytor att bli urladdad under den positiva pulsperioden och genom att välja en tillräckligt hög frekvens, >5 kHz, för den bipolära, pulsade DC-spänningen, kan arcing elimineras. Detta kom- mer att tillåta stabila, långa beläggningstider. För det andra om ingen paus mellan de positiva och negativa pulserna tillåts, kom- mer plasmat att ständigt vara aktiverat vilket resulterar i en högre beläggningshastighet jämfört med tidigare kända unipolära, 10 15 20 25 30 521 284 pulsade DC-spänningstekniker. En ytterligare fördel med metoden är att tillväxthastigheten för beläggningen är praktiskt taget kon- stant på alla ytor såsom eggar, hörn och plana ytor av kroppen ut- satta för beläggning. Bipolär, pulsad DC-spänning PA-CVD kan även framgångsrikt användas för beläggning med icke-isolerande belägg- ningar såsom TiC, TiN, TiCN och TiAlN, eller andra karbider och/eller nitrider med metallelementet valt från Nb, Hf, V, Ta, Mo, Zr, Cr, och W.
För att uppnå optimal beläggningskvalitet och tillväxthastig- het vid användning av den bipolära, pulsade DC-spänningstekniken kan frekvens, pulsamplitud, positiv och negativ puls på/av-tid va- rieras som illustreras i Fig. 1. En frekvens i området 5-100 kHz kan användas, företrädesvis 8-20 kHz. ras mellan 300 och 1000 V, företrädesvis mellan 600 och 900 V, och Pulsamplituderna kan varie- den negativa och positiva pulsens på-tid såväl som den negativa och positiva pulsens av-tid (nollpotential) inom perioden T av den pulsade DC-spänningen kan även varieras för att modifiera belägg- ningens egenskaper och stabiliteten hos processen. Nedan följer definitionerna av parametrarna P+, P-, t+, t-, A+ och A-: Puls på tid positiv = P+ Puls på tid negativ = P- t+ Puls av tid negativ II ll Fi' I Puls av tid positiv Positiv pulsamplitud = A+ Negativ pulsamplitud = A- där P- 2 P+ 2 0,1 P-, företrädesvis 0,5 P- 2 P+ Z 0,1 P-, och där även P- 2 0,lT.
Den negativa och positiva puls av tiden skall väljas större eller lika med noll d v s t- 2 0 och t+ Z 0. Amplituden A+ är vä- sentligen lika stor som amplituden A-.
Följande gassammansättning, processtryck och substrattempera- tur kan användas: W Ü 521 284 Möjligt intervall Föredraget intervall Alcl3 o,1-2 % o,2-o,4 % 02 o,1-3,9 % o,1-2,o % H2 25-95 % vo-so % Ar 5-75 % 20-30 % o2/A1cl3-kvoc >1,5 1,5-2,5 Processtryck: 0,05-1 kPa 0,1-0,4 kPa Substrat- temperatur: 500-800 OC 600-700 OC Det ligger inom fackmannens kompetensområde att fastställa om den nödvändiga kornstorleken och fassammansättningen har erhållits och att modifiera beläggningsbetingelserna i enlighet med förelig- gande beskrivning, om önskat, för att påverka strukturen av Al2O3- beläggningen inom ramen för uppfinningen.
Claims (1)
1. Skärverktyg för metallbearbetning omfattande ett substrat och en beläggning, varvid substratet omfattar en kropp bestående av mer än 80 vol-% kubisk bornitrid utan hårdmetallstöd och beläggningen omfattar ett eller flera skikt av refraktära föreningar av vilka åtminstone ett består av finkornig, kristallin aluminiumoxid, k ä n n e t e c k n a t av att aluminiumoxidskiktet väsentligen består av y-aluminiumoxid med en kornstorlek mellan 5 och 200 nm och en tjocklek av 1-15 pm med signifikanta röntgendiffraktionsreflexer från åtminstone ett av (440) och (400) kristallplanen, med en hårdhet av åtminstone 20 GPa och en kompressiv spänning av åtminstone 1 GPa och med en föredragen tillväxtorientering i [440]-riktningen med en texturkoefficient 31,5 definierad av I(hkl) 1 I(hkl) -1 TC(hkl) = íaí (5 Z-Iíríffl där I(hkl) = uppmätt intensitet av (hkl)-reflexen IO(hkl) = standardintensitet från ASTM standardpulverdiffrak- tionsdata n = antal reflexer använda i beräkningen och (hkl) reflexer (111), (311), (222), (400) (440) varvid skiktet utfällts med en plasmaaktiverad CVD-metod i som används är: och vilken plasmat framställs av en bipolär, pulsad DC-spänning lagd mellan två elektroder eller två uppsättningar av elektroder i vilka substratkropparna, som skall beläggas, är fästa och elektriskt förbundna, och elektroderna eller uppsättningarna av elektroder omväxlande verkar som anod och katod, att de kemiska reaktanterna är AlCl3, H2 och Ar tillsammans med en syre-donator 02, C02, CO eller N20, att pulsfrekvensen är mellan 5 och 100 kHz, företrädesvis mellan 8 och 20 kHz, att pulsamplituderna är 300 till 1000 V, företrädesvis 600 till 900 V och att substrattemperaturen är 500 till 800 OC, företrädesvis 550 till 650 OC.
