SE527019C2 - Implantat för applicering i käkben - Google Patents

Description

'25 30 527 019 Det kan härvid hänvisas till att det genom uppfinningen föreslagna bryter mot fördomar inom det dentala området. Så t.ex. har man hitintills föreslagit att ytan ifråga skall underkastas noggrann bearbetning och/eller polering för att man skall förhindra angrepp från och hålla rent mot bakterier och organismer. Denna bearbetning och/eller polering kan i sig motverka integrationsresultatet. Att förse ytan ifråga med t.ex. mikrogängor medför att en inkörsport ' till bakterieangrepp och bakterienedträngning till implantatets i käkbenet befintliga djupare delar kan skapas, vilket ger upphov till risker för ifrågavarande benresorption.

Det som huvudsakligen kan anses vara kännetecknande för ett implantat enligt uppfinningen är att den mot mj ukvävnaden angränsande ytan helt eller delvis är utförd eller belagd med ett eller flera på anodisk oxidation baserade porösa ytterskikt anordnat respektive anordnade att dels befrämja integration mellan ytan och mjukvävnaden, dels motverka nedträngning av inflammationsbefrämjande organismer eller bakterier för fortvarigt väsentligt bibehållande av integrationen.

I vidareutvecklingar av uppñnningstanken föreslås att skikt med porer med diametrar om ca l um (mikrometer) eller mindre skall utnyttjas. Så t.ex. kan porer med diametrar om ca 0,5 um utnyttjas. Nämnda utföringsforrner innefattar även att det porösa skiktet på ytan skall uppvisa en tjocklek om högst 5 um, t.ex. en tjocklek om ca 3 um. Den första ytans skikt kan även relationsställas till en porositet som eventuellt föreligger på implantatet i övrigt. Således kan den första ytans porositet vara törminskad i förhållande till den på implantatet i övrigt utnyttjade porositeten och väljas t.ex. inom området 30-40 % av densamma. I ytterligare uttöringsexernpel utnyttjas en förstorad area på implantatets nämnda yta uppbärande del. Den första ytan kan vara belägen helt eller delvis på implantatet och helt eller delvis på en på implantatet eventuellt applicerad del, som kan utgöras av en påbyggnadsdel, distanshylsa, . etc. Efter det att en mindre benresorption, som är svår att undvika, har inträtt skall en kvar- stående integration mellan den första ytan och mjukvävnaden eller bindevävnaden föreligga på en höjdsträckning i implantatet och/eller nämnda eventuella del om l,2-2,0, företrädesvis 1,5-1,8 mm. Ytterligare vidareutvecklingar av uppfinningstanken framgår av de efterföljande underlcaven. al: ä. aa 0000 0 I 0 I t I I in Genom det i ovanstående föreslagna banas ny väg i anslutning till uppbyggnad och använd- ning av implantat i dentala sammanhang. Uppfinningen bryter mot fördomar med avseende på nödvändigheten att en hög grad av ytsläthet måste föreligga och utnyttjar tvärt om medel i fonn av en mindre porositet för att befrämja framträdande integration mellan ytan och mjukvävnaden även i det långa eller fortvariga loppet. l fallet där implantatet i övrigt utnyttjar ytor med porositet för att förbättra förankringen och t.ex. åstadkomma magasin för medel av bentillväxtstimulerande medel m.m. vid implantatets nedanför ytan befintliga delar, kan den tekniska framställningen göras förhållandevis enkel genom att man använder olika blästrings- och/eller etsningsgrader vid implantatets olika partier som skall ha olika grovlekar på porositetema. Den förut kända porositeten som utnyttjas för benangränsande ytor hos implantat som marknadsförs under namnet TiUnite® kan således fortfarande användas och betecknas här som en grövre porositet. För att åstadkomma den nya för den aktuella ytan specifika porositeten utnyttjas en på motsvarande sätt som den kända porositeten åstadkommen porositet som här betecknas TiUnite® Soft, vilken har en porositetsgrad som i ett föredraget utföringsexempel av den grövre porositeten. Genom att reglera spänning, ström, tid och elektrolytsammansättning vid oxideringsprocessen kan man styra ytans porositet och struktur för att på så sätt erhålla en optimal mjukvävnadsintegration. Hela eller delar av nämnda yta kan beläggas med skikt av den lägre porositetsgraden. Uppfinningen fungerar även för fall där implantatet i övrigt, bortsett från hela eller delar av nämnda yta, saknar porositet.

