SE526044C2 - Ett brytande refraktivt röntgenelement - Google Patents

Ett brytande refraktivt röntgenelement

Info

Publication number
SE526044C2
SE526044C2 SE0300808A SE0300808A SE526044C2 SE 526044 C2 SE526044 C2 SE 526044C2 SE 0300808 A SE0300808 A SE 0300808A SE 0300808 A SE0300808 A SE 0300808A SE 526044 C2 SE526044 C2 SE 526044C2
Authority
SE
Sweden
Prior art keywords
lens
columns
refracting
length
rays
Prior art date
Application number
SE0300808A
Other languages
English (en)
Other versions
SE0300808L (sv
SE0300808D0 (sv
Inventor
Bjoern Cederstroem
Original Assignee
Sectra Mamea Ab
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sectra Mamea Ab filed Critical Sectra Mamea Ab
Priority to SE0300808A priority Critical patent/SE526044C2/sv
Publication of SE0300808D0 publication Critical patent/SE0300808D0/sv
Priority to DE602004030555T priority patent/DE602004030555D1/de
Priority to JP2006507976A priority patent/JP4668899B2/ja
Priority to EP04722490A priority patent/EP1614121B1/en
Priority to PCT/SE2004/000432 priority patent/WO2004084236A1/en
Priority to US10/550,139 priority patent/US7548607B2/en
Priority to AT04722490T priority patent/ATE492022T1/de
Publication of SE0300808L publication Critical patent/SE0300808L/sv
Publication of SE526044C2 publication Critical patent/SE526044C2/sv

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21KHANDLING OF PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K1/00Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
    • G21K1/06Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diffraction, refraction or reflection, e.g. monochromators
    • G21K1/065Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diffraction, refraction or reflection, e.g. monochromators using refraction, e.g. Tomie lenses
    • GPHYSICS
    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21KHANDLING OF PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K1/00Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
    • G21K1/06Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diffraction, refraction or reflection, e.g. monochromators

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • High Energy & Nuclear Physics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Lenses (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
  • X-Ray Techniques (AREA)
  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)