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| SE9901823A SE521284C2 (sv) | 1999-05-19 | 1999-05-19 | Aluminiumoxidbelagt skärverktyg för metallbearbetning |
| EP00931856A EP1198612A1 (en) | 1999-05-19 | 2000-05-16 | Al2O3 COATED CUTTING TOOL |
| JP2000618523A JP2002543997A (ja) | 1999-05-19 | 2000-05-16 | Ａｌ２Ｏ３でコーティングされた切削工具 |
| PCT/SE2000/000974 WO2000070120A1 (en) | 1999-05-19 | 2000-05-16 | Al2O3 COATED CUTTING TOOL |
| US09/572,309 US6382951B1 (en) | 1999-05-19 | 2000-05-18 | Al2O3 coated cutting tool |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| SE9901823A SE521284C2 (sv) | 1999-05-19 | 1999-05-19 | Aluminiumoxidbelagt skärverktyg för metallbearbetning |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| SE9901823D0 SE9901823D0 (sv) | 1999-05-19 |
| SE9901823L SE9901823L (sv) | 2000-11-20 |
| SE521284C2 true SE521284C2 (sv) | 2003-10-21 |
Family
ID=20415659
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| SE9901823A SE521284C2 (sv) | 1999-05-19 | 1999-05-19 | Aluminiumoxidbelagt skärverktyg för metallbearbetning |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6382951B1 (sv) |
| EP (1) | EP1198612A1 (sv) |
| JP (1) | JP2002543997A (sv) |
| SE (1) | SE521284C2 (sv) |
| WO (1) | WO2000070120A1 (sv) |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6988858B2 (en) | 2001-02-28 | 2006-01-24 | Kennametal Inc. | Oxidation-resistant cutting assembly |
| EP2865784A1 (en) | 2002-08-08 | 2015-04-29 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho (Kobe Steel, Ltd.) | Process for producing alumina coating composed mainly of alpha-type crystal structure |
| JP2007283478A (ja) * | 2006-03-24 | 2007-11-01 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 表面被覆切削工具 |
| DE102008013965A1 (de) * | 2008-03-12 | 2009-09-17 | Kennametal Inc. | Hartstoffbeschichteter Körper |
| DE102008013966A1 (de) | 2008-03-12 | 2009-09-17 | Kennametal Inc. | Hartstoffbeschichteter Körper |
| DE102009028577B4 (de) * | 2009-08-17 | 2012-02-16 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Beschichtete Körper aus Metall, Hartmetall, Cermet, Keramik oder Halbleiterwerkstoff sowie Verfahren zur Beschichtung derartiger Körper |
| WO2012079769A1 (en) | 2010-12-17 | 2012-06-21 | Seco Tools Ab | Coated cubic boron nitride tool for machining applications |
| US9103036B2 (en) | 2013-03-15 | 2015-08-11 | Kennametal Inc. | Hard coatings comprising cubic phase forming compositions |
| DE102013104254A1 (de) * | 2013-04-26 | 2014-10-30 | Walter Ag | Werkzeug mit CVD-Beschichtung |
| US9168664B2 (en) | 2013-08-16 | 2015-10-27 | Kennametal Inc. | Low stress hard coatings and applications thereof |
| US9896767B2 (en) | 2013-08-16 | 2018-02-20 | Kennametal Inc | Low stress hard coatings and applications thereof |
| SG11201604863QA (en) * | 2013-12-27 | 2016-07-28 | Taiko Pharmaceutical Co Ltd | Unit for chlorine dioxide generation and chlorine dioxide generation device |
| DE102014104672A1 (de) * | 2014-04-02 | 2015-10-08 | Kennametal Inc. | Beschichtetes Schneidwerkzeug und Verfahren zu seiner Herstellung |
| CN109112500B (zh) | 2017-06-22 | 2022-01-28 | 肯纳金属公司 | Cvd复合材料耐火涂层及其应用 |
| US11326248B2 (en) * | 2017-11-07 | 2022-05-10 | Walter Ag | PVD process for the deposition of Al2O3 and a coated cutting tool with at least one layer of Al2O3 |