En för närvarande föreslagen utföringsforrn av ett implantat enligt uppfinningen skall beskri- vas i nedanstående under samtidig hänvisning till bifogade ritningar där figur 1 i vertikalsnitt visar ett implantat applicerad i hålupptagning i ett käkben med m jukvävnad eller bindvävnad, figur 2 i dels vertikalsnitt, dels horisontalvy visar en första porositet applicerad på en första yta på implantatet enligt figuren l, 10 15 20 o Û . oo o 0 N) KJ! oo occ- oo nano anno o n n u I c o I o o o n ø a o..o o-o o..n b.o 00.0 O 527 019 n 0 o n nu n o u o o A u u a; 4 figur 3 i vertikalsnitt och horisontalvy visar porositet på en eller flera andra ytor på implantatet, figur 4 i förstoring visar delar av implantatet enligt figuren l, figur 5 i horisontalvy visar ett konstruktivt exempel på den första ytans porositet i 2000 gångers förstoring, och figuró i vertikalsnitt visar ett andra utförande av implantatet applicerat i en hål- upptagning i ett käkben med mjuk- eller bindvävnad.

I figuren l är ett käkbensavsnitt principiellt angivet med l. Ovanför själva käkbenet 3 finns en mjukvävnads- eller bindvävnadsdel 2. I käkbenet är applicerat ett implantat 4 som är anordnat i en hålupptagning 5 i käkbenet. lmplantatet är försett med övre delar 6 som är anordnade vid hålupptagningens mynning 5a. lmplantatet är i föreliggande fall försett med en yta eller ytor 7, samt en eller flera gängor 7a medelst vilka implantatet är iskruvbart i hålupptagningen 5. Nämnda övre delar 6 kan ingå i eller utgöra infástning för en symboliskt angiven protetik 8. Nämnda övre delar 6 uppvisar en yta 9, vilken helt eller delvis är försedd eller anordnad med en porositet l0 som i föreliggande fall är principiellt angiven. I det fall ytan 9 delvis är anordnad med porositet sträcker sig denna företrädesvis över väsentliga delar av ytan. Porositeten kan därvid anordnas i band eller öar runt och/eller längs ytan som därvid sträcker sig perifert. I figuren 1 är en höjdsträclming för samverkningsdelama för vävnaden 2 och ytan 9 angiven med H. Samverkningsdelama är principiellt angivna med ll. Nämnda höjd H är i föreliggande fall l,5-l,8 mm. Genom bevarandet av samverkningsytans ll höjd H förhindras epitelnedväxt och att implantatets övre delar 13 blottlägges. lmplantatet 4 kan vara av det slag som utöver porositeten 10 på ytan 9 även innefattar en eller flera andra porositeter 4a vid sina nämnda yta 9 underliggande delar. Respektive andra porositet är anordningsbar på i och för sig känt sätt med i och för sig känt syfte. 900000 0 Ovans- coon e I I Q I co oo oo a o: Qin nu oc: O OI IIOO OI CDI I O 0 0 O 0 0 0 0 0 O nu 00 011000 u 527 o 19 ~ Iišf- 'f l figuren 2 är ett vertikalsnitt av porositeten 10 angivet med 14 och ett horisontalsnitt av porositeten 10 angivet med 15. I enlighet med uppfinningens idé skall porositetens djup D väljas med ett värde om 5 pm eller mindre, t.ex. 3 pm. Medeldiametem d för porema skall väljas 1 pm eller mindre, t.ex. 0,5 pm.

Figuren 3 visar med 16 ett vertikalsnitt av porositeten 4a och med 17 ett horisontalsnitt av porositeten 7. Porositeten 4a är en grövre porositet i förhållande till porositeten 10. Det kan därvid hänvisas till implantat av de på öppna marknaden av sökanden till innevarande patent- ansökning fórsålda implantatet TiUnite®. Djupet D' kan i föreliggande fall vara 10 pm eller högre. Medelvärdet på diametem d' kan i detta fall vara 2 pm eller högre. l figmren 4 är uppbyggnaden på en utföringsform av imp1antatet4 principiellt visat. Implan- tatets övre delar 6 kan anses innefatta en överdel 6a och en underdel 6b. Denna implantat- uppbyggnad kan tillmötesgå en viss installationsteknik där man önskar kunna avlägsna en del av implantatet under pågående installation och ínläkning. Delen 6a är därvid på- och avtag- ningsbart anordnad till delen 6b. Denna på- och avtagning kan göras på i och för sig känt sätt och skall därför inte beskrivas närmare här. l enlighet med föreliggande uppfinning är det väsentligt att delen 6b kvarblir i sitt från början installerade läge och inte rubbas under den fortsatta installationen och inläkningen. I enlighet med uppfinningen kan således samverk- ningsytoma ll förbli opåverkade under hela installationen. Detta garanterar att en initialt erhållen hög integrationsgrad mellan mjukvävnaden eller bindevävnaden 2 kan föreligga.

Värden på höjdavstånden H respektive h kan på så sätt bibehållas och nämnda blottläggande förhindras. I figuren 4 visas principiellt en mindre ansamling av bakterier och/eller organis- mer med 18. Det inses att nämnda bakterier och/eller organismer är lätt avlägsningsbara från det aktuella utrymmet 19 om ytan 6a är slät och lätt rengöringsbar. Samverkningsytoma ll utgör en effektiv barriär mot nedträngning av bakterier och organismer till implantatets underliggande delar. Utrymmet för eventuell ansamling är angivet med 19.