Description

30 F" Û f' __' ___ J kr; .f ... .fw 2 l Fokuseringseffekten av en lins är funktionen av en fasförskjutning av den utgående vågen. Om en cylindrisk våg (=fasförskjutning) skapas, kommer vågen att konvergera till en linjefokus. I en MPL, för en stor del av linsaperturen, är vågen fasförskjuten mycket mer än 21: (eller 360°). Med andra ord kommer strålarna att passera en tjocklek av material större än Zn-förskjutningslängd, som ges av LM =,1/ß (2) .
Denna längd är av storleken 10-100 pm för hårda röntgenstrålar. Å är våglängden.
Kortfattad beskrivning av uppfinningen Föreliggande uppfinningens huvudsakliga ändamål enligt en föredragen utföringsform är att åtgärda ovannämnda begränsning.
Således, reduceras MPL reduceringen. Linsens apertur och intensitetsökning ökar avsevärt, och även diffraktionsbegränsad upplösning förbättras. Detta kommer att lämna vågens fas oförändrad och ändrar inte fokuseringsegenskaperna.
Av dessa skäll, är ett brytande element tillhandahållet enligt ett föredraget utförande av föreliggande uppfinning. Det brytande elementet lämpligt för brytning av röntgenstrålar, innefattar en kropp av låg-Z-material med en första ände anpassad för att mottaga strålar emitterade från en röntgenkälla och en andra ände från vilken strålarna mottagna av den första änden utstrålas. Det brytande element består av kolumner av staplade huvudsakligen identiska prismor. Prismorna är producerade genom avlägsning av material motsvarande en multipel av fasförskjutna längder (Lzn) av en multipel av 2n. Företrädesvis, är en intensitetstransmission av elementet fo) = «==xp(~Xo>/1)= expl- klyll) där X(y) är den totala våglängden för en stråle genom elementet, I är en dämpningslängd, k är en konstant och y är avståndet mellan optiska axlar. En effektiv apertur definieras av: 2 D_sa1F -Åtanól 10 15 20 25 där F är brännvidden, ö är minskning av en real del av en brytningsindex, l är en dämpningslängd och 6 är en sidovinkel av prisman. En aperturminskningsfaktor (AIF) definieras medelst: A1F=3_2._f@ß__ Lhtanø där Om är ett effektivvärde för bredden av MPL apertur, Lg, är 2n- förskjutningslängd, and 6 är en sidovinkel av prisman.
Mest fördelaktig, består elementet av en eller flera av kisel eller diamant.
Enligt ett föredraget utförande kontrolleras en brännvidd med en avböjningslängd (yg) av en ände av elementet med hänsyn till den infallande strålen.
Uppfinningen avser även en lins lämpligt för brytning av röntgenstrålar, innefattande en kropp av låg-Z-material med en första ände anpassad för att mottaga strålar emitterade från en röntgenkälla och en andra ände från vilken strålarna mottagna av den första änden utstrålas. Linsen består av två kolumner av staplade huvudsakligen identiska prismor anordnade i en vinkel relativ varandra.
Prismorna är producerade genom avlägsning av material motsvarande en multipel av fasföiskjutna längder (Lzn) av en multipel av 2n. Kolumner är förskjutna relativ varandra. I ett utförande är kolumnerna roterade relativ varandra. Kolumnerna kan anordnas i serie.
Uppfinningen avser även en röntgenapparat innefattande åtminstone en röntgenkälla och en detektoruppsättning och dessutom innefattande ett brytande element innefattande ovan egenskaper. 10 15 20 25 30 Uppfinningen avser även en röntgenapparat innefattande åtminstone en röntgenkälla och en detektoruppsättning och dessutom innefattande en lins med ovannämnda egenskaper.
Uppfinningen avser även en metod för tillverkning av ett element med ovannämnda egenskaper, vilken metod innefattar: tillhandahållande av ett element bestående av prismamönster genom litografi och efterföljande djupetsning i kisel. Metoden innefattar dessutom användning av nämnda element som moduler för kemlskförångningsdeponering av diamant.
Uppfinningen avser även en metod för minskning av absorption i multiprismalinser, vilken metod innefattar avlägsning av material endast resulterande i fasförskjutning av en multipel av 21:.
Kortfattad beskrivning av ritningar I det följande kommer uppfinningen att beskrivas på ett icke begränsande sätt med hänvisning till bifogade ritningar, i vilka: Fig. 1 visar en schematisk tvärsnittsvy av en lös geometri av ett element, enligt ett utföringsexempel av uppfinningen, Fig. 2 visar en schematisk sidovy av den kompakta geometrin av ett brytande element, enligt ett fördraget utföringsexempel av uppfinningen, Fig. 3 visar en schematisk sidovy av ett linselement, enligt ett fördraget utföringsexempel av uppfinningen, Fig. 4 visar ett diagram illustrerande en linstransmission, enligt ett utföringsexempel av uppfinningen, Fig. 5 visar ett diagram illustrerande en andra linstransmission, enligt ett utföringsexempel av uppfinningen, 10 15 20 25 30 35 Fig. 6a och 6b illustrerar ett specialfall av MPL med minimerad absorption, Fig. 7 visar ett diagram illustrerande en linstransmission och medeltransmission som funktion av en fysisk linsapertur, enligt ett specíalfall av uppfinningen, Fig. 8 visar en mycket schematisk frontvy av en röntgenapparat som använder en lins enligt föreliggande uppfinning, och Fig. 9 visar en mycket schematisk perspektivisk vy av två seriellt ordnade brytande element enligt en utföringsform av föreliggande uppfinning.