| CN111644627B (zh) * | 2020-06-17 | 2023-06-27 | 郑州锐力超硬材料有限公司 | 一种淬火钢聚晶刀片合成工艺 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5516588A (en) * | 1991-03-27 | 1996-05-14 | Widia Gmbh | Composite body, its use and a process for its production |
| SE9101953D0 (sv) * | 1991-06-25 | 1991-06-25 | Sandvik Ab | A1203 coated sintered body |
| DE4126851A1 (de) * | 1991-08-14 | 1993-02-18 | Krupp Widia Gmbh | Werkzeug mit verschleissfester schneide aus kubischem bornitrid oder polykristallinem kubischem bornitrid, verfahren zu dessen herstellung sowie dessen verwendung |
| US5700551A (en) * | 1994-09-16 | 1997-12-23 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Layered film made of ultrafine particles and a hard composite material for tools possessing the film |
| US5693417A (en) | 1995-05-22 | 1997-12-02 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Forderung Der Angewandten Forschung E.V. | Vacuum-coated compound body and process for its production |
| US5879823A (en) * | 1995-12-12 | 1999-03-09 | Kennametal Inc. | Coated cutting tool |
| SE511211C2 (sv) * | 1996-12-20 | 1999-08-23 | Sandvik Ab | Ett multiskiktbelagt skärverktyg av polykristallin kubisk bornitrid |
| SE520802C2 (sv) * | 1997-11-06 | 2003-08-26 | Sandvik Ab | Skärverktyg belagt med aluminiumoxid och process för dess tillverkning |
| SE517046C2 (sv) | 1997-11-26 | 2002-04-09 | Sandvik Ab | Plasmaaktiverad CVD-metod för beläggning av skärverktyg med finkornig aluminiumoxid |
-
1999
- 1999-05-19 SE SE9901823A patent/SE521284C2/sv not_active IP Right Cessation
-
2000
- 2000-05-16 JP JP2000618523A patent/JP2002543997A/ja active Pending
- 2000-05-16 WO PCT/SE2000/000974 patent/WO2000070120A1/en not_active Ceased
- 2000-05-16 EP EP00931856A patent/EP1198612A1/en not_active Withdrawn
- 2000-05-18 US US09/572,309 patent/US6382951B1/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| SE9901823L (sv) | 2000-11-20 |
| WO2000070120A1 (en) | 2000-11-23 |
| US6382951B1 (en) | 2002-05-07 |
| EP1198612A1 (en) | 2002-04-24 |
| SE9901823D0 (sv) | 1999-05-19 |
| JP2002543997A (ja) | 2002-12-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2210622C2 (ru) | Способ нанесения мелкозернистых покрытий из оксида алюминия на режущие инструменты | |
| US6554971B2 (en) | PVD coated cutting tool and method of its production | |
| US6382951B1 (en) | Al2O3 coated cutting tool | |
| US5693408A (en) | Tool and process for coating a basic tool component | |
| RU2206432C2 (ru) | Режущий инструмент и способ его изготовления | |
| CN101473063B (zh) | 包括氧化铝和/或含钛材料的cvd涂覆方案及其制造方法 | |
| EP0753602B1 (en) | Oxide coated cutting tool | |
| JP2926439B2 (ja) | 非導電性被覆材料で金属基体を被覆する方法 | |
| EP1247789A2 (en) | Alpha-alumina coated cutting tool | |
| SE520795C2 (sv) | Skärverktyg belagt med aluminiumoxid och process för dess tillverkning | |
| US6451180B1 (en) | Method of making a PVD Al2O3 coated cutting tool | |
| CN101426947A (zh) | 涂覆体 | |
| CN1211637A (zh) | 表面上具有涂层的制品 | |
| JP2002543997A5 (sv) | ||
| JP2876130B2 (ja) | 被覆切削工具 | |
| JP2025525028A (ja) | 切削工具の工具部品のコーティング方法 | |
| RU2025105150A (ru) | РЕЖУЩИЙ ИНСТРУМЕНТ С ПОКРЫТИЕМ TiAlN | |
| JPH10140337A (ja) | 硬質被覆層の成膜速度が速い表面被覆切削工具の製造法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| NUG | Patent has lapsed |