Figuren 5 avser att visa exempel på en medelst anodisk oxidation åstadkommen porositet avsedd att anordnas på ytan 9 enligt figuren 1. Beträffande pordiametrar och pordjup nu 0 0 I 0 Ola: nu 0009 O O 0 lo nu: upon co c 0 O G 0 I n o n s I o I n. coon oc tone 0 O O 0 0 0 I II IC Il OO ll cl na 5 2 7 Û 1 9 "=f. hänvisas till figuren 2. Figuren visar en förstoringsgrad om 2000 och i figuren 1 är storleken på en sträcka om 10 um angiven.

I figuren 6 är med 10' angiven en yta som är förlängd i förhållande till ytan 10 enligt figuren 1. Implantatets längd är i detta fall visad med L och ytans längd med 1. Ytans 10” längd sammanfaller väsentligt i föreliggande fall med mjukvävnadens 2 tjocklek men kan altema- tivt variera något. I föreliggande fall är samverkningsytoma ll förlängda, medförande att deras höjd H' väsentligen överstiger höjden H i utföringsexemplet enligt figuren 1. I enlighet med utföringsexemplet är ytans längd 1 åtminstone 1/3 av implantatets totala längd L.

Uppfinningen är inte begränsad till den i ovanstående såsom exempel visade utföringsformen utan kan underkastas modifikationer inom ramen för efterföljande patentkrav och uppfin- ningstanken.

I a ønanoo 0 a 'canon

Claims (9)

10 15 20 25 527 019 w PATENTKRAV

1. Implantat (4) avsett för applicering i hâlupptagning (5) i käkben (1) och innefattande och/eller relationsställt till en med käkbenets mjukvävnad (bindvävnad) samverkbar ytteryta (9) som är appliceibar vid hålupptagningens mynning (6), k ä n n e t e c k n a t därav, att den mot mjukvävnaden angränsande ytan helt eller delvis är utförd eller belagd med ett eller flera på anodisk oxidation baserade porösa ytterskikt (10) anordnat respektive anordnade att dels befiämja integration mellan ytan och mjukvâvnaden, dels motverka nedträngning av inflanimationsbefrärnjande organismer eller bakterier för fortvarigt väsentligt bibehållande av integrationen.

2. Implantat enligt patentkravet 1, k ä n n e t e c k n at därav, att det porösa skiktet (10) är anordnat med porer med medeldiametrar (d) om ca 1 pm eller mindre.

3. Implantat enligt patentkravet l eller 2, k ä n n e t e c k n at därav, att det porösa skik- tet (10) uppvisar en tjocklek (D) om högst 5 pm, t.ex. en tjocklek om 3 pm.

4. Implantat enligt patentkravet l, 2 eller 3, k ä n n e t e c k n a t därav, att utöver nänmda yta (9), här kallad första yta, som implantatet uppbär och/eller är relationsställd till, implantatet uppvisar en eller flera andra ytor som är försedda med porositet (7) grövre än den första ytans porositet, och att den första ytans porositet är fönninskad i förhållande till den grövre porositeten och är vald inom området 30-40 % av densamma.

5. Implantat enligt något av föregående patentkrav, k ä n n et e c k n a t därav, att den första ytan (9) uppvisar en framträdande stor area på en övre implantatdel som är upp till 1/3 av implantatets totala längd. 10 15 527 019 r

6. Implantat enligt något av föregående patentkrav, k ä n n e t e c k n a t därav, att den första ytan (9) helt eller delvis är belägen på en till implantatet applicerbar eller i ett stycke med implantatet tillverkad del, t.ex. en påbyggnadsdel (6a), distanshylsa, etc.

7. Implantat enligt något av föregående patentkrav, k ä n n e t e c k n a t därav, att irnplantatet är så anordningsbart i benvävnaden att höjdsträckningen av mjukvävnaden ovan benkanten är 1,2-2,0 mm, företrädesvis 1,5-1,8 mm, för att en kvarstående integration mellan den första ytan (9) och mjukvävnaden (2) skall föreligga och exponering av underliggande implantathylsa undvikas.

8. Implantat enligt något av föregående patentkrav, k ä n n e t e c k n a t därav, att det vid sitt övre/yttre parti uppbär och/eller samverkar med inre och yttre delar (6a, 6b) där den inre delen (6b) uppbär den första ytan (9) med det eller de porösa skikten (10) och den yttre delen (6a) är anordnad temporärt avlägsningsbar under implantatinstallationen.

9. Implantat enligt något av föregående patentlcav, k ä n n e t e c k n a t därav, att det medelst det porösa skiktet på den första ytan (9) medverkar till endast begränsad yttre ben- eller vävnadsresorption (12) vid hålupptagiiingens mynning (Sa).