Detaljerad beskrivning av utföringsexemplen Den grundläggande iden är att avlägsna material som motsvarar en multipel av L2,,, företrädesvis bestående av ett låg-Z-material. Således reduceras absorptionen av MPL genom avlägsnande av material som endast resulterar i fasförskjutning av en multipel av L2,,. Således kan absorptionen reduceras avsevärt och således aperturen ökas. Detta är analogt med konceptet enligt Fresnel-linser. Noteras bör att den föreslagna linsen kommer fortfarande att bestå av strukturer med endast plana ytor. Även brännvidden kan fortfarande ändras mekaniskt genom att variera vinkeln mellan linsen och strålriktningen (a).
Beakta först följande struktur i vilken en kanal 11 är framställd genom en prisma 10 med brädden av 21: förskjutningslängd (b), som visas schematisk i Fig. la.
Ytterliggare kanaler 11b med bredden av multiplar av 21: förskjutningslängd (m.b) kan framställas tills linsen har en trappstegsprofil på insidan.
Ett bättre sätt vore att packa en ihålig prisma 20 till en kolumn av identiskt små prismor 21, illustrerade i Fig. 2, som visar en föredragen utförtingsform av ett brytande element enligt uppfinningens första aspekt.
En lins 30 enligt en andra aspekt av uppfinningen illustreras i Fig. 3. Linsen består av två brytande element 20, som visas i Fig. 2. Linsen är utformad genom att ordna de brytande elementen kant i kant vid ena änden och kanterna skilda vid den andra änden, således formande en huvudsakligen triangelformad lins. Strålar 35a GOIQGO I n nosen: 10 15 20 25 30 infallande på en gavel, d.v.s. kant i kant änden av elementen, brytes och strålar 35b fokuseras vid den skilda kanten. Företrädesvis kontrolleras brännvidden medelst yg.
Följande definitioner och geometriska relationer gäller vid beaktande av element 20 i Fig. 2: =y_@ 1; i vilken 6 är vinkeln mellan en triangelformad prismas sidor, h är höjden av en tanl9=2ïh, ya=M-h, L=N-b, a (3) triangelformad prisma, b är basens bredd av en triangelformad prisma, yg är lutningshöjden av kolumnen, ya är kolumnens höjd, M är antalet prismor i höjdriktningen, L är längden av kolumnen, N är antalet prismor i längdriktningen och u är kolumnens lutningsvinkel.
Beräkning av den projicerade /insprofi/en Fasvillkoren är b = »LU = mus, (4) där n är ett heltal; i följande antages att n=1, ö är reduceringen av real delen av brytningsindexen and Å är våglängden.
Materialets tjocklek i den första kolumnen i en lateralposition y är: x( y) = mod(2 y/ tan 0, b), (5) där mod() är resten av divisionen.
Nästa kolumn kommer att placeras en distans 8y=ba (u kan vara liten) och i den i:te kolumnen (med början vid 0) är förflyttningen i-öy. En inkommande stråle, parallell med optiska axlar, kommer att gå genom en materialtjocklek i den izte kolumnen som ges av xl=x=m<>dlïi+âyÄbj <6) tanl9 och den totala vävlängden är 10 15 \.J....~J 7 X (y) = (Mfâšc), (y) = divï6y)mod( , b) (7) .
Låt oss skriva y=(j+t)öy, därj är ett tal och O st < 1.
X(y)=:mod(t:n% (j+t-i),b) (8) . _ f Zåy . _ _ . _2_§_y_ .
X(;,f)_š[tm9(1+z) b alvítanâ(l+f,b)n (9) X(j,t) = šÉä-[flj +1)+ 2(j HM-bgdiví-t-š-nâlßfi + t,b)) (10) Småskalig variation Den första termen är en välkänd term för en multiprisma lins. Avvikelsen från en parabel med spets i y=-öy/2 är ä! ¿X(j,:)=f,j[(j+r+1/2)2 -j(j+1)-2(j+1)f]= ía-nâL9[1/4+f(f-1)] (11).
Den konstanta fasförskjutningen kan försummas och beräkna det effektiva awikelsevärdet över segmentet, ây l ll2 åy mi) =-- 120-924: =----=L,_°-'_< < >f :anøU Jñmnø 2 Meine 2 för alla rimliga värden. Parabolisk approximation ger 2 2 Xouwåjz ïïyfanfšï, (13) och brännvidden är: R F=_=c*ïytanl9:batanl9=/1atan«9, (14). å 26 26 252 10 15 20 25 t Ö I, (I J' oc: 000 0 F' ",' ': ._ __ .J e, l' ' ' ' ' ' z o o 0 u nano g 0 :too .rucc- a 8 Eftersom den andra termen i ekvation (10) inte kan ändra vågens fas (annat än i m-Zn), kommer den inte att påverka fokuserlngen.
Storskalig profil Genom att studera termen vid introduktion av y genom b=y-2öy/tan l9. åy X'(j,t)=bÉdiV(i+t,7)=bÉdiV(i,}/)ß (j: +j-)j). (15) ,~=0 ,»=0 tanß Resultatet är: ây . btanâ X =X -X' =-- =--_- , 16 (y) 0(y) (y) men MF y () och eftersom b=L2,,= Å/ö. Ätanß X = - šk- 17 (y) 4621,, y y () y borde ersättas med y-l för heltal. I de flesta situationer är y relativt stort i vilket fall ett mer fel kan erhållas.
Transmission och förstärkning Intensitetstransmissionen är ny) = exp(- X(y)/1)= exp(- k|y|1) (1 s) och den effektiva aparturen '° zl åzlF D = lexpß k|y|1)a5» = í = :im 9. (19).
För multiprisma linsen har vi ~ ~ J i' =i"=§ * .- .° .=s"§ 9 DMPL = VZno-abS = 421: -JålF. (20) Aperturminskningsfaktorn (AIF) är D 3/2 l AIF=--=3.2-å--lí, (21) WL Åtanß 5 eller, kanske bättre uttryckt AIF = 3.2 (22) LM tanâ Genom att använda material såsom, t.ex. diamant, ger vid 20 KeV med F= 0,3 m, 10 AIF= 4,5/tan 6.
Det finns ett beroende mellan materialet och energin: - Genom att antaga låg energi, så att Compton-spridningen kan försummas: 2 2 -4 -l -3.2 3 15 pocšloc _êfïï_ (23) - Genom att antaga hög energi, så att fotonabsorptionen kan försummas: 621 2E-4 -l D m _ = PTJL = å, (24) där p är densiteten och Z = atomnummer. 20 Således är detta tydligt med intressanta resultat: - Materialdensíteten spelar roll, vilket inte gäller för MPL.
- Beroendet av atomnumret är större än det för MPL. 10 15 20 25 r-n/ ni-i ... ï , I \J h- »J sl 10 - Det existerar ingen optimal energi. Aperturen (ökning) uppnår en platå för låga energier.
Dessa faktorer i kombination gör diamanten 15 gånger bättre än t.ex. kisei (Si) vid 20 KeV. För MPL kommer förhållandet att vara mindre än 3.
Fig. 4 visar linstransmissioner för en lins med reducerad absorption och en normal MPL för jämförelse. Si används som Iinsmaterial, med F=83 cm vid 40 KeV. Från vänster till höger i diagrammen varierar tan 6 med 0,2, 0,5 och 1 givet AIF 5,1, 2,5 respektive 1,4.
Fig. 5 illustrerar linstransmission för lins med reducerad absorption och en normal MPL som jämförelse. Linsen är tillverkad av diamant med F=27 cm vid 20KeV. Från vänster till höger i diagrammen varierar tan 6 med 0,2, 0,5 och 1 givet AIF 11,3, 7,9 respektive 5,0.
I det följande undersökes ett specialfall med y=1. Detta betyder att närliggande kolumner skiftas exakt en prisma, som ger X(y),=o = 0. Se illustrerade lins i Fig. 6a och 6b. Fig. 6a visar en riktig lins och Fig. 6b strålabsorptionsprofilen.
Från ovan härlett uttryck, framgår det: a Lz, (25) Jñ-:anezzw/a-o' (mo), = Lz, Fasfelet för rms är a, = fr/ «/3_0 och lntensitetsreduktionsfaktorn (IRF) är IRF = exppaf) = expwfi 30) = 0.72. (26) Således reduceras intensiteten med 28% jämförd med en perfekt parabolisk lins.
Användning av 2a=tan 6 ger tocca- 10 15 20 Ffi”. ll _ batan6_ Lhtanzâ _ Åtanzß F 25 46 46 2 (27).
I denna energiordning är det en faktisk bra approximation att taga s = 2 - m* pE-Z (28) om p och E uttryckes i g/cm3 respektive keV. Genom att använda )\=12.4 Å/E, blir resultatet: _ -io 2 a 2 F_12.41o mn emfljmmqz :an e _____.._ 29 4-4-10-20215* p2 ( ) För en diamant, vid t.ex. 15 keV, F=2.1 m-tanz 6, och om tan 6= 1/4 så F=13 cm.
Således kan ändamålsenliga brännvidden uppnås med resonabla värden på 6.
För detta speciella fall kan profilen ges som X(j,t)=t(j+1)L2”, (30) och transmissionen Tggf) = exp(- :(1 +1)L,,, u) (31) Medelvärde över t ger m) z Ill -exix-(f +1>L2, /1>l_ LM m) Summering över linsapertur ger den effektiva aperturen 10 15 20 Ö f-“l 1 ' :... :q.': o. oo:š . zoo: on.: .oo: :no-å 12 D = ayznj) = oo. (33). j=i Följaktligen tillhandahålles en lins med en oändlig apertur. Detta är av liten praktisk betydelse dock, eftersom summan ökar mycket långsamt för stora j.
Låt oss byta variabler genom j=q-l/L2n. Detta är en bra approximation att ta "Wfl-i-ex _' 1 -z 1 D(q)=¿» Z ifllwsïifrqn)=-ianø1n(q+1). (34) f=l J Lz” Lz» 2 l 2y D a =--ln--”-+1tan6. 35 (y ) 2 (I m 9 J ( ) Naturligtvis D(ya)-> ya, ya -+ 0.
Transmission och medeltransmission som en funktion av fysisk linsapertur beskriven medelst dimensionslös parameter q illustreras i Fig. 7. Detta gäller endast det speciella fallet y=1.
Antag följande q=10. Kanske är det mer användbart att se hur D beror av F. Efter lite beräkning erhålles D = ZäJF/l. (36) Sedan är förstärkningen (F << 50): D G = 0.94- s" . (37) d F 0 Det brytande elementet och linsen enligt uppfinningen kan tillverkas på olika sätt.
Enligt ett föredraget utföringsexempel är det möjligt att utforma dessa strukturer medelst standard litografisk mönstring och efterföljande djupetsning i kisel. Dessa 10 15 20 I I f' Ö v' FW z... :...: z 00.: ' :nog Inna .ooz gon: :,'nš - ^ - - - g I c o I I w .__ J LJ š..'š.::. .zz :øq:øa:.: g ' ..o"o| : g o n n 0 9 linser kan sedan användas som form för kemisk stoftdeposition av diamant. För bästa resultat borde vinkeln 9 så lite som processen tillåter.
Linsen enligt den föredragna utföringsformen av Uppfinningen kan användas i en röntgenapparat 86 som visas schematiskt i Fig. 8, innefattande en röntgenkälla, linsen 80 (kombinerad brytande element) och en detektorenhet 87. Självklart kan apparaten bestå av en uppsättning av brytande element eller linser och linserna kan anordnas i olika positioner i strålvägen. Detektoruppsättningen kan vara vilken av en film, en halvledardetektor, gas detektor o.s.v.
Alla ovan beräkningar avser användning av endast en linshalva, d.v.s. ett brytande element. Självklart, såsom för MPL kan två halvor användas för att fördubbla aperturen och intensiteten. Dessa linser fokuserar endast i en riktning. Två linser kan användas för att forma en punktfokus om den ena roteras, t.ex. 90 grader kring dess optiska axel. Fig. 9 visar två brytande element 90a och 90b anordnade förskjutna från varandra i serie. Element 90a fokuserar strålar 95 horisontellt och element 90b är anordnad att fokusera vertikalt.
Uppfinningen är inte begränsad till de visade utföringsexemplen, utan kan varieras på olika sätt utan att avlägsnas från de bifogade kravens skyddsomfång, och anordningen och metoden kan implementeras på olika sätt beroende av applikation, funktionella enheter, behov, krav och så vidare.

Claims (1)

1. 0 15 20 25 30 lLl PATENTKRAV Ett brytande element (10, 20) lämpligt för brytning av röntgenstrålar, vilket element innefattar en kropp av låg-Z-material med en första ände anpassad för att mottaga strålar emitterade från en röntgenkälla och en andra ände från vilken nämnda strålar mottagna av den första änden utstrålas, kännetecknat därav, att nämnda brytande element består av kolumner av staplade, huvudsakligen identiska prismor (21). . Element enligt krav 1, vari nämnda prismor är framställda genom avlägsning av material motsvarande en multipel av fasförskjutna längder (Lzn) av en multipel av 2n. . Element enligt något av föregående krav, vari en intensitetstransmission av elementet är m) = exp(- X(y) fl) = exp(- klyll) där X(y) är den totala våglängden för en stråle genom elementet, I är en dämpningslängd, k är en konstant och y är avståndet mellan optiska axlar. . Element enligt något av föregående krav, vari en effektiv apertur definieras av: z D = 86 IF ..._í_: Åtanâ där F är brännvidden, ö är minskning av en real del av en brytningsindex, l är en dämpningslängd och 6 är en sidovinkel av prisman. Element enligt något av föregående krav, vari en aperturminskningsfaktor (AIF) definieras medelst: A11==3.2-_%- Lhranø där Om är ett effektivvärde för bredden av MPL apertur, Lz, är 21:- förskjutningslängd, and 6 är en sidovinkel av prisman. 6. Element enligt något av föregående krav, vari elementet materialet består av en eller flera av kisel eller diamant. 10 15 20 25 30 7. 10. 11. 12. 13. 14. rn; nr» v._.~.«! v l§ Element enligt något av föregående krav, vari en brännvidd kontrolleras med en avböjnlngslängd (yg) av en ände av elementet med hänsyn till den infallande strålen. En lins (30) lämpligt för brytning av röntgenstrålar, vilken lins innefattar en kropp av låg-Z-material med en första ände anpassad för att mottaga strålar emitterade från en röntgenkälla och en andra ände från vilken strålarna mottagna av den första änden utstrålas, kännetecknad därav, att nämnda lins består av två kolumner av staplade huvudsakligen identiska prismor (21) anordnade i en vinkel relativ varandra. Lins enligt krav 8, vari nämnda prismor är producerade genom avlägsning av material motsvarande en multipel av fasförskjutna längder (Lzn) av en multipel av 2n. Lins enligt krav 8, vari nämnda kolumner är förskjutna relativ varandra. Lins enligt krav 10, vari nämnda kolumner är roterade relativ varandra. Lins enligt krav 10, vari nämnda kolumner är anordnade i serie. En röntgenapparat (86) innefattande åtminstone en röntgenkälla (87) och en detektoruppsättning (88) och dessutom innefattande ett brytande element enligt något av kraven 1-7. En röntgenapparat (86) innefattande åtminstone en röntgenkälla (87) och en detektoruppsättning (88) och dessutom innefattande en llns enligt något av kraven 8-12. r-nf nfzu \ _.. \. ... '~..' i lb . 15. En metod för tillverkning av ett element enligt något av kraven 1-7, vilken metod innefattar: tillhandahållande av ett element bestående av prismamönster genom litografl och efterföljande djupetsning i kisel. 16. Metod enligt krav 15, dessutom innefattande användning av nämnda element 5 som moduler för kemiskförångningsdeponering av diamant. 17. En metod för minskning av absorption i multiprismalinser, vilken metod innefattar avlägsning av material endast resulterande i fasförskjutning av en multipel av 21:. 10
SE0300808A 2003-03-21 2003-03-21 Ett brytande refraktivt röntgenelement SE526044C2 (sv)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SE0300808A SE526044C2 (sv) 2003-03-21 2003-03-21 Ett brytande refraktivt röntgenelement
DE602004030555T DE602004030555D1 (de) 2003-03-21 2004-03-22 Beugungs-röntgenelement
JP2006507976A JP4668899B2 (ja) 2003-03-21 2004-03-22 屈折型x線エレメント
EP04722490A EP1614121B1 (en) 2003-03-21 2004-03-22 A refractive x-ray element
PCT/SE2004/000432 WO2004084236A1 (en) 2003-03-21 2004-03-22 A refractive x-ray element
US10/550,139 US7548607B2 (en) 2003-03-21 2004-03-22 Refractive x-ray element
AT04722490T ATE492022T1 (de) 2003-03-21 2004-03-22 Beugungs-röntgenelement

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SE0300808A SE526044C2 (sv) 2003-03-21 2003-03-21 Ett brytande refraktivt röntgenelement

Publications (3)

Publication Number Publication Date
SE0300808D0 SE0300808D0 (sv) 2003-03-21
SE0300808L SE0300808L (sv) 2004-09-22
SE526044C2 true SE526044C2 (sv) 2005-06-21

Family

ID=20290768

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SE0300808A SE526044C2 (sv) 2003-03-21 2003-03-21 Ett brytande refraktivt röntgenelement

Country Status (7)

Country Link
US (1) US7548607B2 (sv)
EP (1) EP1614121B1 (sv)
JP (1) JP4668899B2 (sv)
AT (1) ATE492022T1 (sv)
DE (1) DE602004030555D1 (sv)
SE (1) SE526044C2 (sv)
WO (1) WO2004084236A1 (sv)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1947478A3 (en) 2006-12-01 2015-01-07 Mats Danielsson New system and method for imaging using radio-labeled substances, especially suitable for studying of biological processes
US7742574B2 (en) * 2008-04-11 2010-06-22 Mats Danielsson Approach and device for focusing x-rays
DE102009031476B4 (de) * 2009-07-01 2017-06-01 Baden-Württemberg Stiftung Ggmbh Röntgenrolllinse
RU2572045C2 (ru) * 2013-12-03 2015-12-27 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт ядерной физики им. Г.И. Будкера Сибирского отделения РАН (ИЯФ СО РАН) Преломляющая рентгеновская линза

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4350410A (en) * 1980-10-08 1982-09-21 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Multiprism collimator
JPS63111500A (ja) * 1986-10-29 1988-05-16 株式会社日立製作所 X線用多層膜反射鏡およびそれを用いた装置
US6389105B1 (en) * 1995-06-23 2002-05-14 Science Applications International Corporation Design and manufacturing approach to the implementation of a microlens-array based scintillation conversion screen
US6215920B1 (en) * 1997-06-10 2001-04-10 The University Of British Columbia Electrophoretic, high index and phase transition control of total internal reflection in high efficiency variable reflectivity image displays
US6091798A (en) * 1997-09-23 2000-07-18 The Regents Of The University Of California Compound refractive X-ray lens
SE514223C2 (sv) * 1999-05-25 2001-01-22 Mamea Imaging Ab En brytande röntgenanordning
JP4567261B2 (ja) * 1999-07-19 2010-10-20 セクトラ マメア エービー X線用屈折装置、屈折型x線レンズ、該レンズを製作する方法、該レンズを含むx線の2次元合焦用x線システム、該レンズを使用したx線の2次元合焦を提供する方法
SE514569C2 (sv) 1999-08-13 2001-03-12 Cetus Innovation Ab Drivanordning för hydroakustiska sändare samt användning av anordningen för sändning av hydroakustiska vågor i en vätska
US6570710B1 (en) * 1999-11-12 2003-05-27 Reflexite Corporation Subwavelength optical microstructure light collimating films

Also Published As

Publication number Publication date
SE0300808L (sv) 2004-09-22
US7548607B2 (en) 2009-06-16
ATE492022T1 (de) 2011-01-15
EP1614121A1 (en) 2006-01-11
DE602004030555D1 (de) 2011-01-27
EP1614121B1 (en) 2010-12-15
WO2004084236A1 (en) 2004-09-30
JP2006520911A (ja) 2006-09-14
SE0300808D0 (sv) 2003-03-21
JP4668899B2 (ja) 2011-04-13
US20060256919A1 (en) 2006-11-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5175755A (en) Use of a kumakhov lens for x-ray lithography
JP2013539063A (ja) ナノ光学屈折光学部品
WO2015039705A1 (en) Multilayer mirror
US20200124957A1 (en) Photomask having reflective layer with non-reflective regions
US12040152B2 (en) X-ray radiation source system and method for design of the same
Dhez et al. Instrumental aspects of x-ray microbeams in the range above 1 keV
WO2016083487A1 (de) Spiegel, insbesondere kollektorspiegel für mikrolithografie
US20190049634A1 (en) Materials, components, and methods for use with extreme ultraviolet radiation in lithography and other applications
Seiboth et al. Hard x-ray nanofocusing by refractive lenses of constant thickness
SE526044C2 (sv) Ett brytande refraktivt röntgenelement
Macrander et al. Synchrotron X-ray optics
Utsumi et al. Large-area x-ray lithography system for LIGA process operating in wide energy range of synchrotron radiation
Olynick et al. 25nm mechanically buttressed high aspect ratio zone plates: Fabrication and performance
KR20260002775A (ko) X선 집속 및 파장 선택
Smith et al. Sign reversal of the atomic scattering factor and grazing-incidence transmission at x-ray-absorption edges
Kearney et al. Materials for multilayer x-ray optics at wavelengths below 100 A
Zimmer Multi-mirror imaging optics for low-loss transport of divergent neutron beams and tailored wavelength spectra
Cotroneo et al. Optimization of the reflecting coatings for the New Hard X-ray Mission
US10436722B2 (en) Positive/negative phase shift bimetallic zone plate
WO2020142302A1 (en) Boron-based capping layers for euv optics
Tamura et al. Development of supermirror telescope up to 80 keV
Parfeniukas et al. High-aspect ratio zone plate fabrication for hard x-ray nanoimaging
Xu et al. Normal incidence multilayer mirrors for the wavelength range 2· 3 to 4· 6 nm
Olsen et al. High-frequency limit of bremsstrahlung
Hambach et al. High aperture diffractive x-ray and extreme ultraviolet optical elements for microscopy and lithography applications